JPH05314540A - スパッタリング装置 - Google Patents
スパッタリング装置Info
- Publication number
- JPH05314540A JPH05314540A JP4143160A JP14316092A JPH05314540A JP H05314540 A JPH05314540 A JP H05314540A JP 4143160 A JP4143160 A JP 4143160A JP 14316092 A JP14316092 A JP 14316092A JP H05314540 A JPH05314540 A JP H05314540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical disk
- substrate holders
- rotating
- substrate holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 自公転スパッタリング装置の長所を維持した
まま、高生産性、低コスト化を達成する事。 【構成】 光ディスク基板を収納する基板ホルダーの多
数を円盤上に配置し、該円盤並びに基板ホルダーをそれ
ぞれ回転可能となした回転機構を有し、該基板ホルダー
上に収納した光ディスク基板を前記回転機構により自公
転させつつ、その表面上へターゲットから該ターゲット
原子を飛散させその薄膜を形成するスパッタリング装置
において、円盤上に配置した基板ホルダーの個数をn、
各一枚の基板ホルダーに収納する光ディスク基板の枚数
をNとするとき、該基板ホルダーの回転ギヤと該円盤の
回転ギヤとのギヤ比Rを以下の式を満足するように構成
したことを特徴とするスパッタリング装置。 n/N×M=R ここでM=1、2、3、・・・の自然数
まま、高生産性、低コスト化を達成する事。 【構成】 光ディスク基板を収納する基板ホルダーの多
数を円盤上に配置し、該円盤並びに基板ホルダーをそれ
ぞれ回転可能となした回転機構を有し、該基板ホルダー
上に収納した光ディスク基板を前記回転機構により自公
転させつつ、その表面上へターゲットから該ターゲット
原子を飛散させその薄膜を形成するスパッタリング装置
において、円盤上に配置した基板ホルダーの個数をn、
各一枚の基板ホルダーに収納する光ディスク基板の枚数
をNとするとき、該基板ホルダーの回転ギヤと該円盤の
回転ギヤとのギヤ比Rを以下の式を満足するように構成
したことを特徴とするスパッタリング装置。 n/N×M=R ここでM=1、2、3、・・・の自然数
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザー光を用いた記録
再生ディスクを製造するためのスパッタリング装置に関
する。
再生ディスクを製造するためのスパッタリング装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、レーザー光を照射して光学式記録
媒体に情報を記録したり、記録された情報を再生したり
する事のできる光学式情報記録再生装置が広く用いられ
ている。これらに使用される光学式記録媒体として、コ
ンパクトディスク(CD)、ビデオディスク(VD)、
追記型光ディスク(WO)、書換可能な光磁気ディスク
(MO)等いわゆる光ディスクが知られている。そして
それらの光ディスク基板上に反射膜、或いは記録膜を形
成する場合、金属元素からなるターゲットから該原子を
飛散させその薄膜を該基板上に形成するスパッタリング
装置がしばしば使用される。ところで当該光ディスク基
板上に反射膜、記録膜、或いは保護膜を形成する場合、
その膜厚の均一化、組成の均一化を図るために、使用さ
れる金属元素からなる材料のターゲットに対向する位置
に回転可能な円盤(パレット)を配置し、該パレット上
には当該光ディスク基板を収納保持する複数の基板ホル
ダーを該ホルダー自身も回転可能に設け、両者の回転に
より、前記ターゲットに対して当該光ディスク基板が自
転と公転とを行ないつつスパッタリングを受け、反射
膜、記録膜、或いは保護膜を作製する、いわゆる自公転
スパッタリング装置が用いられている。この自公転スパ
ッタリング装置はターゲットに対して光ディスク基板を
取り付けた基板ホルダー並びにパレットが回転するため
に、ターゲット径を小さくする事が出来、真空槽もコ
ンパクトとなる、光磁気ディスク記録膜では数種類の
金属元素が用いられるために、組成の均一性を図る事が
出来る、数百オングストローム単位の厚さで均一な製
膜が可能である、といった特長を有している。
媒体に情報を記録したり、記録された情報を再生したり
する事のできる光学式情報記録再生装置が広く用いられ
ている。これらに使用される光学式記録媒体として、コ
ンパクトディスク(CD)、ビデオディスク(VD)、
追記型光ディスク(WO)、書換可能な光磁気ディスク
(MO)等いわゆる光ディスクが知られている。そして
それらの光ディスク基板上に反射膜、或いは記録膜を形
成する場合、金属元素からなるターゲットから該原子を
飛散させその薄膜を該基板上に形成するスパッタリング
装置がしばしば使用される。ところで当該光ディスク基
