MXPA05007191A - Metodo de fabricacion de una tela de secado y tela de secado con ventilacion posterior para una estabilidad de hoja mejorada. - Google Patents

Abstract

Un metodo de fabricacion y una tela para maquina papelera o industrial, tal como una tela de secado para la seccion de secado de una maquina papelera,, incluye la aplicacion de un material de resina polimerica sobre locaciones preseleccionadas del reverso de un substrato base usando un arreglo de piezoboquillas que deposita el material de resina polimerica en gotitas que tienen un diametro promedio de 10( (10 micrones) o mas para construir depositos discretos discontinuos del material de resina polimerica teniendo una altura de alrededor de 0.5mm en las locaciones preseleccionadas. Las locaciones preseleccionadas pueden ser nudillos formados por el entretejido de los hilos que forman la tela. El proposito de los depositos es separar el respaldo de la tela de secado de una superficie, tal como la un cilindro de secado o rodillo de volteo, para permitir al aire atrapado entre la tela de secado y la superficie, escapar en las direcciones longitudinal y transversal paralelo a la superficie causando la "caida". El material de resina polimerica se fija por medios apropiados a su composicion y, opcionalmente. Y si es necesario puede ser desbastado para proveer a los depositos con una altura uniforme sobre el plano superficial del substrato base.

Description

MÉTODO DE FABRICACIÓN DE UNA TELA DE SECADO Y TELA DE SECADO CON VENTILACIÓN POSTERIOR PARA UNA ESTABILIDAD DE HOJA MEJORADA.

CAMPO DE LA INVENCIÓN La presente invención se relaciona con las artes de la fabricación de papel. Más específicamente, la presente invención se relaciona con las telas para máquina papelera usadas en la sección de secado de una máquina papelera, y particularmente sobre una sección de secado de carrera sencilla. Tales telas son comúnmente referidas como telas de secado.

ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN Como es bien conocido para aquellos con conocimientos ordinarios en el arte, el proceso de fabricación de papel comienza con el depósito de un lodo fibroso, esto es, una dispersión acuosa de fibras celulósicas, sobre una tela de formado móvil en la sección de formado de una máquina papelera. Una gran cantidad de agua se drena del lodo a través de la tela de formado durante este proceso, dejando a la red fibrosa sobre su superficie.

La red recién formada procede desde la sección de formado a una sección de prensa, que incluye una serie de prensas de pellizco, la red fibrosa pasa a través de las prensas de pellizco soportada por una tela de prensa, o como es frecuente el caso, entre dos telas de prensa. En las prensas de pellizco, la red fibrosa se sujeta a fuerzas compresivas que exprimen agua de la misma, y que adhieren sus fibras constituyentes una a la otra para tornar la red fibrosa en una hoja. El agua exprimida de la red es aceptada por la tela o telas de prensa e idealmente, no regresa a la red.

La red, ahora una hoja, finalmente procede a una sección de secado, que incluye al menos una serie de tambores o cilindros de secado rotatorios, que están calentados internamente por vapor. La hoja misma se dirige en un patrón serpenteante secuencialmente alrededor de cada uno en la serie de tambores por una tela de secado, que mantiene a la red estrechamente contra las superficies de al menos algunos de los tambores. Los tambores calentados reducen el contenido de agua de la hoja a un nivel deseable a través de evaporación.

Debe apreciarse que las telas de formado, prensa y secado todas toman la forma de bucles sinfín sobre la máquina papelera y funcionan a la manera de transportadores . Debe apreciarse además que la fabricación de papel es un proceso continuo que procede a velocidad considerable. Es decir, el lodo fibroso es depositado continuamente sobre la tela de formado en la sección de formado, mientras que una hoja de papel recién formada es enrollada continuamente sobre rodillos a su salida de la sección de secado en el extremo corriente abajo de la máquina papelera.

Refiriéndose ahora, más específicamente a la sección de secado, en la sección de secado, los cilindros de secado pueden arreglarse en un renglón o escalón superior e inferior. Aquellos de arriba están en escalón, más que estar en una relación estrictamente vertical. Conforme la hoja procede a través de la sección de secado, ésta pasa alternativamente entre los escalones superior e inferior conforme pasa alrededor de un cilindro de secado en uno de los dos renglones y luego alrededor de un cilindro de secado e el otro renglón, y así secuenci lmente a través de la sección de secado.

Los escalones superior e inferior de cilindros de secado pueden cada uno estar revestidos con una tela de secado separada. En una situación tal, la hoja de papel que está siendo secada pasa sin soporte a través del espacio, o "bolsillo", entre cada cilindro de secado y el siguiente cilindro de secado en el otro renglón.

En una sección de secado de un escalón, pueden usarse un solo renglón de cilindros a lo junto con un número de cilindros o rodillos de volteo. Los rodillos de volteo pueden ser sólidos o ventilados .

Para incrementar las tasas de producción y minimizar el disturbio a la hoja, las secciones de secado de una corrida se usan para transportar la hoja que está siendo secada a altas velocidades . En una sección de secado de carrera simple, una hoja de papel se transporta por el uso de una sola tela de secado que sigue un patrón serpenteante secuencialmente alrededor de los cilindros en los escalones superior e inferior.

Se apreciará que, en una sección de secado de carrera simple, la tela de secado mantiene a la hoja de papel que está siendo secada directamente contra los cilindros de secado en uno de los dos escalones, típicamente el escalón superior, pero la lleva alrededor de los cilindros de secado en el escalón inferior. La carrera de retorno de la tela es por encima de los cilindros de secado superiores. Por otro lado, algunas secciones de secado de carrera simple tienen la configuración opuesta en que la tela de secado mantiene a la hoja de papel directamente contra los cilindros de secado en el escalón inferior, pero la transporta alrededor de los cilindros superiores. En este caso, la carrera de retorno de la tela es por debajo del escalón inferior de cilindros. En cada caso, se forma una cuña de compresión por el aire portado en la superficie posterior de la tela móvil de secado en el estrecho espacio donde la tela de secado móvil se aproxima a un cilindro de secado. El incremento resultante en la presión del aire en la cuña de compresión causa que el aire fluya hacia afuera a través de la tela de secado. Este flujo de aire, a su vez, fuerza a la hoja de papel fuera de la superficie de la tela de secado, un fenómeno conocido como "calda" . La "caída" puede reducir la calidad del producto de papel que está siendo fabricado al causar roturas en los bordes . La "calda" también puede reducir la eficiencia de la máquina si esta lleva a roturas de la hoja.

