NL159232B - Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze. - Google Patents
Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze.Info
- Publication number
- NL159232B NL159232B NL6714180.A NL6714180A NL159232B NL 159232 B NL159232 B NL 159232B NL 6714180 A NL6714180 A NL 6714180A NL 159232 B NL159232 B NL 159232B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- procedure
- product
- silicon semiconductor
- forming metal
- metal contacts
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 title 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/482—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
- H01L23/485—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body consisting of layered constructions comprising conductive layers and insulating layers, e.g. planar contacts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66234—Bipolar junction transistors [BJT]
- H01L29/66272—Silicon vertical transistors
- H01L29/66295—Silicon vertical transistors with main current going through the whole silicon substrate, e.g. power bipolar transistor
- H01L29/66303—Silicon vertical transistors with main current going through the whole silicon substrate, e.g. power bipolar transistor with multi-emitter, e.g. interdigitated, multi-cellular or distributed emitter
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
- Y10S438/942—Masking
- Y10S438/948—Radiation resist
- Y10S438/951—Lift-off
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US58993166A | 1966-10-27 | 1966-10-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL6714180A NL6714180A (de) | 1968-04-29 |
NL159232B true NL159232B (nl) | 1979-01-15 |
Family
ID=24360161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL6714180.A NL159232B (nl) | 1966-10-27 | 1967-10-19 | Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3558352A (de) |
BE (1) | BE703102A (de) |
CH (1) | CH485326A (de) |
ES (1) | ES346421A1 (de) |
FR (1) | FR1538798A (de) |
GB (1) | GB1174832A (de) |
NL (1) | NL159232B (de) |
SE (1) | SE334423B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6914593A (de) * | 1969-09-26 | 1971-03-30 | ||
US3604986A (en) * | 1970-03-17 | 1971-09-14 | Bell Telephone Labor Inc | High frequency transistors with shallow emitters |
US3837905A (en) * | 1971-09-22 | 1974-09-24 | Gen Motors Corp | Thermal oxidation of silicon |
CA1053994A (en) * | 1974-07-03 | 1979-05-08 | Amp Incorporated | Sensitization of polyimide polymer for electroless metal deposition |
US4510347A (en) * | 1982-12-06 | 1985-04-09 | Fine Particles Technology Corporation | Formation of narrow conductive paths on a substrate |
-
1966
- 1966-10-27 US US589931A patent/US3558352A/en not_active Expired - Lifetime
-
1967
- 1967-08-25 BE BE703102D patent/BE703102A/xx unknown
- 1967-09-06 FR FR8695A patent/FR1538798A/fr not_active Expired
- 1967-10-02 GB GB44711/67D patent/GB1174832A/en not_active Expired
- 1967-10-19 NL NL6714180.A patent/NL159232B/xx not_active IP Right Cessation
- 1967-10-25 ES ES346421A patent/ES346421A1/es not_active Expired
- 1967-10-27 SE SE14724/67A patent/SE334423B/xx unknown
- 1967-10-27 CH CH1512867A patent/CH485326A/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH485326A (de) | 1970-01-31 |
DE1589975A1 (de) | 1970-04-30 |
SE334423B (de) | 1971-04-26 |
DE1589975B2 (de) | 1975-06-05 |
FR1538798A (fr) | 1968-09-06 |
GB1174832A (en) | 1969-12-17 |
NL6714180A (de) | 1968-04-29 |
US3558352A (en) | 1971-01-26 |
ES346421A1 (es) | 1968-12-16 |
BE703102A (de) | 1968-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL154870B (nl) | Metalen montageband te gebruiken bij de fabricage van halfgeleiderinrichtingen, werkwijze voor het met behulp van deze montageband fabriceren van halfgeleiderinrichtingen en met deze werkwijze verkregen halfgeleiderinrichting. | |
NL160436B (nl) | Halfgeleiderinrichting voor het opwekken en uitzenden van elektromagnetische straling. | |
NL143436B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van draadvormige siliciumcarbide kristallen en voorwerpen geheel of voor een deel bestaande uit deze kristallen. | |
NL143940B (nl) | Werkwijze voor het katalytisch hydrogeneren van een blokcopolymeer, alsmede uit de bereide produkten vervaardigde voorwerpen. | |
NL142711B (nl) | Werkwijze voor het stabiliseren van polycarbonaten tegen de invloed van ultraviolette straling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze. | |
NL172710C (nl) | Halfgeleiderlaser en werkwijze voor het vervaardigen van deze laser. | |
NL153947B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, waarbij een selectief elektrolytisch etsproces wordt toegepast en halfgeleiderinrichting verkregen met toepassing van de werkwijze. | |
NL160680C (nl) | Halfgeleiderinrichting voorzien van een isolerende inkapselbekleding en werkwijze voor het vervaardigen van de halfgeleiderinrichting. | |
NL141029B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een halfgeleiderinrichting en inrichting of stel inrichtingen gevormd volgens deze werkwijze. | |
NL7502844A (nl) | Halfgeleiderinrichting voor het opwekken van incoherente straling, en werkwijze ter ver- vaardiging daarvan. | |
NL154868B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen. | |
NL152116B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL149095B (nl) | Inrichting voor het smeden van werkstukken. | |
NL154062B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling, alsmede geintegreerde halfgeleiderschakeling, vervaardigd met deze werkwijze. | |
NL155663B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL159232B (nl) | Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze. | |
NL139843B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen. | |
NL144776B (nl) | Werkwijze voor het bevestigen van een halfgeleiderlichaam op een gemakkelijk te bevochtigen metaallaag op een keramische drager en met deze werkwijze vervaardigd produkt. | |
NL144777B (nl) | Werkwijze voor het gelijktijdig vervaardigen van een aantal in een halfgeleiderlichaam opgenomen halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderlichaam vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154059B (nl) | Werkwijze voor het etsen van siliciumnitride in aanwezigheid van gedoteerd silicium. | |
NL148411B (nl) | Inrichting voor het onderzoeken van metalen voorwerpen. | |
NL153580B (nl) | Werkwijze voor de bereiding van homopolymeren of copolymeren van propeen en voorwerpen, die geheel of ten dele bestaan uit de aldus bereide homopolymeren of copolymeren. | |
NL143627B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde inrichtingen. | |
NL148086B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een oxymethyleencopolymeer bevattend voorwerp alsmede aldus vervaardigd voorwerp. | |
NL158518B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van blokcopolymeren en daaruit vervaardigde voorwerpen. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee | ||
NL80 | Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent |
Owner name: I B M |