板上に反射膜、記録膜、或いは保護膜を形成する場合、
その膜厚の均一化、組成の均一化を図るために、使用さ
れる金属元素からなる材料のターゲットに対向する位置
に回転可能な円盤(パレット)を配置し、該パレット上
には当該光ディスク基板を収納保持する複数の基板ホル
ダーを該ホルダー自身も回転可能に設け、両者の回転に
より、前記ターゲットに対して当該光ディスク基板が自
転と公転とを行ないつつスパッタリングを受け、反射
膜、記録膜、或いは保護膜を作製する、いわゆる自公転
スパッタリング装置が用いられている。この自公転スパ
ッタリング装置はターゲットに対して光ディスク基板を
取り付けた基板ホルダー並びにパレットが回転するため
に、ターゲット径を小さくする事が出来、真空槽もコ
ンパクトとなる、光磁気ディスク記録膜では数種類の
金属元素が用いられるために、組成の均一性を図る事が
出来る、数百オングストローム単位の厚さで均一な製
膜が可能である、といった特長を有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし前記スパッタリ
ング装置は前述の優れた点を有しているが、自公転機能
を持たせるためにギア機構等が必要で、回転部が複雑と
なり、回転パレット上に設けられる基板ホルダーの数が
限られ、したがって該基板ホルダーに収納保持する光デ
ィスク基板の枚数が限られることとなる。また自動化に
よるロボットを導入した場合、自公転パレットでは光デ
ィスク基板装脱着時の位置決めが複雑となり短時間での
基板装脱着を行うためには複雑な機構を要する等の欠点
を有している。このため装置自体の価格に比較して生産
性が低くコストの高い事が欠点である。近年、光ディス
クの普及と共に、該光ディスクの高生産性、低コスト化
の要求が著しくなって来ており、自公転スパッタリング
装置の長所を維持したまま、高生産性、低コスト化を達
成する事が望まれている。
ング装置は前述の優れた点を有しているが、自公転機能
を持たせるためにギア機構等が必要で、回転部が複雑と
なり、回転パレット上に設けられる基板ホルダーの数が
限られ、したがって該基板ホルダーに収納保持する光デ
ィスク基板の枚数が限られることとなる。また自動化に
よるロボットを導入した場合、自公転パレットでは光デ
ィスク基板装脱着時の位置決めが複雑となり短時間での
基板装脱着を行うためには複雑な機構を要する等の欠点
を有している。このため装置自体の価格に比較して生産
性が低くコストの高い事が欠点である。近年、光ディス
クの普及と共に、該光ディスクの高生産性、低コスト化
の要求が著しくなって来ており、自公転スパッタリング
装置の長所を維持したまま、高生産性、低コスト化を達
成する事が望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
に望み鋭意検討を加えた結果、自公転スパッタリング装
置により光ディスク基板上に薄膜を作成するにあたり、
その回転可能な円盤(パレット)上に取り付けた(複数
枚の光ディスク基板を収納する)基板ホルダーの回転ギ
ヤとパレットの回転ギヤとのギヤ比(R)を下記式2、
即ちそれを整理した前記の式1(n/N×M=R)で表
される関係に設定したスパッタリング装置を用いれば、
自公転機構の優れた長所を維持したまま高生産性、低コ
スト化が図れる事を見いだした。
に望み鋭意検討を加えた結果、自公転スパッタリング装
置により光ディスク基板上に薄膜を作成するにあたり、
その回転可能な円盤(パレット)上に取り付けた(複数
枚の光ディスク基板を収納する)基板ホルダーの回転ギ
ヤとパレットの回転ギヤとのギヤ比(R)を下記式2、
即ちそれを整理した前記の式1(n/N×M=R)で表
される関係に設定したスパッタリング装置を用いれば、
自公転機構の優れた長所を維持したまま高生産性、低コ
スト化が図れる事を見いだした。
【0005】
【式2】
【0006】すなわち、従来一枚の基板ホルダーに一枚
の光ディスク基板のみを収納し保持していたのを、一枚
の基板ホルダーに複数枚の光ディスク基板を収納し保持
することを可能とした。さらに、前記で示した式を満足
するギヤ比とすれば、自動ロボットに対する光ディスク
基板位置を常に同一とすることを可能となし、これによ
りロボット導入による基板の装脱着自働化が容易となる
ものである。
の光ディスク基板のみを収納し保持していたのを、一枚
の基板ホルダーに複数枚の光ディスク基板を収納し保持
することを可能とした。さらに、前記で示した式を満足
するギヤ比とすれば、自動ロボットに対する光ディスク
基板位置を常に同一とすることを可能となし、これによ
りロボット導入による基板の装脱着自働化が容易となる
ものである。
【0007】
【実施例】以下本発明を図面により説明する。図1は自
公転スパッタリング装置における回転パレットの概略を
示す平面図である。この図例では、ターゲットに対向し
た位置で回転するパレット(1)上に光ディスク基板を
収納保持するための基板ホルダー(2)を4枚設け、こ
の各基板ホルダー(2)には、各々各3枚の光ディスク
基板(3)が取り付けられるようになっている。パレッ
ト(1)の回転中心は(5)、基板ホルダー(2)の回