Muchas fábricas de papel han dirigido este problema al maquinar ranuras en los cilindros o rodillos de secado o adicionando una fuente de vacío a aquellos rodillos de secado. Ambas soluciones permiten que el aire que de otro modo estarla atrapado en la cuña de compresión sea removido sin pasar a través de la tela de secado, aunque ambas son costosas .

En esta relación, los fabricantes de telas han empleado también la aplicación de recubrimientos a las telas para impartir funcionalidad adicional a la tela, tal como "Métodos de restricción de hoja". La importancia de aplicar recubrimientos como un método para adicionar esta funcionalidad a, por ejemplo, telas de secado, se ha citado por Luciano-Fagerholm (patente de los Estados Unidos No.-5,829,488 (Albany) , titulada "Tela de Secado con Superficie Hidrofílica de Contacto con el Papel") .

Luciano y Fagerholm han demostrado el uso de un tratamiento de superficie hidrofílica de telas para impartir propiedades de mantenimiento de hoja en tanto que se mantiene cercana a la permeabilidad original. Sin embargo, este método de tratamiento de superficies de telas, aunque exitoso en impartir restricción de hoja, se desea hidrofilicidad mejorada y durabilidad del recubrimiento. La patente WO 97/14846 reconoce también la importancia de los métodos de restricción de hoja, y relaciona el uso de materiales de recubrimiento de silicona para cubrir completamente e impregnar una tela, haciéndola substancialmente impermeable. Sin embargo, esta reducción significativa en la permeabilidad es inaceptable para aplicaciones de telas de secado. La restricción de hoja se discute también en la patente de los Estados Unidos No. 5,397,438, que se relaciona a la aplicación de adhesivos en las áreas laterales de las telas para impedir el encogimiento del papel . Otro arte previo relacionado incluye a la patente de los Estados Unidos 5,731,059, que reporta el uso de sellador de silicona únicamente sobre el borde de la tela para protección a altas temperaturas y anti-deshilachado; y la patente de los Estados Unidos 5,787,602 que se relaciona a la aplicación de resinas a los nudillos de la tela. Todas las patentes antes referidas se incorporan a la presente por referencia.

La presente invención es otra aproximación hacia una solución de este problema en la forma de una tela de secado que tiene ventilaciones posteriores que permiten al aire atrapado en una cuña de compresión, escapar sin tener que pasar a través de la tela de secado. La presente invención incluye también un método para fabricar la tela de secado.

BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN De manera acorde, la presente invención se refiere primeramente a una tela de secado, aunque esta puede encontrar aplicación en algunas de las telas usadas en las secciones de formado, prensa y secado de una máquina papelera, y en las telas industriales usadas en la fabricación de telas no tejidas. Como tal, la tela para máquina papelera o industrial comprende un substrato base que toma la forma de un bucle sinfín teniendo un lado de respaldo y un lado de contacto con el papel . Una pluralidad de depósitos discretos discontinuos de material de resina polimérica son dispuestos en locaciones preseleccionadas sobre el respaldo. Estos depósitos tienen una altura, con relación al respaldo, de al menos 0.5mm de manera que ellos pueden separar el respaldo de la superficie de un cilindro de secado o rodillo de volteo por esa cantidad cuando pasa alrededor de él . Los depósitos permiten al aire atrapado entre el respaldo y la superficie del cilindro de secado escapar en ambas direcciones longitudinal y transversal paralelo a la superficie más que a través de la tela para aliviar el problema de "caída" .

Las locaciones preseleccionadas para los depósitos discretos, discontinuos de material de resina polimérica pueden ser los nudillos formados donde los hilos en una dirección de la tela pasan sobre los hilos en la otra dirección. Alternativamente, las locaciones preseleccionadas pueden ser "valles" entre nudillos, una alternativa que lleva la ventaja de unir dos hilos que se intersectan uno con el otro en su punto de cruce. Alternativamente también, las locaciones preseleccionadas pueden ser dos o más nudillos consecutivos alienados en la dirección de la máquina o transversal a la máquina y el valle o valles entre ellos . Cuando las locaciones preseleccionadas están alineadas en la dirección de la máquina, esta alternativa lleva la ventaja de que permite la canalización mejorada del aire. Preferentemente, los depósitos residen solamente en los nudillos o en las superficies posteriores de los hilos, donde no podrían afectar la permeabilidad de la tela. Además, como los depósitos forman un tipo de recubrimiento discontinuo sobre el respaldo, ellos no tienen efecto sobre sus propiedades de doblado o sobre la localización de su eje neutro de doblez. Finalmente, al mejorar la capacidad del respaldo de la tela para manejar el aire de esta manera, más que a través del uso de patrones de tejido elaborados y complicados, para proveer al respaldo de la tela con canales de aire, la estructura de tejido de la tela base usada para el substrato base puede ser provista con otras características, tales como transparencia, que puede dar mayor permeabilidad para mejorar la tasa de secado, y puede ser más simple y menos costoso fabricar y coser.

La presente invención también es un método para fabricar una tela para máquina papelera o industrial, tal como una tela de secado. El método comprende una primer etapa de proveer un substrato base para la tela. - ii - El material de resina polimérica se deposita en las locaciones preseleccionadas sobre el substrato base en gotitas teniendo un diámetro promedio de 10µ (10 micrones) o más para construir depósitos discretos, discontinuos del material de resina polimérica a una altura de al menos 0.5m con relación a la superficie del substrato base. Al menos una piezoboquilla puede usarse para depositar el material de resina polimérica sobre el substrato base, aunque otros medios para depositar gotitas de ese tamaño pueden ser conocidos para aquellos con conocimientos ordinarios en el arte o pueden ser desarrollados en el futuro. El material de resina polimérica se estabiliza o fija luego por medios apropiados .

Las locaciones preseleccionadas pueden, como se establece arriba, ser los nudillos formados en la superficie de la tela por el entretejido de sus hilos.

Subsecuentemente, los depósitos de material de resina polimérica pueden opcionalmente ser desbastados para proveerles con una altura uniforme sobre el plano superficial del substrato base.

La presente invención será descrita ahora en más completo detalle, haciendo referencia frecuente a las figuras identificadas abajo.

BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS La Figura 1 es una vista esquemática de un aparato usado para fabricar telas para máquinas papeleras e industriales de acuerdo con el método de la presente invención.

La Figura 2 es una vista seccional transversal, tomada en la dirección longitudinal, de una tela de secado de la presente invención .

