NL179832C - Werkwijze voor het opbrengen van harde, slijtvaste bekledingen op een onderlaag. - Google Patents

Werkwijze voor het opbrengen van harde, slijtvaste bekledingen op een onderlaag.

Info

Publication number
NL179832C
NL179832C NLAANVRAGE7907163,A NL7907163A NL179832C NL 179832 C NL179832 C NL 179832C NL 7907163 A NL7907163 A NL 7907163A NL 179832 C NL179832 C NL 179832C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
underlay
wear
resistant coatings
applying hard
hard
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7907163,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7907163A (nl
NL179832B (nl
Original Assignee
Balzers Hochvakuum
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers Hochvakuum filed Critical Balzers Hochvakuum
Publication of NL7907163A publication Critical patent/NL7907163A/nl
Publication of NL179832B publication Critical patent/NL179832B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL179832C publication Critical patent/NL179832C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NLAANVRAGE7907163,A 1979-08-02 1979-09-26 Werkwijze voor het opbrengen van harde, slijtvaste bekledingen op een onderlaag. NL179832C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH709279 1979-08-02
CH709279A CH640886A5 (de) 1979-08-02 1979-08-02 Verfahren zum aufbringen harter verschleissfester ueberzuege auf unterlagen.

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7907163A NL7907163A (nl) 1981-02-04
NL179832B NL179832B (nl) 1986-06-16
NL179832C true NL179832C (nl) 1986-11-17

Family

ID=4319807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7907163,A NL179832C (nl) 1979-08-02 1979-09-26 Werkwijze voor het opbrengen van harde, slijtvaste bekledingen op een onderlaag.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4346123A (nl)
JP (1) JPS5658964A (nl)
AT (1) AT369039B (nl)
CH (1) CH640886A5 (nl)
DE (1) DE3027526A1 (nl)
FR (1) FR2463195A1 (nl)
GB (1) GB2055403B (nl)
IT (1) IT1132031B (nl)
NL (1) NL179832C (nl)
SE (1) SE448242B (nl)

