NL179660B - Werkwijze voor het verdampen van materiaal en het daarna neerslaan hiervan op substraten in een opdampinrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het verdampen van materiaal en het daarna neerslaan hiervan op substraten in een opdampinrichting.

Info

Publication number
NL179660B
NL179660B NLAANVRAGE7707659,A NL7707659A NL179660B NL 179660 B NL179660 B NL 179660B NL 7707659 A NL7707659 A NL 7707659A NL 179660 B NL179660 B NL 179660B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
presiding
substrates
vapor device
vaporizing material
vaporizing
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7707659,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7707659A (nl
NL179660C (nl
Original Assignee
Balzers Hochvakuum
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers Hochvakuum filed Critical Balzers Hochvakuum
Publication of NL7707659A publication Critical patent/NL7707659A/nl
Publication of NL179660B publication Critical patent/NL179660B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL179660C publication Critical patent/NL179660C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NLAANVRAGE7707659,A 1977-06-01 1977-07-08 Werkwijze voor het verdampen van materiaal en het daarna neerslaan hiervan op substraten in een opdampinrichting. NL179660C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH668877A CH631743A5 (de) 1977-06-01 1977-06-01 Verfahren zum aufdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage.

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7707659A NL7707659A (nl) 1978-12-05
NL179660B true NL179660B (nl) 1986-05-16
NL179660C NL179660C (nl) 1986-10-16

Family

ID=4313470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7707659,A NL179660C (nl) 1977-06-01 1977-07-08 Werkwijze voor het verdampen van materiaal en het daarna neerslaan hiervan op substraten in een opdampinrichting.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4197175A (nl)
CH (1) CH631743A5 (nl)
DE (1) DE2823876C2 (nl)
FR (1) FR2393079B1 (nl)
GB (1) GB1589160A (nl)
NL (1) NL179660C (nl)

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT385058B (de) * 1946-07-17 1988-02-10 Vni Instrument Inst Verfahren zur verfestigung von schneidwerkzeugen
CH619344B (de) * 1977-12-23 Balzers Hochvakuum Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege.
JPS54146281A (en) * 1978-05-10 1979-11-15 Ulvac Corp Metallizing apparatus by activation reaction
CH641063A5 (de) * 1979-12-06 1984-02-15 Balzers Hochvakuum Verfahren zum ueberziehen eines oberflaechenteiles eines elastischen koerpers mit einer zusammenhaengenden schicht.
JPS5779169A (en) * 1980-11-06 1982-05-18 Sumitomo Electric Ind Ltd Physical vapor deposition method
US4596719A (en) * 1981-02-24 1986-06-24 Wedtech Corp. Multilayer coating method and apparatus
US4537794A (en) * 1981-02-24 1985-08-27 Wedtech Corp. Method of coating ceramics
CH645137A5 (de) * 1981-03-13 1984-09-14 Balzers Hochvakuum Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material unter vakuum.
JPS581067A (ja) * 1981-06-26 1983-01-06 Toshiba Corp 装飾用金属窒化物皮膜の形成法
US4407712A (en) * 1982-06-01 1983-10-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Hollow cathode discharge source of metal vapor
CH658545A5 (de) * 1982-09-10 1986-11-14 Balzers Hochvakuum Verfahren zum gleichmaessigen erwaermen von heizgut in einem vakuumrezipienten.
DE3406953C2 (de) * 1983-04-19 1986-03-13 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Verfahren zum Erwärmen von Heizgut in einem Vakuumrezipienten
US4420386A (en) * 1983-04-22 1983-12-13 White Engineering Corporation Method for pure ion plating using magnetic fields
GB2140040B (en) * 1983-05-09 1986-09-17 Vac Tec Syst Evaporation arc stabilization
US4559121A (en) * 1983-09-12 1985-12-17 Vac-Tec Systems, Inc. Method and apparatus for evaporation arc stabilization for permeable targets
US4622452A (en) * 1983-07-21 1986-11-11 Multi-Arc Vacuum Systems, Inc. Electric arc vapor deposition electrode apparatus
US4559125A (en) * 1983-09-12 1985-12-17 Vac-Tec Systems, Inc. Apparatus for evaporation arc stabilization during the initial clean-up of an arc target
US4556471A (en) * 1983-10-14 1985-12-03 Multi-Arc Vacuum Systems Inc. Physical vapor deposition apparatus
US5096558A (en) * 1984-04-12 1992-03-17 Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh Method and apparatus for evaporating material in vacuum
DE3413891A1 (de) * 1984-04-12 1985-10-17 Horst Dipl.-Phys. Dr. 4270 Dorsten Ehrich Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material in vakuum
JPS6137960A (ja) * 1984-07-28 1986-02-22 Tadanobu Okubo 金属表面加工方法
US4566937A (en) * 1984-10-10 1986-01-28 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Electron beam enhanced surface modification for making highly resolved structures
CH664163A5 (de) * 1985-03-01 1988-02-15 Balzers Hochvakuum Verfahren zum reaktiven aufdampfen von schichten aus oxiden, nitriden, oxynitriden und karbiden.
US4839245A (en) * 1985-09-30 1989-06-13 Union Carbide Corporation Zirconium nitride coated article and method for making same
US4895765A (en) * 1985-09-30 1990-01-23 Union Carbide Corporation Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture
US4929322A (en) * 1985-09-30 1990-05-29 Union Carbide Corporation Apparatus and process for arc vapor depositing a coating in an evacuated chamber
US5084151A (en) * 1985-11-26 1992-01-28 Sorin Biomedica S.P.A. Method and apparatus for forming prosthetic device having a biocompatible carbon film thereon
DE3615361C2 (de) * 1986-05-06 1994-09-01 Santos Pereira Ribeiro Car Dos Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken
DE3863725D1 (de) * 1987-08-26 1991-08-22 Balzers Hochvakuum Verfahren zur aufbringung von schichten auf substraten und vakuumbeschichtungsanlage zur durchfuehrung des verfahrens.
DE3832693A1 (de) * 1988-09-27 1990-03-29 Leybold Ag Vorrichtung zum aufbringen dielektrischer oder metallischer werkstoffe
DE58907191D1 (de) * 1989-02-09 1994-04-14 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Zentrieren eines Elektronenstrahles.
US5234560A (en) * 1989-08-14 1993-08-10 Hauzer Holdings Bv Method and device for sputtering of films
US5246787A (en) * 1989-11-22 1993-09-21 Balzers Aktiengesellschaft Tool or instrument with a wear-resistant hard coating for working or processing organic materials
CH680369A5 (nl) * 1989-11-22 1992-08-14 Balzers Hochvakuum
ATE120807T1 (de) * 1989-11-22 1995-04-15 Balzers Hochvakuum Werkzeug oder instrument mit einer verschleissresistenten hartschicht zum be- oder verarbeiten von organischem material.
EP0430874A1 (de) * 1989-11-22 1991-06-05 Balzers Aktiengesellschaft Gegenstand mit einer Dekorschicht
EP0430873A3 (en) * 1989-11-22 1991-11-06 Balzers Aktiengesellschaft Roller with a friction- and wear-reducing hard coating and process for producing the coating
DE4006457C2 (de) * 1990-03-01 1993-09-30 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Verdampfen von Material in einer Vakuumaufdampfanlage sowie Anlage derselben
US5238546A (en) * 1990-03-01 1993-08-24 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for vaporizing materials by plasma arc discharge
DE4035131C2 (de) * 1990-11-05 1995-09-21 Balzers Hochvakuum Verfahren und Vorrichtung zum gleichmäßigen Erwärmen von Heizgut, insbes. von zu beschichtenden Substraten, in einer Vakuumkammer
US5250779A (en) * 1990-11-05 1993-10-05 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for heating-up a substrate by means of a low voltage arc discharge and variable magnetic field
FR2670218B1 (fr) * 1990-12-06 1993-02-05 Innovatique Sa Procede de traitement de metaux par depot de matiere, et pour la mise en óoeuvre dudit procede.
CA2065581C (en) 1991-04-22 2002-03-12 Andal Corp. Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition
US5490910A (en) * 1992-03-09 1996-02-13 Tulip Memory Systems, Inc. Circularly symmetric sputtering apparatus with hollow-cathode plasma devices
CH687111A5 (de) * 1992-05-26 1996-09-13 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Erzeugen einer Niederspannungsentladung, Vakuumbehandlungsanlage hierfuer sowie Anwendung des Verfahrens.
US5346600A (en) * 1992-08-14 1994-09-13 Hughes Aircraft Company Plasma-enhanced magnetron-sputtered deposition of materials
CA2121266C (en) * 1992-08-14 1998-06-09 Simon K. Nieh Surface preparation and deposition method for titanium nitride onto carbonaceous
DE4396720C1 (de) * 1992-12-23 2003-07-17 Unaxis Balzers Ag Verfahren und Anlage zur Schichtabscheidung und Verwendung der Anlage
EP0616050B1 (de) * 1993-03-16 1997-08-13 Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur Standzeiterhöhung von Werkzeugen und Verschleissschutz-beschichtetes Werkzeug
US5457298A (en) * 1993-07-27 1995-10-10 Tulip Memory Systems, Inc. Coldwall hollow-cathode plasma device for support of gas discharges
DE4336680C2 (de) * 1993-10-27 1998-05-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Elektronenstrahlverdampfen
DE4409761B4 (de) * 1994-03-22 2007-12-27 Vtd Vakuumtechnik Dresden Gmbh Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem Bogenentladungsplasma
US5656091A (en) * 1995-11-02 1997-08-12 Vacuum Plating Technology Corporation Electric arc vapor deposition apparatus and method
DE19623701A1 (de) * 1996-06-14 1997-12-18 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Elektronenstrahlverdampfen
DE19724996C1 (de) * 1997-06-13 1998-09-03 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19725930C2 (de) * 1997-06-16 2002-07-18 Eberhard Moll Gmbh Dr Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung
US6012830A (en) * 1998-06-23 2000-01-11 Valeo Sylvania L.L.C. Light shield for a vehicle headlamp
DE50115410D1 (de) 2000-09-05 2010-05-12 Oerlikon Trading Ag Vakuumanlage mit koppelbarem Werkstückträger
US7033679B2 (en) * 2001-01-25 2006-04-25 Kyocera Optec Co., Ltd. Metal film and metal film-coated member, metal oxide film and metal oxide film-coated member, thin film forming apparatus and thin film forming method for producing metal film and metal oxide film
US7771836B2 (en) * 2005-03-31 2010-08-10 Citizen Holdings Co., Ltd. Golden ornament and process for producing the same
KR101499272B1 (ko) * 2007-05-25 2015-03-05 오를리콘 트레이딩 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐 진공 처리 장치 및 진공 처리 방법
KR101039638B1 (ko) * 2009-08-10 2011-06-09 휴비트 주식회사 치열교정용 브래킷의 표면 코팅 방법
DE102017106985A1 (de) * 2017-03-31 2018-10-04 Technische Hochschule Wildau (Fh) Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH551497A (de) * 1971-10-06 1974-07-15 Balzers Patent Beteilig Ag Anordnung zur zerstaeubung von stoffen mittels einer elektrischen niederspannungsentladung.
FR2218652B1 (nl) * 1973-02-20 1976-09-10 Thomson Csf
US3984581A (en) * 1973-02-28 1976-10-05 Carl Zeiss-Stiftung Method for the production of anti-reflection coatings on optical elements made of transparent organic polymers
CH610013A5 (nl) * 1975-11-19 1979-03-30 Battelle Memorial Institute

Also Published As

Publication number Publication date
FR2393079B1 (fr) 1985-06-14
DE2823876A1 (de) 1979-01-04
NL7707659A (nl) 1978-12-05
FR2393079A1 (fr) 1978-12-29
CH631743A5 (de) 1982-08-31
DE2823876C2 (de) 1984-04-19
US4197175A (en) 1980-04-08
GB1589160A (en) 1981-05-07
NL179660C (nl) 1986-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL179660C (nl) Werkwijze voor het verdampen van materiaal en het daarna neerslaan hiervan op substraten in een opdampinrichting.
NL7700521A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een con- servenblik en inrichting voor de uitvoering van deze werkwijze.
NL7707796A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verspuiten van pesticiden.
NL187760C (nl) Werkwijze voor het in twee fasen persen van een schijf met integrale schoepen aan de omtrek en inrichting voor het toepassen van de werkwijze.
NL7904877A (nl) Inrichting voor het behandelen van een mens op lichaam- dragende ondergrond.
NL7808357A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van gas.
NL7710132A (nl) Werkwijze voor het besturen van een in de ver- zadigingstoestand bedreven transistor en in- richting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7900165A (nl) Werkwijze voor het aftakken en een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7805473A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verstuiven van metaal.
NL7902718A (nl) Werkwijze en inrichting voor het regelen van het ontladingsproces in een kathodeverstuivingsinrichting.
NL173218C (nl) Inrichting voor het met een ionenstraal behandelen van substraten.
NL7807136A (nl) Werkwijze voor bladtransport bij een automatische lees- inrichting en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7702264A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verbinden van velmateriaal.
NL7904226A (nl) Werkwijze voor het contactloos uitvoeren van een potentiaalmeting aan elektronische onderdelen, en een inrichting voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze.
NL7605351A (nl) Werkwijze en inrichting voor het persen van balen.
NL7804191A (nl) Werkwijze voor het binden van de rug van een boekwerk en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7501383A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bevestigen van een vel op een onderlaag.
NL7703992A (nl) Werkwijze voor het verkrijgen van een homogeen chemisch-reaktief systeem en inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL165091B (nl) Inrichting voor het behandelen van een plaatvormig materiaal.
NL179407C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een afdichting in damplanksloten.
NL7702663A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een vloeistof.
NL181218C (nl) Inrichting voor het behandelen van een metaalsmelt met een gas.
NL178487C (nl) Inrichting en werkwijze voor het versproeien van een vloeistof.
NL7604292A (nl) Gecombineerde transport- en vertooninrichting en werkwijze voor het vormen van een vertoon- inrichting.
NL7811987A (nl) Inrichting voor het opbrengen van media in een substraat.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
DNT Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection

Free format text: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT

A85 Still pending on 85-01-01
V4 Lapsed because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 970708