La Figura 3 es una vista seccional transversal de la tela de secado tomada en la dirección transversal de la misma como se indica en la Figura 2.

La Figura 4 es una vista en perspectiva del respaldo de la tela de secado.

La Figura 5 es una vista seccional transversal tomada en una dirección longitudinal, de una modalidad alternativa de la tela de secado.

La Figura 6 es una vista seccional transversal, también tomada en una dirección longitudinal, de aún otra modalidad de la tela de secado.

La Figura 7 es una vista en perspectiva de una variedad de formas representativas del material depositado.

DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LAS MODALIDADES PREFERIDAS El método para fabricar una tela para máquina papelera o industrial de la presente invención- comienza con la provisión de un substrato base. Típicamente el substrato base es una tela tejida a partir de hilos monofilamento . Más ampliamente, sin embargo, el substrato base puede ser una tela tejida, no tejida o anudada comprendiendo hilos de alguna de las variedades usadas en la producción de textiles para máquina papelera o telas industriales usadas para fabricar artículos y telas no tejidas, tales como hilos monofilamento, monof11amento plisado, multifilamento y mul ifilamento plisado. Estos hilos pueden obtenerse por extrusión de alguna de los materiales de resinas poliméricas usados para este propósito por aquellos con conocimientos ordinarios en el arte. De manera acorde, las resinas de las familias de poliamida, poliéster, poliuretano, poliaramida, poliolefina y otras resinas pueden usarse .

Alternativamente, el substrato base puede estar compuesto de telas de malla, tales como aquellas mostradas en la patente de los Estados Unidos No. 4,427,734 comúnmente asignada a Johnson, las enseñanzas de la cual se incorporan a la presente por referencia. El substrato base puede ser adicionalmente una banda ligada en espiral de la variedad mostrada en muchas patentes de los Estados Unidos, tal como la patente de los Estados Unidos No. 4,567,077 para Gauthier, las enseñanzas de la cual se incorporan a la presente por referencia'.

Más aún, el substrato base puede producirse por enrollado en espiral de una tira de tema tejida, no tejida, anudada o de malla, de acuerdo con los métodos mostrados en la patente de los Estados Unidos No. 5,360,656 comúnmente asignada a Rexfelt et al, las enseñanzas de la cual se incorporan a la presente por referencia. El substrato base puede comprender de manera acorde, una tira enrollada espiralmente en donde cada vuelta espiral se une a la siguiente por una costura continua formando el substrato base sinfín en un dirección longitudinal .

Lo anterior no debe considerarse que sean las únicas posibles formas para el substrato base. Cualquiera de las variedades de substrato base usadas por aquellos con conocimientos ordinarios en textiles para máquinas papeleras y artes relacionadas pueden ser usados alternativamente .

Una vez que el substrato base ha sido provisto, se pueden sujetar una o varias capas de colchón de fibra base a uno o ambos lados por métodos bien conocidos para aquellos con conocimientos ordinarios en el arte. Quizá el método mejor conocido y más comúnmente usado es aquel de agujado, en donde las fibras base individuales en el colchón se dirigen hacia el substrato base por una pluralidad de agujas reciprocantes con púas. Alternativamente, las fibras base individuales pueden sujetarse al substrato base por hidroenmarañamiento, en donde finos chorros de agua a alta presión realizan la misma función que las agujas recicprocantes con púas mencionadas arriba. Se reconocerá que una vez que el colchón de fibras base ha sido sujeto al substrato base por alguno de estos u otros métodos conocidos por aquellos con conocimientos ordinarios en el arte, uno podría tener una estructura idéntica a aquella de una tela de prensa de la variedad generalmente usada para desaguar una red húmeda de papel en la sección de prensa de una máquina papelera.

Una vez que el substrato base, con o sin la adición de material de acolchado de fibra base en uno o ambos de sus lados, ha sido provisto, se monta sobre el aparato (10) mostrado esquemáticamente en la Figura 1, de manera que el material de resina polimérica pueda depositarse sobre su respaldo de acuerdo con la presente invención. Debe entenderse que el substrato base puede ser ya sea sinfín o cosible en forma sinfín durante la instalación sobre una máquina papelera. Como tal, el substrato base (12) mostrado en la Figura 1 debiera entenderse que es una porción relativamente corta de la longitud total del substrato base (12) . Donde el substrato base (12) es sinfín, podría ser más practico montarlo sobre un par de rodillos, no ilustrados en la figura pero familiares para aquellos con conocimientos ordinarios en las- artes de textiles para máquinas .papeleras. En una. situación tal, el aparato (10) podría ser dispuesto- en una de las dos carreras, más convenientemente en la carrera superior, del substrato base (12) entre los. dos rodillos. Ya sea sinfín o no, sin embargo, el substrato base (12) es colocado preferentemente, bajo un grado apropiado de tensión durante el proceso. Más aún, para prevenir, el..colgado, el substrato base (12) puede soportarse desde . abajo por un miembro de soporte horizontal conforme se mueva- a través del aparato (10) . Debiera observarse finalmente que, cuando el substrato base (12) es sinfín, puede ..ser necesario invertirlo, esto es, voltearlo de dentro- hacia afuera, seguido de la aplicación de material de resina polimérica de acuerdo con la presente invención para asegurar que el material de resina polimérica resida sobre el lado del respaldo del substrato base (12) .

Más aún, para algunas aplicaciones, puede ser necesario aplicar un patrón de resina al lado de contacto con la hoja. También se prevé que la aplicación de resina para el control del aire se aplicara a ambos lados de la tela, ya sea con el mismo o diferentes patrones.

Con referencia ahora más específicamente a la Figura 1, donde el substrato base (12) se indica como moviéndose en la dirección hacia arriba a través del aparato (10) conforme el método de la presente invención se está llevando a cabo, el aparato (10) comprende una secuencia de varias estaciones a través de las cuales el substrato base (12) puede pasar incrementalmente cuando se está fabricando una tela a partir de él .

Las estaciones se identifican como sigue: 1. estación de depósito del polímero, opcional, (14); 2. estación de depósito preciso de polímero/formación de imágenes, (24) ; 3. estación de estabilización opcional (36); y 4. estación de desbastado opcional (44) .

En la primer estación, la estación opcional de depósito de polímero (14) , un arreglo de piezoboquillas (16) montadas sobre rieles transversales (18), (20) y trasladable sobre ellos en una dirección transversal a aquella del movimiento del substrato base (12) a través del aparato (10) , así como entre ellos en una dirección paralela a aquella del movimiento del substrato base (12), puede usarse para depositar en etapas repetidas para edificar la cantidad deseada de un material de resina polimérica sobre o dentro del substrato base (12) mientras el substrato base (12) está en reposo. La estación opcional de depósito de polímero (14) se puede usar para depositar el material de resina polimérica más uniformemente sobre el substrato base que como podría ser completado usando técnicas convencionales, tales como rociado, si se desea.

El arreglo de piezoboquillas (16) comprende al menos una pero preferentemente una pluralidad de piezoboquillas individuales controladas por computadora, cada una funcionando como una bomba cuyo componente activo es un elemento piezoeléctrico . Como un asunto práctico, se puede utilizar un arreglo de hasta 256 piezoboquillas o más, si la tecnología lo permite. El componente activo es un cristal o cerámico que es deformado físicamente por una señal eléctrica aplicada. Esta deformación permite que el cristal o cerámico funcione como una bomba, que eyecta físicamente una gota de un material líquido cada vez que se recibe una señal eléctrica apropiada. Como tal, este método de usar piezoboquillas para suministrar gotas de un material deseado repetidamente para edificar la cantidad deseada de material en la forma deseada en respuesta a señales eléctricas controladas por computadora se refiere comúnmente como un método de "goteo baj o demanda" .

El grado de precisión de la boquilla al depositar el material dependerá de las dimensiones y forma de la estructura que está siendo formada. El tipo de coquilla usada y la viscosidad del material que está siendo aplicado también impactarán la precisión de la boquilla seleccionada Con referencia nuevamente a la Figura 1, el arreglo de piezoboquillas (16) , iniciando desde un borde del substrato base (12) , o preferentemente, desde un hilo de referencia extendiéndose longitudinalmente en él, se traslada longitudinal y transversalmente a través del substrato base (12) , mientras el substrato base (12) está en reposo, deposita el material de resina polimérica en la forma de gotitas extremadamente pequeñas teniendo un diámetro nominal de 10µ (10 micrones) o más, tal como 50µ (50 micrones) o 100µ (100 micrones) , sobre el substrato base (12) . La traslación del arreglo de piezoboquillas (16) a lo largo y ancho con relación al substrato base (12) , y el depósito de gotitas del material de resina polimérica desde cada piezoboquilla en el arreglo (16) , son controlados de una manera controlada .para aplicar una cantidad deseada del material de resina polimérica en una geometría controlada en tres planos, largo, ancho y profundidad o altura (direcciones o dimensiones x, y, z) y en un área por unidad de la estructura base (12) , si se desea. En adición el depósito de material no necesita ser solamente transversal al movimiento del substrato base sino que puede ser paralelo a tal movimiento, espiral a tal movimiento o de alguna otra manera apropiada para el propósito.

En la presente invención, en que el arreglo de piezoboquillas se usa para depositar un material de resina polimérica sobre o dentro de una superficie del substrato base (12) , la elección del material de resina polimérica se limita por el requerimiento de que su viscosidad sea 100 cps (100 centipoise) o menos en el momento de la distribución, esto es, cuando el material de resina polimérica está en la boquilla de una piezoboquilla listo para depositar, de manera que las piezoboquillas individuales pueden proveer el material de resina polimérica a una tasa de distribución de gotas constante. En este sentido, la viscosidad del material de resina polimérica en el punto de distribución en conjunción con el tamaño de la boquilla es importante para definir el tamaño y forma de las gotitas formadas sobre el substrato (12) y en el tiempo en que la resolución del patrón se alcanza finalmente. Otro requisito que limita la elección del material de resina polimérica es que debe estabilizarse parcialmente durante su caída, como gota, desde una piezoboquilla al substrato base (12) , o después de aterrizar sobre el substrato base (12) , para impedir que el material de resina polimérica fluya y para mantener el control sobre el material de resina polimérica para asegurar que permanece en la forma de una gota donde aterriza sobre el substrato base (12) . Materiales de resina polimérica apropiados que logran estos criterios y que son preferentemente resistentes a la abrasión son: 1. fundidos en caliente y fundidos en caliente curados por humedad; 2. sistemas reactivos de dos partes basados en uretanos y epoxies; 3. composiciones de fotopolímero consistentes en monómeros acrilados y oligómeros acrilados reactivos derivados de uretanos, poliésteres, poliéteres y silicones; y 4. látex basados en agua y dispersiones y formulaciones con cargas de partículas incluyendo acrílicos y poliuretanos .

Debe entenderse que el material de resina polimérica necesita estar fijo sobre o dentro del substrato base (12) después de su depósito sobre el mismo. Los medios por los cuales el material de resina polimérica se estabiliza o fija depende de sus propios requerimientos físicos y/o químicos. Los fotopollmeros se curan con luz, mientras que los materiales fundidos en caliente se fijan por enfriamiento. Los látex con base agua y dispersiones se secan y luego se curan con calor, y los sistemas reactivos se curan por calor. De manera acorde, los materiales de resina polimérica pueden estabilizarse por curado, enfriamiento, secado o cualquier combinación de ellos .

La fijación apropiada del material de resina polimérica se requiere para controlar su penetración en y la distribución dentro del substrato base (12), esto es, para controlar u confinar el material dentro del volumen deseado o sobre la superficie del substrato base (12) . Tal control es importante bajo el plano superficial del substrato base (12) para impedir la capilarización y extensión. Tal control debe ser ejercido, por ejemplo, por mantener al substrato base (12) a una temperatura que causará que el material de resina polimérica se fije rápidamente al contacto. El control también debe ejercerse al usar dichos materiales teniendo tiempos de curado o reacción bien conocidos o bien definidos sobre substratos base teniendo un grado de transparencia tal que el material de resina polimérica se fijará antes de que tenga tiempo de extenderse más allá del volumen deseado del substrato base (12) .

Una o más pasadas sobre el substrato base (12) pueden realizarse por el arreglo de piezoboquillas (16) para depositar la cantidad de material deseada y para crear la forma deseada. En este aspecto, los depósitos pueden tomar cualquier número de formas como se ilustra de manera general en la Figura 7. Las formas pueden ser cuadrada, cónica redonda, rectangular, oval, trapezoidal, etc., con una base gruesa estrechándose hacia arriba. Dependiendo del diseño elegido, la cantidad de material depositada puede ser encapada de manera decreciente conforme la boquilla pase repetidamente sobre el área de depósito .

Cuando se ha aplicado la cantidad deseada de material de resina polimérica por unidad de área en una banda entre los rieles transversales (18) , (20) a través del substrato base (12) , el substrato base (12) se avanza longitudinalmente una cantidad igual al ancho de la banda, y el procedimiento descrito arriba se repite para aplicar el material de resina polimérica en una nueva banda adyacente a aquella previamente completada. De esta manera repetitiva, el substrato base (12) completo puede ser provisto de cualquier cantidad deseada de material de resina polimérica por unidad de área.

Alternativamente, el arreglo de piezoboquillas (16) , nuevamente iniciando desde un borde del substrato base (12) , o preferentemente desde un hilo de referencia extendiéndose longitudinalmente en él, se mantiene en una posición fija con relación a los rieles transversales (18) , (20) , mientras que el substrato base (12) se mueve debajo de él, para aplicar cualquier cantidad deseada del material de resina polimérica por unidad de área en una tira longitudinal cerca del substrato base (12) . Al completar la tira longitudinal, el arreglo de piezoboquillas (16) se mueve a lo ancho sobre los rieles transversales (18) , (20) en una cantidad igual al ancho de la tira longitudinal, y el procedimiento descrito arriba se repite para aplicar el material de resina polxmérica en una nueva tira longitudinal adyacente a aquella previamente completada. De esta manera repetitiva, el substrato base (12) completo puede proveerse con la cantidad deseada de material de resina polimérica por unidad de área, si se desea.

Nótese que el patrón puede ser aleatorio, un patrón aleatorio repetitivo sobre un substrato^ base o patrones tales que sean repetibles de banda a banda para control de calidad.

En un extremo de los rieles transversales (18) , (20) , se provee una estación de verificación de boquillas 22 para probar el flujo del material de resina polimérica de cada piezoboquilla en el arreglo de piezoboquillas (16) . Ahí, las piezoboquillas pueden purgarse y limpiarse para restaurar la operación automáticamente por cualquier malfuncionamiento de la unidad de piezoboquillas.

En la segunda estación, la estación de depósito preciso de polímero/formación de imágenes (24), la única estación no opcional en la presente invención, los rieles transversales (26) , (28) soportan una cámara de imágenes digitales (30) , que es trasladable a través del ancho del substrato base (12), y un arreglo de piezoboquillas (32), que es trasladable a través de ambos, el ancho del substrato base (12) y la longitud con relación al mismo entre los rieles transversales (26) , (28) mientras que el substrato base (12) está en reposo .

La cámara de imágenes digitales (30) ve la superficie del substrato base (12) para localizar los nudillos formados donde los hilos en una dirección del substrato base (12) se tejen sobre aquellos en la otra dirección. En el proceso de tejido estos puntos de cruce, en tanto se localizan muy próximos a intervalos predeterminados o regulares, dependiendo del patrón de tejido, pueden sin embargo, variar. De manera acorde, el solo intento de depositar un material de resina polimérica en intervalos discretos no asegura que todo, o el número deseado de puntos de cruce recibirán el depósito. De manera acorde, una comparación entre la superficie actual y la apariencia deseada se hacen por un procesador de reconocimiento rápido de patrones (FPR) operando en conjunción con la cámara de imágenes digitales (30) en tiempo real. El procesador FPR envía señales al arreglo de piezoboquillas (32) para depositar material de resina polimerica sobre las locaciones que lo requieren para ajustarse a la apariencia deseada. En la presente invención, el material de resina polimerica se deposita sobre los nudillos en el respaldo de la tela para edificar depósitos discretos, discontinuos del material de resina polimerica sobre ellos. Alternativamente, es depositado en los valles entre los nudillos o sobre dos o más nudillos consecutivos alineados en la dirección de máquina o transversal a la máquina y en los valles entre ellos. Esencialmente, los depósitos son provistos para separar el lado del respaldo de la tela de un cilindro de secado o rodillo de volteo de manera que el aire, llevado por el lado del respaldo de la tela en una cuña de compresión, puede escapar en ambas, las direcciones longitudinal y transversal a lo largo de la superficie del lado de respaldo en vez de ser forzado a través de la tela, donde podría causar una "caída" . Idealmente, los depósitos se constituyen gradualmente a través del depósito de gotitas de material de resina polimérica desde las piezoboquillas en múltiples pasadas del arreglo de piezoboquillas (32) para obtener una altura por encima del nudillo en un rango nominal desde 0.5 mm a 1.0 mm, de manera de separar el respaldo de la tela de un cilindro de secado o rodillo de volteo por esa cantidad. Múltiples pasadas del arreglo de piezoboquillas (32) permiten que las formas de los depósitos sean cuidadosamente controladas para no afectar la permeabilidad de la tela de secado. Es decir, al depositar las gotitas en un patrón repetitivo, esto es, encapando al poner una gotita encima de la siguiente, se controla la altura o dirección z del material de resina polimérica sobre el substrato base (12) y puede ser uniforme, variado o ajustado de otra manera como se desee. Adicionalmente, algunas de las piezoboquillas individuales en el arreglo de piezoboquillas se pueden usar par depositar un material de resina polimérica, mientras que otras pueden usarse para depositar un material de resina polimérica diferente, para producir una superficie teniendo microregiones de más de un tipo de material de resina polimérica. Tal precisión en el depósito puede evitar la etapa de desbastado o abrasión para obtener una superficie monoplanar a través del material de resina polimérica depositado. Por supuesto, una etapa de desbastado o abrasión también puede darse si así se desea.

Como en la estación opcional de depósito de polímero (14) , se proveé una estación de verificación de piezoboquillas (34) en un extremo de los rieles transversales (26) , (28) para probar el flujo de material de cada piezoboquilla . Ahí, cada piezoboquilla en el arreglo de piezoboquillas (32) puede ser purgada y limpiada para restaurar la operación automáticamente por cualquier malfuncionamiento de la unidad de piezoboquilla.

En la tercer estación, la estación opcional de estabilización (36) , los rieles transversales (38) , (40) soportan un dispositivo de fijación (42) , que puede ser requerido para fijar el material de resina polimérica que está siendo usado. El dispositivo de estabilización (42) puede ser una fuente de calor, por ejemplo, una fuente infrarroja, de aire caliente, microondas o láser, aire frió o una fuente de luz ultravioleta o visible, la elección siendo gobernada por los requerimientos del material de resina polimérica que está siendo usado.

Finalmente, la cuarta y última estación es la estación opcional de desbastado (44) , donde un abrasivo apropiado se usa para proveer a algún material de resina polimérica sobre el plano superficial del substrato base (12) con un espesor uniforme. La estación opcional de desbastado (44) puede comprender un rodillo teniendo una superficie abrasiva, y otro rodillo o superficie de respaldo en el otro lado del substrato base (12) para asegurar que el desbastado resultará en un espesor uniforme.

Como un ejemplo, se hace referencia ahora a la Figura 2, que es una vista seccional transversal, tomada en la dirección longitudinal, de una tela de secado (50) teniendo material de resina polimérica depositado sobre los nudillos en la superficie del respaldo para formar depósitos discretos discontinuos del mismo de acuerdo con la presente invención. La tela de secado (50) es tejida a partir de hilos longitudinales (52) e hilos transversales (54) en un tejido dúplex, aunque debiera entenderse que el tejido particular mostrado es un ejemplo al cual la presente invención no está limitada .

La Figura 3 es una vista seccional transversal tomada en la dirección transversal como se indica en la Figura 2. Como se muestra en las Figuras 2 y 3, los hilos longitudinales (52) y los hilos transversales (54) son ambos de sección transversal rectangular, pero también debiera entenderse que es un ejemplo al cual la presente invención no está limitada.

El respaldo (56) de la tela de secado (50) es el lado de abajo de la misma en las vistas mostradas en las Figuras 2 y 3. De acuerdo con la presente invención, los nudillos (58) formados donde los hilos longitudinales (52) se tejen por debajo de los hilos transversales inferiores (54) tienen depósitos discretos, discontinuos (60) de material de resina polimérica constituido por el depósito de pequeñas gotitas del mismo por la estación de depósito preciso de polímero/formación de imágenes (24) . Los depósitos (60), como puede visualizarse fácilmente, separan los nudillos (58) de cualquier superficie, tal como aquella de un cilindro de secado, y elevan toda la tela de secado (50) con relación a tal superficie. Como se indica por las vistas presentadas en las Figuras 2 y 3, los depósitos (60) permiten al aire fluir en ambas direcciones, longitudinal y transversal entre el respaldo (56) de la tela de secado (50) y un cilindro de secado para permitir al aire portado en una cuña de compresión por la tela de secado móvil (50) , ventilarse de otra manera que pasando hacia afuera a través de la tela de secado (50) . Los depósitos (60) , como se establece arriba, tienen alturas, con relación a los nudillos (58) sobre los que están dispuestos, en un rango nominal desde 0.5mm a 1. Omm.

La Figura 4 es una vista en perspectiva del respaldo (56) de la tela de secado (50) mostrando los depósitos (60) sobre los nudillos (58) formados por los hilos longitudinales (52) . Los nudillos (58) y los depósitos (60) forman líneas diagonales sobre el respaldo (56) , aunque aquellos con conocimientos ordinarios en el arte se darán cuenta de que tal alienación resulta del patrón particular de tejido mostrado en las Figuras 2 a 4 y no es una característica necesaria de todas las telas de secado de la presente invención. En resumen, los depósitos (60) podrían ser aplicados al respaldo de cualquier tela de secado (50) , incluyendo aquellas del tipo de enlace en espiral, tales como la mostrada en la patente de los Estados Unidos No. 4,567,077 de Gauthier, las enseñanzas de la cual han sido incorporadas a la presente por referencia antes, como una etapa final en el proceso de fabricación.

Como ventaja, los depósitos (60) , que en un sentido forman un recubrimiento discontinuo sobre el respaldo (56) de la tela de secado (50) , no tienen efecto sobre las propiedades de doblado de la tela de secado (50) , ya que, al reposar discontinuamente sobre la superficie, no afectan la rigidez de la tela de secado (50) , ni la localización de su eje neutral de doblez .

En una modalidad alternativa de la presente invención, la estación opcional de depósito de polímero (14) , la estación de reparación/formación de imágenes (24), y la estación opcional de estabilización (36) , pueden adaptarse para producir una tela a partir del substrato base (12) de acuerdo con una técnica en espiral, más que por el indexado en la dirección transversal a la máquina como se describe arriba. En una técnica en espiral, la estación opcional de depósito de polímero (14), la estación de reparación/formación de imágenes (24) , y la estación opcional de estabilización (36) inician en un extremo del substrato base (12), por ejemplo, el extremo de mano izquierda en la Figura 1, y se mueven gradualmente a través del substrato base (12) , conforme el substrato base (12) se mueve en la dirección indicada en la Figura 1. Las tasas a las que las estaciones (14), (24), (36) y el substrato base (12) se mueven se ajustan de manera que el material de resina polimérica deseado en la tela terminada es forma en espiral sobre el substrato base (12) como se desee de una manera continua. En esta alternativa, el material de resina polimérica depositado por la estación opcional de depósito de polímero (14) y la estación de depósito preciso de polímero/formación de imágenes (24) pueden ser estabilizados parcialmente o fijos conforme cada espiral pase debajo del dispositivo de fijación opcional (42) y estabilizados completamente cuando todo el substrato base (12) ha sido procesado a través del aparato (10) .

Alternativamente, la estación opcional de depósito de polímero (14) , la estación de depósito preciso de polímero/ ormación de imágenes (24) y la estación opcional de fijación (36) pueden todas mantenerse en posiciones fijas alineadas una con otra, en tanto que el substrato base (12) se mueve debajo de ellas, de manera que el material de resina polimérica deseado para la tela terminada pueda aplicarse a una tira longitudinal cerca del substrato base (12) . Al completar la tira longitudinal, la estación opcional de depósito de polímero (14) , la estación de reparación/formación de imágenes (24) , y la estación opcional de estabilización (35) se mueven a lo ancho una cantidad igual al ancho de la tira longitudinal, y el procedimiento se repite para una nueva tira longitudinal adyacente a aquella previamente completada. De esta manera repetitiva la estructura base (12) completa puede ser totalmente procesada como se desee.

Debe notarse que el material no necesita ser una banda de ancho total sino que puede ser una tira de material tal como aquella descrita en la patente de los Estados Unidos No. 5,360,656 para Rexfelt, la descripción de la cual se incorpora a la presente por referencia, y subsecuentemente formada en una tela de ancho completo. La tira puede ser desenrollada y enrollada sobre un conjunto de rodillos después de su procesamiento completo. Estos rodillos de tiras de tela pueden ser almacenados y luego pueden ser usados para formar una estructura sinfín de ancho completo usando, por ejemplo, las enseñanzas de la patente mencionada inmediatamente antes .

La Figura 5 es una vista seccional transversal, tomada en una dirección longitudinal, de una tela de secado (70) teniendo material de resina polimérica depositado sobre los así llamados valles en su superficie del lado posterior para formar depósitos discretos, discontinuos del mismo en concordancia con la presente invención. La tela de secado (70) se teje a partir de hilos longitudinales (72) e hilos ransversales (74) en un te ido plano, aunque debe entenderse que la presente invención no es limitada a un tejido tal. El respaldo (76) de la tela de secado (70) es el lado de abajo de la misma en las vistas mostradas en la Figura 5. En la modalidad mostrada aquí, los valles (78) entre los nudillos (80) formados donde los hilos longitudinales (72) se tejen por debajo de los hilos transversales (74) tienen depósitos discretos, discontinuos (82) de material de resina polimérica constituido por el depósito de pequeñas gotitas del mismo. Los depósitos (82) separan al lado del respaldo (76) de la tela (70) de cualquier superficie, tal como aquella de un cilindro de secado o rodillo de volteo, y elevan toda la tela de secado (70) con relación a tal superficie. Los depósitos (82) también unen a los hilos longitudinales (72) a los hilos transversales (74) en los puntos de cruce. Los depósitos (82) , como se establece arriba, tienen alturas, con relación a los nudillos (80) , en un rango nominal desde 0.5mm a l.Omrn.

La Figura 6 es una vista seccional transversal, tomada en una dirección longitudinal, de una tela de secado (90) teniendo material de resina polimérica depositado sobre dos nudillos consecutivos alineados en la dirección de la máquina y sobre los valles entre ellos sobre la superficie del lado de respaldo para formar depósitos discretos, discontinuos en él. La tela de secado (90) se teje a partir de hilos longitudinales (92) e hilos transversales (94) en un tejido plano, aunque debe entenderse que la presente invención no es limitada a un tejido tal. El respaldo (96) de la tela de secado (90) es el lado de abajo de la misma en las vistas mostradas en la Figura 6. En la modalidad mostrada aquí, depósitos discretos, discontinuos (98) corren entre nudillos adyacentes (100) y cubren el valle 102 entre ellos sobre el hilo longitudinal (92) , los nudillos (100) estando formados donde los hilos longitudinales (92) se tejen por debajo de los hilos transversales (94) . Los depósitos (98) están constituidos por el depósito de pequeñas gotitas de material de resina polimérica, y separan el respaldo (96) de la tela (90) de cualquier superficie, tal como aquella de un cilindro de secado o rodillo de volteo, y elevan toda la tela de secado (90) con relación a tal superficie. Los depósitos (98) tienen alturas, con relación a los nudillos (100) , en un rango nominal desde 0.5mm a l.Omrn. En tanto la Figura 6 muestra los depósitos (98) corriendo solamente desde un nudillo (100) al siguiente, debe entenderse que pueden correr por cualquier longitud deseada, esto es, para cualquier número de nudillos (100) deseados.

También debe entenderse que, cualquier forma (por ejemplo, cuadrada, rectangular, cilindrica, trapezoidal, etc. Véase la Figura 7) que tomen los depósitos discretos (60) , (82) , (98) , no necesita ser aplicada a cada nudillo, valle u otro, como puede ser el caso. Más bien, éstos pueden ser espaciados uno del otro por cualquier número de nudillos o valles ya sea en la dirección de la máquina o en la transversal, para definir los patrones deseados en el respaldo de la tela.

Finalmente, como se establece arriba, cuando el substrato base (12) es sinfín, puede ser necesario invertirlo, esto es, voltearlo de dentro hacia afuera, para colocar los depósitos discretos, discontinuos de material de resina polimérica en el respaldo de la misma, cuando se usa el aparato (10) para depositar el material de resina polimérica sobre la corrida superior del substrato base (12) a través del mismo. Cuando el substrato base (12) no es sinfín, el lado al que están siendo incorporados los depósitos discretos, discontinuos, será colocado finalmente en el interior cuando el substrato base (12) es cosido en forma sinfín sobe la sección de secado. En cada caso, como se dijo antes, puede haber situaciones en que la resina se aplique al lado de contacto con la hoj en adición al respaldo. También, como alternativa, se podría considerar depositar un material de sacrificio en un patrón deseado para crear en esencia un molde para que el material de resina sea depositado posteriormente. Esta material de sacrificio puede ser, por ejemplo, cera o una substancia soluble en agua que es luego removida dejando a la resina fijarse en el patrón deseado a la tela.

También puede desearse aplicar diferente material de resina polimérica sobre la misma tela en diferentes locaciones por medio de diferentes boquillas en el arreglo.

Modificaciones a lo anterior podrían ser obvias para aquellos con conocimientos ordinarios en el arte, pero no llevarían a la invención así modificada más allá del alcance de las reivindicaciones anexas. En particular, mientras que antes se describen piezoboquillas como siendo usadas para depositar el material de resina polimérica en las locaciones preseleccionadas sobre el substrato base, otros medios para el depósito de gotitas del mismo en el rango de tamaño deseado pueden ser conocidos para aquellos con conocimientos ordinarios en el arte o pueden ser desarrollados en el futuro, y tales otros medios pueden ser usados en la práctica de la presente invención. El uso de tales medios no podría llevar a la invención, si se practicara así, más allá del alcance de las reivindicaciones anexas.

Claims (28)

REIVINDICACIONES Lo que se reivindica es :

1. Un método para fabricar una tela para máquina papelera o industrial, dicho método comprendiendo las etapas de: a. proporcionar un substrato base para la tela; b. depositar material de resina polimérica sobre locaciones preseleccionadas de dicho substrato base en gotitas de una manera controlada como para constituir depósitos discretos, discontinuos de dicho material de resina polimérica teniendo una altura de alrededor de 0.5mm en dichas locaciones discretas preseleccionadas; y c. al menos parcialmente fijar dicho material de resina polimérica.

2. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dichas gotitas tienen un diámetro nominal de 10µ (10 micrones) o más.

3. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las etapas b) y c) se realizan secuencialmente sobre bandas sucesivas que se extienden a lo ancho a través de dicho substrato base .

4. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las etapas b) y c) se realizan secuencialmente en tiras sucesivas que se extienden a lo largo cerca de dicho substrato base.

5. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las etapas b) y c) se realizan espiralmente cerca de dicho substrato base.

6. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones discretas preseleccionadas sobre dicho substrato base son nudillos formados por hilos longitudinales de dicho substrato base pasando por encima de hilos transversales.

7. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones discretas preseleccionadas sobre dicho substrato base son nudillos formados por hilos transversales de dicho substrato base pasando por encima de hilos longitudinales.

8. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones discretas preseleccionadas sobre dicho substrato base son valles entre nudillos formados por hilos longitudinales de dicho substrato base pasando por encima de hilos transversales.

9. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones discretas preseleccionadas sobre dicho substrato base son valles entre nudillos formados por hilos transversales de dicho substrato base pasando por encima de hilos longitudinales .

10. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones preseleccionadas sobre dicho substrato base corren entre dos nudillos consecutivos formados por hilos longitudinales de dicho substrato base pasando sobre hilos transversales e incluyen los valles entre ellos .

11. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho substrato base es tejido y en la etapa b) , dichas locaciones preseleccionadas sobre dicho substrato base corren entre dos nudillos consecutivos formados por hilos transversales de dicho substrato base pasando sobre hilos longitudinales e incluyen los valles entre ellos.

12. Un método de conformidad con la reivindicación 1, en donde, en la etapa b) , dicho material de resina polimérica se deposita por un arreglo de pxezoboquxllas comprendiendo al menos una piezoboquilla controlada por computadora.

13. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la etapa b) comprende las etapas de: i. verificar en tiempo real la superficie de dicho substrato base para localizar las locaciones discretas preseleccionadas y causar que el depósito sobre las mismas de dicho material de resina polimérica para constituya dichos depósitos discretos discontinuos 11. depositar dicho material de resina polimérica sobre dichas locaciones preseleccionadas que requieren material de resina polimérica para dar dichos depósitos la altura deseada.

14. Un método de conformidad con la reivindicación 13 caracterizado porque dicha etapa de verificación se realiza por un procesador de reconocimiento rápido de patrones (FPR) operando en conjunción con una cámara de imágenes digitales en tiempo real .

15. Un método de conformidad con la reivindicación 14 caracterizado porque dicha etapa de depósito se realiza por un arreglo de piezoboquillas acopladas a dicho procesador FPR.

16. Un método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho material de resina polimérica se selecciona del grupo consistente de : 1. fundidos en caliente y fundidos en caliente curados por humedad; 2. sistemas reactivos de dos partes basados en uretanos y epoxies; 3. composiciones de fotopolímero consistentes en monómeros acrilados y oligómeros acrilados reactivos derivados de uretanos, poliésteres, poliéteres y silicones; y 4. látex basados en agua y dispersiones y formulaciones con cargas de partículas incluyendo acrílicos y poliuretanos.

17. Un método de conformidad con la reivindicación 1 caracterizado porque dicha etapa de curado se realiza por exposición de dicho material de resina polimérica a una fuente de calor.

18. Un método de conformidad co la reivindicación 1 caracterizado porque dicha etapa de curado se realiza por exposición de dicho material de resina polimérica al aire f ío .

19. Un método de conformidad con la reivindicación 1 caracterizado porque dicha etapa de curado se realiza por exposición de dicho material de resina polimérica a radiación actínica .

20. Un método de conformidad con la reivindicación 12 caracterizado porque dicho arreglo de piezoboquillas comprende una pluralidad de piezoboquillas individuales controladas por computadora, y caracterizado porque algunas de dichas piezoboquillas individuales controladas por computadora depositan un material de resina polimérica mientras que otras piezoboquillas individuales controladas por computadora depositan un material de resina polimérica diferente .

21. Un método de conformidad con la reivindicación 1 comprendiendo además la etapa opcional de abrasión de dicho material de resina polimérica sobre dicho substrato base para proveer a dicho material de resina polimérica sobre el plano superficial de dicho substrato base con un espesor uniforme.

22. Un método de conformidad con la reivindicación 1 caracterizado porque un primer material de resina polimérica se deposita, y un segundo material de resina polimérica se deposita, el cual es diferente del primer material de resina polimérica.

23. Una tela para máquina papelera o industrial, comprendiendo : un substrato base tomando la forma de un bucle sinfín teniendo un lado de respaldo y un lado de contacto con el papel; y una pluralidad de depósitos discretos discontinuos de material de resina polimérica en locaciones discretas preseleccionadas sobre el lado del respaldo, dichos depósitos teniendo una altura de alrededor de 0.5mm con relación a dicho lado de respaldo .

24. Una tela para máquina papelera o industrial de conformidad con la reivindicación 23, caracterizada porque dicho substrato base se teje a partir de hilos longitudinales y transversales y caracterizada porque dichas locaciones preseleccionadas son nudillos formados por dichos hilos sobre dicho lado de respaldo.

25. Una tela para máquina papelera o industrial de conformidad con la reivindicación 23, caracterizada porque dicho substrato base se teje a partir de hilos longitudinales y transversales y en donde dichas locaciones preseleccionadas son valles entre los nudillos formados por dichos hilos sobre dicho lado de respaldo.

26. Una tela para máquina papelera o industrial de conformidad con la reivindicación 23, caracterizada porgue dicho substrato base se teje a partir de hilos longitudinales y transversales y caracterizada porque dichas locaciones preseleccionadas rodean al menos dos nudillos consecutivos y los valles entre ellos.

27. Una tela para máquina papelera o industrial de conformidad con la reivindicación 22, caracterizada porque dicha tela es una tela de secado.

28. Una tela para máquina papelera o industrial de conformidad con la reivindicación 22, caracterizada porque dicho substrato base es una banda de enlace en espiral. RESUMEN DE LA INVENCIÓN Un método de fabricación y una tela para máquina papelera o industrial, tal como una tela de secado para la sección de secado de una máquina papelera, , incluye la aplicación de un material de resina polimérica sobre locaciones preseleccionadas del reverso de un substrato base usando un arreglo de piezoboquillas que deposita el material de resina polimérica en gotitas que tienen un diámetro promedio de 10µ (10 micrones) o más para construir depósitos discretos discontinuos del material de resina polimérica teniendo una altura de alrededor de 0.5mm en las locaciones preseleccionadas . Las locaciones preseleccionadas pueden ser nudillos formados por el entretejido de los hilos que forman la tela. El propósito de los depósitos es separar el respaldo de la tela de secado de una superficie, tal como la de un cilindro de secado o rodillo de volteo, para permitir al aire atrapado entre la tela de secado y la superficie, escapar en las direcciones longitudinal y transversal paralelo a la superficie, en vez de ser forzado a través de la tela, posiblemente causando la "caída" . El material de resina polimérica se fija por medios apropiados a su composición y, opcionalmente , y si es necesario, puede ser desbastado para proveer a los depósitos con una altura uniforme sobre el plano superficial del substrato base.