NL176721C - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugeninrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugeninrichting.

Info

Publication number
NL176721C
NL176721C NLAANVRAGE7512828,A NL7512828A NL176721C NL 176721 C NL176721 C NL 176721C NL 7512828 A NL7512828 A NL 7512828A NL 176721 C NL176721 C NL 176721C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
memory device
semiconductor memory
semiconductor
memory
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7512828,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7512828A (nl
NL176721B (nl
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL7512828A publication Critical patent/NL7512828A/xx
Publication of NL176721B publication Critical patent/NL176721B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL176721C publication Critical patent/NL176721C/xx

Links

Classifications

    • H10P14/6309—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/68—Floating-gate IGFETs
    • H10D30/681—Floating-gate IGFETs having only two programming levels
    • H10P14/6322—
    • H10P14/6502—
NLAANVRAGE7512828,A 1974-11-01 1975-10-31 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugeninrichting. NL176721C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12555474A JPS5528232B2 (en:Method) 1974-11-01 1974-11-01

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7512828A NL7512828A (nl) 1976-05-04
NL176721B NL176721B (nl) 1984-12-17
NL176721C true NL176721C (nl) 1985-05-17

Family

ID=14913063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7512828,A NL176721C (nl) 1974-11-01 1975-10-31 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugeninrichting.

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS5528232B2 (en:Method)
DE (1) DE2548903C2 (en:Method)
NL (1) NL176721C (en:Method)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53122374A (en) * 1977-03-31 1978-10-25 Fujitsu Ltd Manufacture for double gate consitution semiconductor device
DE2743422A1 (de) * 1977-09-27 1979-03-29 Siemens Ag Wortweise loeschbarer, nicht fluechtiger speicher in floating-gate-technik
DE2803431A1 (de) * 1978-01-26 1979-08-02 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von mos-transistoren
DE2814052A1 (de) * 1978-03-31 1979-10-11 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von oxidisolationsschichten fuer floating-gate-mos- transistoren, bzw. mos-transistoren mit mindestens zwei polysilicium-elektroden

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA813537A (en) * 1967-10-17 1969-05-20 Joseph H. Scott, Jr. Semiconductor memory device
GB1363190A (en) * 1972-05-31 1974-08-14 Plessey Co Ltd Semiconductor memory device
JPS5330310B2 (en:Method) * 1972-09-13 1978-08-25

Also Published As

Publication number Publication date
NL7512828A (nl) 1976-05-04
DE2548903A1 (de) 1976-05-06
NL176721B (nl) 1984-12-17
JPS5528232B2 (en:Method) 1980-07-26
DE2548903C2 (de) 1984-08-30
JPS5152281A (en:Method) 1976-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL176818C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161302C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL170901C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161305C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL186608C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderinjectie-logicainrichting.
NL186984C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een transistorinrichting.
NL186478C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL163370C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting met een geleiderpatroon.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL185882C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL176416C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een thermo-electrische halfgeleiderinrichting.
NL7506539A (nl) Werkwijze voor het testen van een halfgeleider- geheugenmatrix.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL162789C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7413791A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL161409C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een houder.
NL188668C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL161619C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL163369C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL158022B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7509464A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL188124C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting van het ladinggekoppelde type.
NL186933C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugenschakeling van het ladinggekoppelde type.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL165891C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleider- inrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
A85 Still pending on 85-01-01
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 951031