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT385058B (de) * 1946-07-17 1988-02-10 Vni Instrument Inst Verfahren zur verfestigung von schneidwerkzeugen
JPS5779169A (en) * 1980-11-06 1982-05-18 Sumitomo Electric Ind Ltd Physical vapor deposition method
US4609564C2 (en) * 1981-02-24 2001-10-09 Masco Vt Inc Method of and apparatus for the coating of a substrate with material electrically transformed into a vapor phase
US4596719A (en) * 1981-02-24 1986-06-24 Wedtech Corp. Multilayer coating method and apparatus
US4351855A (en) * 1981-02-24 1982-09-28 Eduard Pinkhasov Noncrucible method of and apparatus for the vapor deposition of material upon a substrate using voltaic arc in vacuum
US4537794A (en) * 1981-02-24 1985-08-27 Wedtech Corp. Method of coating ceramics
JPS581067A (ja) * 1981-06-26 1983-01-06 Toshiba Corp 装飾用金属窒化物皮膜の形成法
DE3151413A1 (de) * 1981-12-24 1983-07-14 MTU Motoren- und Turbinen-Union München GmbH, 8000 München "schaufel einer stroemungsmaschine, insbesondere gasturbine"
US4407712A (en) * 1982-06-01 1983-10-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Hollow cathode discharge source of metal vapor
GB8405170D0 (en) * 1984-02-28 1984-04-04 Atomic Energy Authority Uk Titanium alloy hip prosthesis
US5096558A (en) * 1984-04-12 1992-03-17 Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh Method and apparatus for evaporating material in vacuum
IL74360A (en) * 1984-05-25 1989-01-31 Wedtech Corp Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase
US4565710A (en) * 1984-06-06 1986-01-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Process for producing carbide coatings
US4568614A (en) * 1984-06-27 1986-02-04 Energy Conversion Devices, Inc. Steel article having a disordered silicon oxide coating thereon and method of preparing the coating
US4490229A (en) * 1984-07-09 1984-12-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Deposition of diamondlike carbon films
US4568396A (en) * 1984-10-03 1986-02-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Wear improvement in titanium alloys by ion implantation
USRE33879E (en) * 1985-01-16 1992-04-14 Hirose Manufacturing Company, Ltd. Rotary hook assembly
JPS61183458A (ja) * 1985-02-08 1986-08-16 Citizen Watch Co Ltd 黒色イオンプレ−テイング膜
JPS62116762A (ja) * 1985-11-15 1987-05-28 Citizen Watch Co Ltd 外装部品の製造方法
CH664377A5 (de) * 1986-01-16 1988-02-29 Balzers Hochvakuum Dekorative schwarze verschleissschutzschicht.
DE3606529A1 (de) * 1986-02-28 1987-09-03 Glyco Metall Werke Verfahren zur herstellung von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken durch aufdampfen mindestens eines metallischen werkstoffes auf ein metallisches substrat
JP2553059B2 (ja) * 1986-12-24 1996-11-13 シチズン時計株式会社 外装部品の製造方法
US4764394A (en) * 1987-01-20 1988-08-16 Wisconsin Alumni Research Foundation Method and apparatus for plasma source ion implantation
US4842710A (en) * 1987-03-23 1989-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Method of making mixed nitride films with at least two metals
ES2022946T5 (es) * 1987-08-26 1996-04-16 Balzers Hochvakuum Procedimiento para la aportacion de capas sobre sustratos.
FR2681472B1 (fr) 1991-09-18 1993-10-29 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication de films minces de materiau semiconducteur.
US5490910A (en) * 1992-03-09 1996-02-13 Tulip Memory Systems, Inc. Circularly symmetric sputtering apparatus with hollow-cathode plasma devices
CH687111A5 (de) * 1992-05-26 1996-09-13 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Erzeugen einer Niederspannungsentladung, Vakuumbehandlungsanlage hierfuer sowie Anwendung des Verfahrens.
US5690796A (en) * 1992-12-23 1997-11-25 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for layer depositions
US5457298A (en) * 1993-07-27 1995-10-10 Tulip Memory Systems, Inc. Coldwall hollow-cathode plasma device for support of gas discharges
FR2748851B1 (fr) * 1996-05-15 1998-08-07 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'une couche mince de materiau semiconducteur
US20070122997A1 (en) 1998-02-19 2007-05-31 Silicon Genesis Corporation Controlled process and resulting device
US6291313B1 (en) 1997-05-12 2001-09-18 Silicon Genesis Corporation Method and device for controlled cleaving process
US6033974A (en) 1997-05-12 2000-03-07 Silicon Genesis Corporation Method for controlled cleaving process
US6162705A (en) * 1997-05-12 2000-12-19 Silicon Genesis Corporation Controlled cleavage process and resulting device using beta annealing
US6027988A (en) * 1997-05-28 2000-02-22 The Regents Of The University Of California Method of separating films from bulk substrates by plasma immersion ion implantation
US6548382B1 (en) * 1997-07-18 2003-04-15 Silicon Genesis Corporation Gettering technique for wafers made using a controlled cleaving process
FR2773261B1 (fr) 1997-12-30 2000-01-28 Commissariat Energie Atomique Procede pour le transfert d'un film mince comportant une etape de creation d'inclusions
SE518134C2 (sv) 1997-12-10 2002-09-03 Sandvik Ab Multiskiktbelagt skärverktyg
US6291326B1 (en) 1998-06-23 2001-09-18 Silicon Genesis Corporation Pre-semiconductor process implant and post-process film separation
US6263941B1 (en) 1999-08-10 2001-07-24 Silicon Genesis Corporation Nozzle for cleaving substrates
US6500732B1 (en) 1999-08-10 2002-12-31 Silicon Genesis Corporation Cleaving process to fabricate multilayered substrates using low implantation doses
WO2001011930A2 (en) 1999-08-10 2001-02-15 Silicon Genesis Corporation A cleaving process to fabricate multilayered substrates using low implantation doses
US6221740B1 (en) 1999-08-10 2001-04-24 Silicon Genesis Corporation Substrate cleaving tool and method
FR2823599B1 (fr) 2001-04-13 2004-12-17 Commissariat Energie Atomique Substrat demomtable a tenue mecanique controlee et procede de realisation
US8187377B2 (en) * 2002-10-04 2012-05-29 Silicon Genesis Corporation Non-contact etch annealing of strained layers
FR2848336B1 (fr) 2002-12-09 2005-10-28 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'une structure contrainte destinee a etre dissociee
FR2856844B1 (fr) 2003-06-24 2006-02-17 Commissariat Energie Atomique Circuit integre sur puce de hautes performances
FR2857953B1 (fr) 2003-07-21 2006-01-13 Commissariat Energie Atomique Structure empilee, et procede pour la fabriquer
FR2861497B1 (fr) 2003-10-28 2006-02-10 Soitec Silicon On Insulator Procede de transfert catastrophique d'une couche fine apres co-implantation
SE529144C2 (sv) * 2005-04-18 2007-05-15 Sandvik Intellectual Property Skär belagt med kompositoxidskikt
KR100620076B1 (ko) * 2005-04-27 2006-09-06 한국과학기술연구원 Ｃ와 ｎ으로 도핑된 박막형 이산화티탄계 광촉매 및 자성물질과 그 제조 방법
FR2889887B1 (fr) 2005-08-16 2007-11-09 Commissariat Energie Atomique Procede de report d'une couche mince sur un support
US8993410B2 (en) 2006-09-08 2015-03-31 Silicon Genesis Corporation Substrate cleaving under controlled stress conditions
US9362439B2 (en) 2008-05-07 2016-06-07 Silicon Genesis Corporation Layer transfer of films utilizing controlled shear region
US7811900B2 (en) 2006-09-08 2010-10-12 Silicon Genesis Corporation Method and structure for fabricating solar cells using a thick layer transfer process
US8293619B2 (en) 2008-08-28 2012-10-23 Silicon Genesis Corporation Layer transfer of films utilizing controlled propagation
US8119226B2 (en) * 2006-10-18 2012-02-21 Sandvik Intellectual Property Ab Coated cutting tool
FR2910179B1 (fr) 2006-12-19 2009-03-13 Commissariat Energie Atomique PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES MINCES DE GaN PAR IMPLANTATION ET RECYCLAGE D'UN SUBSTRAT DE DEPART
FR2925221B1 (fr) 2007-12-17 2010-02-19 Commissariat Energie Atomique Procede de transfert d'une couche mince
US8330126B2 (en) 2008-08-25 2012-12-11 Silicon Genesis Corporation Race track configuration and method for wafering silicon solar substrates
US8329557B2 (en) 2009-05-13 2012-12-11 Silicon Genesis Corporation Techniques for forming thin films by implantation with reduced channeling
FR2947098A1 (fr) 2009-06-18 2010-12-24 Commissariat Energie Atomique Procede de transfert d'une couche mince sur un substrat cible ayant un coefficient de dilatation thermique different de celui de la couche mince

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2129996B1 (nl) * 1971-03-25 1975-01-17 Centre Nat Etd Spatiales
US3988955A (en) * 1972-12-14 1976-11-02 Engel Niels N Coated steel product and process of producing the same
US3900592A (en) * 1973-07-25 1975-08-19 Airco Inc Method for coating a substrate to provide a titanium or zirconium nitride or carbide deposit having a hardness gradient which increases outwardly from the substrate
JPS527831A (en) * 1975-07-09 1977-01-21 Shinko Seiki Process for forming very hard coating on aluminum or aluminum alloy
JPS527879A (en) * 1975-07-09 1977-01-21 Shinko Seiki Kk Method of forming high hardness film on carbon tool steel or alloy too l steel
JPS5240487A (en) * 1975-09-26 1977-03-29 Nobuo Nishida Exterior parts for watch and its process for production
JPS5284136A (en) * 1975-12-30 1977-07-13 Suwa Seikosha Kk Hardened casing components of watch
DE2705225C2 (de) * 1976-06-07 1983-03-24 Nobuo Tokyo Nishida Ornamentteil für Uhren usw.
JPS5485214A (en) * 1977-12-21 1979-07-06 Suwa Seikosha Kk Armor for personal watch
CH619344B (de) * 1977-12-23 Balzers Hochvakuum Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege.