転中心は(6)である。ターゲットは(4)で表されて
いる。即ち、ここではパレット(1)上に設けた基板ホ
ルダー(2)の枚数n=4、各一枚の基板ホルダー
(2)に収納し保持した光ディスク基板枚数N=3とな
り、これを前記式1(n/N×M=R)にあてはめ、か
つM=1、2、3、・・・をそれぞれ設定すれば、前記
式1のギヤ比Rは、1.33、2.67、4.0、・・・・
・・・となる。即ち、このようなギヤ比となるように構成
すれば本目的を達成する事が出来る。勿論、本図で示さ
れる基板ホルダー数、光ディスク基板数は本発明を説明
するための一例であって、本発明は本図例に限定される
ものではない。
公転スパッタリング装置における回転パレットの概略を
示す平面図である。この図例では、ターゲットに対向し
た位置で回転するパレット(1)上に光ディスク基板を
収納保持するための基板ホルダー(2)を4枚設け、こ
の各基板ホルダー(2)には、各々各3枚の光ディスク
基板(3)が取り付けられるようになっている。パレッ
ト(1)の回転中心は(5)、基板ホルダー(2)の回
転中心は(6)である。ターゲットは(4)で表されて
いる。即ち、ここではパレット(1)上に設けた基板ホ
ルダー(2)の枚数n=4、各一枚の基板ホルダー
(2)に収納し保持した光ディスク基板枚数N=3とな
り、これを前記式1(n/N×M=R)にあてはめ、か
つM=1、2、3、・・・をそれぞれ設定すれば、前記
式1のギヤ比Rは、1.33、2.67、4.0、・・・・
・・・となる。即ち、このようなギヤ比となるように構成
すれば本目的を達成する事が出来る。勿論、本図で示さ
れる基板ホルダー数、光ディスク基板数は本発明を説明
するための一例であって、本発明は本図例に限定される
ものではない。
【0008】
【作用】従来の基板ホルダーの位置に複数枚の光ディス
ク基板を取り付ける事を可能にした事により、パレット
上の基板ホルダー数は変わらず光ディスク基板枚数が増
加した。またパレットが回転することにより基板ホルダ
ーも所定のギヤ比で回転するために、記録膜の膜厚及
び、組成の均一化は従来通り維持される。さらに、パレ
ットと基板ホルダーのギヤ比を限定したために、基板装
脱着ロボットに対して常に一定の位置をとることが出
来、ロボットを使用するために特別な装置を必要としな
い。
ク基板を取り付ける事を可能にした事により、パレット
上の基板ホルダー数は変わらず光ディスク基板枚数が増
加した。またパレットが回転することにより基板ホルダ
ーも所定のギヤ比で回転するために、記録膜の膜厚及
び、組成の均一化は従来通り維持される。さらに、パレ
ットと基板ホルダーのギヤ比を限定したために、基板装
脱着ロボットに対して常に一定の位置をとることが出
来、ロボットを使用するために特別な装置を必要としな
い。
【0009】
【発明の効果】本発明は、回転パレットに複数枚の光デ
ィスク基板を収納できる基板ホルダーを取り付ける事に
より自公転機構を有する生産性の優れたスパッタリング
装置を構成させることができる。
ィスク基板を収納できる基板ホルダーを取り付ける事に
より自公転機構を有する生産性の優れたスパッタリング
装置を構成させることができる。
【図1】本発明における自公転スパッタリング装置にお
ける回転パレットの概略を示す平面図である。
ける回転パレットの概略を示す平面図である。
1 円盤(パレット) 2 基板ホルダー 3 光ディスク基板 4 ターゲット 5 円盤中心軸 6 基板ホルダー中心軸
Claims (1)
- 【請求項1】 光ディスク基板を収納する基板ホルダー
の多数を円盤上に配置し、該円盤並びに基板ホルダーを
それぞれ回転可能となした回転機構を有し、該基板ホル
ダー上に収納した光ディスク基板を前記回転機構により
自公転させつつ、その表面上ヘターゲットから該ターゲ
ット原子を飛散させその薄膜を形成するスパッタリング
装置において、円盤上に配置した基板ホルダーの個数を
n、各一枚の基板ホルダーに収納する光ディスク基板の
枚数をNとするとき、該基板ホルダーの回転ギヤと該円
盤の回転ギヤとのギヤ比Rを以下の式1を満足するよう
に構成したことを特徴とするスパッタリング装置。 n/N×M=R ・・・・・(1) ここでM=1、2、3、・・・の自然数
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4143160A JPH05314540A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | スパッタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4143160A JPH05314540A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | スパッタリング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05314540A true JPH05314540A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=15332317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4143160A