NL7604708A - Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling.

Info

Publication number
NL7604708A
NL7604708A NL7604708A NL7604708A NL7604708A NL 7604708 A NL7604708 A NL 7604708A NL 7604708 A NL7604708 A NL 7604708A NL 7604708 A NL7604708 A NL 7604708A NL 7604708 A NL7604708 A NL 7604708A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
integrated circuit
integrated
circuit
Prior art date
Application number
NL7604708A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Intel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Intel Corp filed Critical Intel Corp
Publication of NL7604708A publication Critical patent/NL7604708A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Element Separation (AREA)
  • Local Oxidation Of Silicon (AREA)
NL7604708A 1975-05-05 1976-05-04 Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling. NL7604708A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US57503375A 1975-05-05 1975-05-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7604708A true NL7604708A (nl) 1976-11-09

Family

ID=24298658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7604708A NL7604708A (nl) 1975-05-05 1976-05-04 Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling.

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPS51142982A (nl)
DE (1) DE2615441A1 (nl)
FR (1) FR2310634A1 (nl)
NL (1) NL7604708A (nl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1089299B (it) * 1977-01-26 1985-06-18 Mostek Corp Procedimento per fabbricare un dispositivo semiconduttore
JPS55105373A (en) * 1978-12-04 1980-08-12 Mostek Corp Metal oxide semiconductor transistor and method of fabricating same
JPS55143047A (en) * 1979-04-25 1980-11-08 Nec Corp Insulating separation method for semiconductor device
JPS5961069A (ja) * 1982-09-30 1984-04-07 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JPS5976472A (ja) * 1982-10-26 1984-05-01 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
US4508757A (en) * 1982-12-20 1985-04-02 International Business Machines Corporation Method of manufacturing a minimum bird's beak recessed oxide isolation structure

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58190B2 (ja) * 1972-01-27 1983-01-05 日本電気株式会社 ゼツエンゲ−トガタデンカイコウカトランジスタ
IT999786B (it) * 1973-01-15 1976-03-10 Fairchild Camera Instr Co Procedimento per la fabbricazione di transistori a semiconduttore di ossido metallico e prodotto ottenuto con il procedimento
JPS5918872B2 (ja) * 1973-12-07 1984-05-01 日本電気株式会社 絶縁ゲ−ト型電界効果半導体装置の製法

Also Published As

Publication number Publication date
DE2615441A1 (de) 1976-11-18
JPS51142982A (en) 1976-12-08
FR2310634A1 (fr) 1976-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7605657A (nl) Helicopterrotor en werkwijze voor het ver- vaardigen van een constructiedeel hiervan.
NL183244C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elastisch vlies.
NL7610332A (nl) Scheidingsinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7704937A (nl) Werkwijze voor het inkapselen van micro-elektro- nische elementen.
NL7614578A (nl) Werkwijze voor het modificeren van polyvinylideen- fluoride.
NL7613818A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze tabletten.
NL7612458A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een interconnector.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7601881A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van drukvormen.
NL7601048A (nl) Werkwijze voor het epoxideren van alkenen.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7606639A (nl) Geintegreerde logische schakeling en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke schake- ling.
NL7512593A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrode.
NL158026B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling.
NL7803107A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gedrukte bedradingen.
NL7613740A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van draadvormige capillairen.
NL7610851A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van geinte- greerde schakelingen.
NL186933C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugenschakeling van het ladinggekoppelde type.
NL169752C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van briketten.
NL185044C (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7604708A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling.
NL7607126A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van meervoudig getinte tabletten.
NL7604099A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een condensa- tor.
NL7700564A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van glasdraden.
NL7410215A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling.