NL1002878C2 - Sputterinrichting. - Google Patents

Description

Korte aanduiding: Sputterinrichting.

De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het door sputteren behandelen, meer in het bijzonder metalliseren van het oppervlak van een met straling bewerkte stralingsgevoelige laag op een schijfvormige infor-5 matiedrager, omvattende een op een vacuümbron aansluitbaar sputtervat met sputterkop, welk vat afsluitbaar is met een aan zijn binnenzijde als oplegsteun voor de te sputteren drager ingericht deksel.

Dergelijke inrichtingen zijn bekend en worden met 10 name toegepast bij de vervaardiging van schijf vormige informatiedragers in de fase, waarin de bijvoorbeeld met een laserstraal bewerkte en/of ontwikkelde straling-gevoelige (fotoresist) laag van een laagje nikkel, zilver of dergelijk metaal moet worden voorzien ter verkrijging 15 van een -zogenaamde "master".

De bekende inrichtingen werken met een sputterkop waarvan het werkzame oppervlak gelijk of groter is dan het te behandelen drageroppervlak, waardoor het vermogen over de sputterkop betrekkelijk groot is.

20 Het sputteren met groot vermogen leidt in de praktijk veelal tot een zodanige binding tussen het nikkel c.g. zilver en de fotoresistlaag, dat in een later stadium de "master" van nikkel c.q. zilver moeilijk van de fotoresistlaag is te scheiden.

25 De uitvinding nu beoogt aan dit bezwaar tegemoet te komen op een wijze die procestechnisch (bijvoorbeeld qua procestijd) past binnen het totaal aan behandelingen c.q. bewerkingen waaraan een substraat bij de vervaardiging van schijfvormige informatiedragers moeten worden onderworpen. 30 Volgens de uitvinding wordt dit doel bereikt met althans één sputterkop, waarvan de effectieve diameter kleiner is dan de helft van de binnendiameter van het sputtervat, welke sputterkop buiten de as van het sputtervat is opgesteld, waarbij het deksel voor het draaibaar 35 ondersteunen van het te sputteren substraat is ingericht en twee bewegingen ten opzichte van het vlak van de 10 0 2 87e 2 openingsrand van het sputtervat kan uitvoeren, en wel een beweging loodrecht op dat vlak tussen een met het substraat naar het inwendige van het vat gekeerde geopende positie en een gesloten positie met het substraat binnen 5 het vat, alsmede een draaibeweging vanuit genoemde geopende positie rond een as die loodrecht op de as van het sputtervat en aan de van dat vat afgekeerde zijde van het deksel is gelegen.

Doordat de inrichting volgens de uitvinding met een 10 in verhouding tot de grootte van het te sputterenoppervlak kleine sputterkop werkt, kan met een betrekkelijk gering vermogen worden volstaan (bijvoorbeeld een vermogen van 50 Watt bij een schijf vormige drager met een diameter van ongeveer 150 mm).

15 Bij de inrichting volgens de uitvinding komen sector vormige gebieden van het ronddraaiende substraat van grotere diameter achtereenvolgens in positie tegenover de sputterkop te liggen.

De inrichting volgens de uitvinding is voorts zeer 20 compact en is bijvoorbeeld in het bijzonder geschikt voor toepassing in een inrichting voor het vervaardigen van schijfvormige informatiedragers welke het onderwerop vormt van een op dezelfde datum ingediende octrooiaanvrage van dezelfde aanvraagster.

25 De uitvinding wordt hieronder aan de hand van de tekening met een uitvoeringsvoorbeeld nader toegelicht.

Fig. 1 is een schematische vertikale doorsnede door de sputterinrichting volgens de uitvinding, met het deksel in de geopende stand en met het te sputteren substraat 30 naar het inwendige van het sputtervat gekeerd; fig. 2 is een doorsnede als weergegeven in fig. 1, met het deksel in de gesloten stand en het te sputteren substraat binnen het sputtervat gelegen en fig. 3 is een doorsnede als weergegeven in fig. 1, 35 doch met het deksel in een over 180° gedraaide stand en het substraat van het sputtervat afgekeerd.

In de tekening zijn met 1 een sputtervat en met 2 een 1002878 3 daarin aanwezige sputterkop aangegeven. De sputterkop 2 heeft een diameter die kleiner is dan de helft van de binnendiameter van het sputtervat. De sputterkop bevindt zich in een excentrische positie. De op het vat 1 aange-5 sloten vacuümleiding en de verdere aansluitingen zijn niet nader weergegeven.

Het sputtervat wordt gedragen door een plaat 3, welke overeenkomt met een trapeziumvormige module-grondplaat, zoals beschreven in de bovengenoemde octrooiaanvrage.

10 Met 4 is het deksel aangegeven, dat aan één kopse zijde voor het draaiend ondersteunen van het te sputteren substraat S is ingericht en daartoe aan de andere (in fig. 1 bovenste) kopse zijde een huis 5 met aandrijfmiddelen draagt.

15 Het deksel 4 met het huis 5 is om een as 6 draaibaar gemonteerd op een slede 7, welke tezamen met het deksel 4 en het huis 5 in de pijlrichting beweegbaar is tussen de geopende en beweegbare stand volgens fig. 1 en de gesloten stand volgens fig. 2.

20 Een draaibeweging over 180° naar de positie volgens fig. 3 is mogelijk vanuit de geopende stand volgens fig.

1.

1002878

Claims (1)

1. Inrichting voor het door sputteren behandelen, meer in het bijzonder metalliseren van het oppervlak van een met straling bewerkte straling-gevoelige laag op een 5 schijfvormige informatiedrager, omvattende een op een vacuümbron aansluitbaar sputtervat met sputterkop, welk vat afsluitbaar is met een aan zijn binnenzijde als opleg» steun voor de te sputteren drager ingericht deksel, gekenmerkt door althans één sputterkop, waarvan de effectieve 10 diameter kleiner is dan de helft van de binnendiameter van het sputtervat, welke sputterkop buiten de as van het sputtervat is opgesteld, waarbij het deksel voor het draaibaar ondersteunen van het te sputteren substraat is ingericht en twee bewegingen ten opzichte van het vlak van 15 de openingsrand van het sputtervat kan uitvoeren, en wel een beweging loodrecht op dat vlak tussen een met het substraat naar het inwendige van het vat gekeerde geopende positie en een gesloten positie met het substraat binnen het vat, alsmede een draaibeweging vanuit genoemde geopen-20 de positie rond een as die loodrecht op de as van het sputtervat en aan de van dat vat af gekeerde zijde van het deksel is gelegen. 1002876