Pending JPH05314540A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | スパッタリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05314540A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998050916A1 (en) * | 1997-05-08 | 1998-11-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Device and method for manufacturing an optical recording medium |
CN105420681A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-03-23 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装 |
CN110408904A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-05 | 光驰科技(上海)有限公司 | 一种溅射成膜装置 |
WO2023221572A1 (zh) * | 2022-05-20 | 2023-11-23 | 成都中科卓尔智能科技集团有限公司 | 一种镀膜系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5546056B2 (ja) * | 1972-08-30 | 1980-11-21 | ||
JPH01133320A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Toshiba Mach Co Ltd | 薄膜処理装置 |
JPH0413566A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-17 | Showa Alum Corp | 研磨装置 |
JPH0428860A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Nano Tec Kk | イオンプレーティング装置用回転テーブル |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4143160A patent/JPH05314540A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5546056B2 (ja) * | 1972-08-30 | 1980-11-21 | ||
JPH01133320A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Toshiba Mach Co Ltd | 薄膜処理装置 |
JPH0413566A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-17 | Showa Alum Corp | 研磨装置 |
JPH0428860A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Nano Tec Kk | イオンプレーティング装置用回転テーブル |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998050916A1 (en) * | 1997-05-08 | 1998-11-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Device and method for manufacturing an optical recording medium |
US6340501B1 (en) | 1997-05-08 | 2002-01-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Device and method for manufacturing an optical recording medium |
CN105420681A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-03-23 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装 |
CN110408904A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-05 | 光驰科技(上海)有限公司 | 一种溅射成膜装置 |
WO2023221572A1 (zh) * | 2022-05-20 | 2023-11-23 | 成都中科卓尔智能科技集团有限公司 | 一种镀膜系统 |
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