Also Published As

Publication number Publication date
ATA371180A (de) 1982-04-15
IT8023824A0 (it) 1980-07-31
FR2463195A1 (fr) 1981-02-20
SE8005422L (sv) 1981-02-03
AT369039B (de) 1982-11-25
US4346123A (en) 1982-08-24
NL7907163A (nl) 1981-02-04
IT1132031B (it) 1986-06-25
GB2055403B (en) 1983-05-05
NL179832B (nl) 1986-06-16
DE3027526A1 (de) 1981-02-19
DE3027526C2 (nl) 1988-08-04
FR2463195B1 (nl) 1983-03-11
CH640886A5 (de) 1984-01-31
GB2055403A (en) 1981-03-04
JPS5658964A (en) 1981-05-22
SE448242B (sv) 1987-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL179832C (nl) Werkwijze voor het opbrengen van harde, slijtvaste bekledingen op een onderlaag.
NL7710098A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een hard oppervlak op staal.
NL7800002A (nl) Werkwijze voor het alkyleren van aromatische koolwaterstoffen.
NL186455C (nl) Materiaal op siloxanbasis, met dit materiaal beklede voortbrengselen en werkwijze voor het niet-hechtend maken van een oppervlak.
NL7703234A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een boorkop voorzien van harde slijtvaste elementen, als- mede boorkop vervaardigd volgens de werkwijze.
NL189915B (nl) Werkwijze voor het behandelen van een polyvinylideenfluoride-oppervlak.
NL7700322A (nl) Werkwijze voor het opnieuw verwerken van oud-pa- pier.
NL7807366A (nl) Werkwijze en inrichting voor het indetificeren van de vorm, waarop een voorwerp is vervaardigd.
NL7808042A (nl) Werkwijze voor het ethyleren van aromatische verbin- dingen.
NL7610511A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwater- stoffen.
NL7701385A (nl) Werkwijze voor het hydrogeneren van een olie.
NL7904393A (nl) Werkwijze voor het behandelen van oppervlakken.
NL7701599A (nl) Werkwijze voor het chloreren van etheen- polymeren.
NL7612960A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwater- stoffen.
NL7712054A (nl) Werkwijze voor het kraken van koolwaterstoffen.
NL7808218A (nl) Werkwijze voor het dispergeren van pigmenten.
NL173080C (nl) Werkwijze voor het verstevigen van de bodem, alsmede inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL186712C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van reservedrukken.
NL7610510A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwater- stoffen.
NL185460C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een met een oplosmiddel verdunde bekledingssamenstelling, alsmede werkwijze voor het bekleden van produkten met behulp van de desbetreffende bekledingssamenstelling.
NL186248C (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van etheen.
NL7808217A (nl) Werkwijze voor het dispergeren van pigmenten.
NL7804394A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een oppervlakdeklaag op een substraat.
NL7703396A (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van etheen.
NL180503B (nl) Werkwijze voor het stabiliseren van aldehyden.

Legal Events

Date Code Title Description
A1C A request for examination has been filed
DNT Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection

Free format text: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT

A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee