ES2606371T3 - Método de fabricación de una tela para la elaboración de papel - Google Patents

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ES2606371T3 ES03783687.1T ES03783687T ES2606371T3 ES 2606371 T3 ES2606371 T3 ES 2606371T3 ES 03783687 T ES03783687 T ES 03783687T ES 2606371 T3 ES2606371 T3 ES 2606371T3
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Abstract

Un método para la elaboración de una tela (50, 70, 90) de fabricación de papel o industrial, comprendiendo dicho método las etapas de: a) proporcionar un sustrato (12) base para la tela; b) depositar una pluralidad de gotitas de material de resina polimérica sobre posiciones discretas 5 preseleccionadas sobre dicho sustrato (12) base de manera controlada para construir depósitos (60, 82, 98) discontinuos, discretos de dicho material de resina polimérica que tienen una altura de al menos 0.5 mm con respecto a una superficie de dicho sustrato base en dichas ubicaciones discretas preseleccionadas, en donde las gotitas tienen un diámetro nominal de 10 mm a 100 mm; y c) fijar al menos parcialmente dicho material de resina polimérica.

Description

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DESCRIPCION
Metodo de fabricacion de una tela para la elaboracion de papel Antecedentes de la invencion
1. Campo de la invencion
La presente invencion se refiere a las tecnicas de elaboracion del papel. Mas especlficamente, la presente invencion se refiere a las telas para la elaboracion de papel utilizadas en la seccion de secado de una maquina de papel, y particularmente en una seccion de secado de un solo recorrido. Tales telas se denominan comunmente telas secantes.
2. Descripcion de la tecnica anterior
Como es bien conocido por los expertos en la tecnica, el proceso de elaboracion de papel comienza con la deposicion de una suspension fibrosa, es decir, una dispersion acuosa de fibras celulosicas, sobre una tela de formacion en movimiento en la seccion de formado de una maquina de papel. Durante este proceso se drena una gran cantidad de agua de la suspension a traves de la tela de formacion, dejando una red fibrosa sobre su superficie.
La red recien formada pasa de la seccion de formado a una seccion de prensado, que incluye una serie de rodillos de prensado. La red fibrosa pasa a traves de los rodillos de prensado sujeta por un tejido de prensa, o, como suele suceder, entre dos tejidos de prensa. En los rodillos de prensado, la red fibrosa esta sometida a fuerzas de compresion que exprimen el agua de la misma y que adhieren sus fibras constituyentes entre si para convertir la red fibrosa en una lamina. El agua exprimida desde la red es captada por la tela o tejidos de prensa, e idealmente no vuelve a la red.
La red, ahora una lamina, pasa finalmente a una seccion de secado, que incluye al menos una serie de tambores o cilindros de secado giratorios, que son calentados internamente por vapor. La lamina en si esta dirigida en una trayectoria serpenteante secuencialmente alrededor de cada una de la serie de tambores por una tela secante, que mantiene la red estrechamente contra las superficies de al menos algunos de los tambores. Los tambores calentados reducen el contenido de agua de la lamina a un nivel deseable a traves de la evaporacion.
Debe apreciarse que las telas de formacion, prensado y secantes tienen forma de bucles sin fin en la maquina de papel y funcionan a la manera de transportadores. Debe apreciarse ademas que la elaboracion de papel es un proceso continuo que se desarrolla a una velocidad considerable. Es decir, la suspension fibrosa se deposita continuamente sobre la tela de formacion en la seccion de formado, mientras que una lamina de papel recien elaborada se enrolla continuamente sobre rollos despues de que sale de la seccion de secado en el extremo descendente de la maquina de papel.
Haciendo referencia ahora, mas especlficamente a la seccion de secado, en la seccion de secado, los cilindros de secado pueden estar dispuestos en una fila o hilera superior o inferior. Los que estan en el nivel inferior estan escalonados en relacion con los de la hilera superior, en lugar de estar en una relacion vertical estricta. A medida que la lamina avanza a traves de la seccion de secado, pasa alternativamente entre las hileras superior e inferior cuando pasa primero alrededor de un cilindro de secado en una de las dos hileras, luego alrededor de un cilindro de secado en la otra hilera y as! sucesivamente a traves de la seccion de secado.
Las hileras superior e inferior de los cilindros de secado se pueden revestir cada una con una tela secante separada. En dicha situacion, la lamina de papel que se esta secando pasa sin soporte a traves del espacio, o "bolsa", entre cada cilindro secador y el siguiente cilindro secador en la otra tira.
En una seccion de secado de una sola tira, se puede usar una sola fila de cilindros junto con un numero de cilindros o rodillos giratorios. Los rodillos giratorios pueden ser solidos o ventilados.
Con el fin de aumentar las velocidades de produccion y minimizar la perturbacion de la lamina, se utilizan secciones de secado de un solo recorrido para transportar la lamina que se esta secando a altas velocidades. En una seccion de secado de un solo recorrido, se transporta una lamina de papel mediante el uso de una sola tela secante que sigue una trayectoria serpenteante secuencialmente alrededor de los cilindros de secado en las hileras superior e inferior.
Se apreciara que, en una seccion de secado de un solo recorrido, la tela secante mantiene la lamina de papel que se seca directamente contra los cilindros de secado en una de las dos hileras, por lo general la hilera superior, pero la lleva alrededor de los cilindros de secado en la hilera inferior. El recorrido de retorno de la tela esta por encima de los cilindros de la secadora superior. Por otra parte, algunas secciones de secado de un solo recorrido tienen la configuracion opuesta en la que la tela secante sostiene la lamina de papel directamente contra los cilindros de
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secado en la hilera inferior, pero la lleva alrededor de los cilindros superiores. En este caso, el recorrido de retorno de la tela esta por debajo de la hilera inferior de los cilindros. En cualquier caso, una cuna de compresion esta formada por aire llevada a lo largo por la superficie trasera de la tela secante movil en el espacio de estrechamiento donde la tela secante movil se aproxima a un cilindro de secado. El aumento resultante en la presion de aire en la cuna de compresion hace que el aire fluya hacia fuera a traves de la tela secante. Este flujo de aire, a su vez, obliga a la lamina de papel a alejarse de la superficie de la tela secante, un fenomeno conocido como "desprendimiento". El "desprendimiento" puede reducir la calidad del producto de papel que se elabora causando grietas en los bordes. El "desprendimiento" tambien puede reducir la eficiencia de la maquina si conduce a roturas de lamina.
Muchas fabricas de papel han abordado este problema mecanizando ranuras en los cilindros o rodillos de secado o anadiendo una fuente de vaclo a los rodillos de secado. Ambos de estos recursos permiten que el aire atrapado en la cuna de compresion sea eliminado sin pasar a traves de la tela secante, aunque ambos son costosos.
A este respecto, los productores de telas tambien han empleado la aplicacion de revestimientos a telas para impartir funcionalidad adicional a la tela, tales como "metodos de sujecion de laminas". La importancia de aplicar revestimientos como un metodo para anadir esta funcionalidad a, por ejemplo, telas secantes, ha sido citado por Luciano-Fagerholm (Patente de los Estados Unidos No. 5,829,488 (Albany), titulada " Dryer Fabric With Hydrophilic Paper Contacting Surface").
Luciano y Fagerholm han demostrado el uso de un tratamiento superficial hidrofilo de las telas para impartir propiedades de retencion de las laminas manteniendo al mismo tiempo la permeabilidad original. Sin embargo, este metodo de tratamiento de las superficies de la tela, aunque tiene exito en impartir retencion de la lamina, se desea una hidrofilia mejorada y durabilidad del revestimiento. La patente WO 97/14846 tambien reconoce la importancia de los metodos de sujecion de las laminas, y se refiere al uso de materiales de revestimiento de silicona para cubrir e impregnar completamente una tela, haciendola sustancialmente impermeable.
Sin embargo, esta reduccion significativa en la permeabilidad es inaceptable para las aplicaciones de tela secante. La restriction de la lamina se discute tambien en la Patente de los Estados Unidos 5,397,438, que se refiere a la aplicacion de adhesivos sobre areas laterales de telas para evitar la contraction del papel. Otra tecnica anterior relacionada incluye la Patente de los Estados Unidos 5,731,059, que informa usar sellador de silicona solamente en el borde de la tela para protection a alta temperatura y antiarrastre; y la Patente de los Estados Unidos 5,787,602 que se refiere a la aplicacion de resinas a nudillos de tela. La Patente de los Estados Unidos 4,300,982 describe un fieltro de una prensa de elaboration de papel que tiene un patron elevado de islas sustancialmente incompresibles que proporcionan areas vaclas para el paso del agua exprimida del fieltro por los rodillos de prensado. Otros documentos relacionados con el estado general de la tecnica son US 3,720,578 y US 6,358,594.
La presente invention es otro enfoque hacia una solution a este problema en forma de una tela secante que tiene respiraderos laterales que permiten que el aire atrapado en una cuna de compresion escape sin tener que pasar a traves de la tela secante. La presente invencion tambien incluye un metodo para la elaboracion de la tela secante
Resumen de la invencion
De acuerdo con lo anterior, la presente invencion se refiere a un metodo para la manufactura de una tela de elaboracion de papel o tela industrial de acuerdo con la revindication 1
En particular, la invencion se refiere a un metodo para la elaboracion de una tela secante, aunque puede encontrar aplicacion en cualquiera de las telas utilizadas en las secciones de formado, prensado y secado de una maquina de papel y en las telas industriales utilizadas en la fabrication de telas no tejidas. Como tal, la tela de elaboracion de papel o tela industrial comprende un sustrato base que toma la forma de un bucle sin fin que tiene una parte posterior
y un lado de contacto con el papel. Una pluralidad de depositos discretos y discontinuos de material de resina polimerica estan dispuestos en posiciones preseleccionadas en la parte posterior. Estos depositos tienen una altura, con respecto a la parte posterior, de al menos 0.5 mm, de modo que pueden separar la parte posterior de la superficie de un cilindro de secado o rodillo de torneado por ese tamano cuando se pasa alrededor. Los depositos permiten que el aire atrapado entre la parte posterior y la superficie del cilindro de secado escape en ambas direcciones longitudinal y transversal paralelas a la superficie en lugar de a traves de la tela para aliviar el problema de "desprendimiento".
Las posiciones preseleccionadas para los depositos discretos, discontinuos de material de resina polimerica pueden ser nudillos formados donde los hilos en una direction de la tela pasan sobre los hilos en la otra direction. Alternativamente, las posiciones preseleccionadas pueden ser "valles" entre nudillos, una alternativa que lleva la ventaja de unir dos hilos entrecruzados entre si en su punto de cruce. Alternativamente todavla, las posiciones preseleccionadas pueden ser dos o mas nudillos consecutivos alineados en la maquina o en direccion transversal a la maquina y el valle o valles entre ellos. Cuando las posiciones preseleccionadas estan alineadas en la direccion de la maquina, esta alternativa lleva la ventaja de que permite una canalization mejorada del aire. Preferiblemente, los
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depositos residen solamente en los nudillos o en las superficies de la parte posterior de los hilos, donde no afectan a la permeabilidad de la tela. Ademas, como los depositos forman una especie de revestimiento discontinuo en la parte posterior, no tienen efecto sobre sus propiedades de flexion o sobre la posicion de su eje neutro de flexion. Finalmente, al mejorar la capacidad de la parte posterior de la tela para gestionar el aire de esta manera, en lugar de usar patrones de tejido elaborados y complicados para proporcionar la parte posterior de la tela con canales de aire, la estructura de tejido de tela base usada para el sustrato base puede estar provista de otras caracterlsticas, tales como aberturas, lo que le darla una permeabilidad mas alta al mejorar la velocidad de secado, y puede ser mas sencilla y menos costosa de fabricar y coser.
La presente invention es un metodo para la fabrication de una tela de elaboration de papel o industrial, tal como una tela secante. El metodo comprende una primera etapa de proporcionar un sustrato base para la tela.
El material de resina polimerica se deposita en posiciones preseleccionadas sobre el sustrato base en gotitas que tienen un diametro medio de 10 pm (10 micrometros) a 100 pm (100 micrometros) para construir depositos discretos, discontinuos del material de resina polimerica a una altura de al menos 0.5 mm con respecto a la superficie del sustrato base. Se puede usar al menos un inyector piezoelectrico para depositar el material de resina polimerica sobre el sustrato base, aunque otros medios para depositar gotitas de ese tamano pueden ser conocidos por los expertos en la tecnica o pueden desarrollarse en el futuro. El material de resina polimerica se establece entonces o fija por medios apropiados.
Las posiciones preseleccionadas pueden, como se ha indicado anteriormente, ser nudillos formados en la superficie de la tela por el entretejido de sus hilos.
Posteriormente, los depositos de material de resina polimerica pueden ser opcionalmente desgastados para proporcionarles una altura uniforme sobre el plano de superficie del sustrato base.
La presente invencion se describira ahora con mas completo detalle, haciendo referencia frecuente a las figuras identificadas a continuation.
Breve description de los dibujos
La figura 1 es una vista esquematica de un aparato usado para fabricar telas para la elaboracion de papel y telas industriales de acuerdo con el metodo de la presente invencion;
La figura 2 es una vista en section transversal, tomada en una direction longitudinal, de una tela secante de la presente invencion;
La figura 3 es una vista en seccion transversal de la tela secante tomada en la direccion transversal de la misma como se indica en la figura 2;
La figura 4 es una vista en perspectiva de la parte posterior de la tela secante;
La figura 5 es una vista en seccion transversal tomada en una direccion longitudinal, de una realization alternativa de la tela secante;
La figura 6 es una vista en seccion transversal, tomada tambien en una direccion longitudinal, de otra realizacion mas de la tela secante; y
La figura 7 es una vista en perspectiva de una variedad de formas representativas del material depositado. Descripcion detallada de las realizaciones preferidas
El metodo para fabricar la tela para la elaboracion de papel o tela industrial de la presente invencion comienza con la provision de un sustrato base. Por lo general, el sustrato base es un tejido a partir de hilos de monofilamento. Mas ampliamente, sin embargo, el sustrato base puede ser una tela de tejido, no tejido o de punto que comprende hilos de cualquiera de las variedades usadas en la production de prendas de la maquina de papel o telas industriales utilizadas para fabricar artlculos no tejidos y telas, tales como hilos de monofilamento, monofilamento doblado, multifilamento y multifilamento doblado. Estos hilos se pueden obtener por extrusion de cualquiera de los materiales de resina polimerica utilizados para este proposito por los expertos en la tecnica. De acuerdo con lo anterior, se pueden usar resinas de las familias de poliamida, poliester, poliuretano, poliaramida, poliolefina y otras resinas.
Alternativamente, el sustrato base puede estar compuesto de telas de malla, tales como las mostradas en la Patente de los Estados Unidos No. 4.427.734 asignada comunmente a Johnson.
El sustrato base puede ser ademas una correa de enlace en espiral de la variedad mostrada en muchas Patentes de los Estados Unidos, tal como la Patente de los Estados Unidos No. 4,567,077 de Gauthier.
Ademas, el sustrato base se puede producir enrollando en espiral una tira de tela tejida, no tejida, tricotada o de malla de acuerdo con los metodos mostrados en la Patente de los Estados Unidos No. 5, 360, 656 asignada comunmente a Rexfelt et al. El sustrato base puede comprender, de acuerdo con lo anterior, una tira enrollada en espiral, en la que cada vuelta en espiral esta unida a la siguiente mediante una costura continua que hace que el 5 sustrato base se interrumpa en una direccion longitudinal. 9
Lo anterior no debe considerarse como las unicas formas posibles para el sustrato base. Alternativamente se pueden usar cualquiera de las variedades de sustrato base usadas por los expertos en la ropa de la maquina de papel y las artes relacionadas.
Una vez que se ha proporcionado el sustrato base, una o mas capas de fibra sintetica cortada pueden estar unidas a 10 uno o a ambos lados por metodos bien conocidos para los expertos en la tecnica. Tal vez el metodo mas conocido y mas comunmente utilizado es el de la aguja, en donde las fibras cortadas individuales en la tela son empujadas dentro del sustrato base por una pluralidad de agujas con puas reclprocas Alternativamente, las fibras cortadas individuales pueden estar unidas al sustrato base por hidroenmaranado, en donde los chorros finos de agua de alta presion desempenan la misma funcion que las agujas de puas reclprocas antes mencionadas. Se reconocera que, 15 una vez que se ha unido el panel de fibras cortadas al sustrato base mediante cualquiera de estos u otros metodos conocidos por los expertos en la tecnica, se tendrla una estructura identica a la de un tejido de prensa de la variedad generalmente usada para desecar una red de papel humedo en la seccion de prensado de una maquina de papel.
Una vez que el sustrato base, con o sin la adicion de material de fibras cortadas sobre uno o ambos de sus dos lados, se monta sobre el aparato 10 mostrado esquematicamente en la figura 1, de manera que el material de resina 20 polimerica puede depositarse en su parte posterior de acuerdo con la presente invencion. Se debe entender que el sustrato base puede ser sin fin o cosible en forma interminable durante la instalacion en una maquina de papel. Como tal, el sustrato 12 base mostrado en la figura 1 debe ser entendido como una porcion relativamente corta de toda la longitud del sustrato 12 base. Cuando el sustrato 12 base es sin fin, estarla practicamente montado alrededor de un par de rodillos, no ilustrados en la figura, pero mas familiares para los expertos en las artes de ropa de 25 maquina de papel. En dicha situacion, el aparato 10 se dispondrla en una de las dos ejecuciones, lo mas convenientemente posible, del sustrato 12 superior entre los dos rodillos. Sea sin fin o no, sin embargo, el sustrato 12 base se coloca preferiblemente bajo un grado apropiado de tension durante el proceso. Ademas, para evitar el hundimiento, el sustrato 12 base puede ser soportado desde abajo por un elemento de soporte horizontal a medida que se mueve a traves del aparato 10. Debe observarse finalmente que, cuando el sustrato 12 base es sin fin, puede 30 ser necesario invertirlo, es decir, girarlo al reves, despues de la aplicacion de material de resina polimerica de acuerdo con la presente invencion para asegurar que el pollmero de resina reside en la parte posterior del sustrato 12 base.
Ademas, para algunas aplicaciones, puede ser necesario aplicar el patron de resina por el lado de contacto de la lamina. Tambien se preve que la aplicacion de resina para control de aire se aplique a ambos lados de la tela, ya 35 sea con patrones iguales o diferentes.
Haciendo referencia ahora mas especlficamente a la figura 1, donde el sustrato 12 base se indica moviendose en una direccion ascendente a traves del aparato 10 cuando se lleva a cabo el metodo de la presente invencion, el aparato 10 comprende una secuencia de varias estaciones a traves de las cuales el sustrato 12 base puede pasar incrementalmente a medida que se fabrica una tela a partir del mismo.
40 Las estaciones se identifican de la siguiente manera:
1. estacion 14 de deposicion de pollmero opcional;
2. estacion 24 de deposicion de imagenes/pollmero preciso;
3. estacion 36 de ajuste opcional; y
4. estacion 44 de molienda opcional.
45 En la primera estacion, la estacion 14 opcional de deposicion de pollmero, un conjunto 16 de inyector piezoelectrico montado sobre carriles 18, 20 transversales y trasladable sobre la misma en una direccion transversal a la del movimiento del sustrato 12 base a traves del aparato 10, as! como entre ellos en una direccion paralela a la del movimiento del sustrato 12 base, puede ser utilizado para depositar un material de resina polimerica sobre o dentro del sustrato 12 base mientras el sustrato 12 base esta en reposo. La estacion 14 de deposicion de pollmero opcional 50 puede usarse para depositar el material de resina polimerica de manera mas uniforme sobre el sustrato base que lo que se podrla lograr usando tecnicas convencionales, tales como la pulverizacion, si se desea.
El conjunto 16 del inyector piezoelectrico comprende al menos uno, pero preferiblemente una pluralidad de inyectores piezoelectricos individuales controlados por ordenador, cada uno de los cuales funciona como una bomba cuyo componente activo es un elemento piezoelectrico. Como cuestion practica, se puede utilizar un conjunto de
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hasta 256 inyectores piezoelectricos o mas si la tecnologla lo permite. El componente activo es un cristal o ceramica que se deforma flsicamente mediante una senal electrica aplicada. Esta deformacion permite que el cristal o ceramica funcione como una bomba, que expulsa flsicamente una gota de un material llquido cada vez que se recibe una senal electrica apropiada. Como tal, este metodo de usar inyectores piezojelectricos para suministrar gotas de un material deseado repetidamente para construir la cantidad deseada de material en la forma deseada en respuesta a senales electricas controladas por ordenador se denomina comunmente metodo "gota-en-demanda ".
El grado de precision del chorro en la deposicion del material dependera de las dimensiones y forma de la estructura que se esta formando. El tipo de chorro utilizado y la viscosidad del material que se esta aplicando afectaran tambien la precision del chorro seleccionado.
Haciendo referencia de nuevo a la figura 1, el conjunto 16 del inyector piezoelectrico, a partir de un borde del sustrato 12 base o, preferiblemente, de una rosca de referencia que se extiende longitudinalmente en el mismo, se traslada longitudinalmente y en sentido de la anchura a traves del sustrato 12 base, mientras que el sustrato 12 base esta en reposo, deposita el material de resina polimerica en forma de gotitas extremadamente pequenas que tienen un diametro nominal de 10 m (10 micras) a 100 m (100 micras), tal como 50 m (50 micras) o 100 m (100 micras), sobre el sustrato 12 base. La traslacion del conjunto 16 del inyector piezoelectrico longitudinalmente y en anchura con relacion al sustrato 12 base, y la deposicion de gotitas del material de resina polimerica de cada conjunto 16 del inyector piezoelectrico, Se controlan por ordenador de una manera controlada para aplicar una cantidad deseada del material de resina polimerica en una geometrla controlada en tres planos de longitud, anchura y profundidad o altura (dimensiones o direcciones x, y, z) y en una zona por unidad de la estructura 12 de base, si se desea. Ademas, el deposito del material necesita no solo atravesar el movimiento del sustrato base, sino que puede ser paralelo a dicho movimiento, en espiral a tal movimiento o de cualquier otra manera adecuado para el proposito.
En la presente invencion, en la que se utiliza una conjunto de inyector piezoelectrico para depositar un material de resina polimerica sobre o dentro de la superficie del sustrato 12 base, la eleccion del material de resina polimerica esta limitada por el requisito de que su viscosidad sea 100 cps (100 centipoises) o menos (1 cp = 1 mPa.s) el tiempo de suministro, es decir, cuando el material de resina polimerica esta en la tobera de un inyector piezoelectrico listo para la deposicion, de manera que los inyectores piezoelectricos individuales pueden proporcionar el material de resina polimerica a una velocidad de suministro de una gota constante. A este respecto, la viscosidad del material de resina polimerica en el punto de suministro junto con el tamano del chorro es importante para definir el tamano y la forma de las gotitas formadas sobre el sustrato 12 base y en el tiempo la resolucion del patron finalmente alcanzado. Otro requisito que limita la eleccion del material de resina polimerica es que debe fijarse parcialmente durante su calda, como una gota, desde un inyector piezoeletrico hasta el sustrato 12 base, o despues de que caiga sobre el sustrato 12 base, para evitar que fluya el material de resina polimerica y para mantener el control sobre el material de resina polimerica para asegurar que permanece en forma de una gota donde aterriza sobre el sustrato 12 base. Los materiales de resina polimerica adecuados que cumplen estos criterios y que son preferiblemente resistentes a la abrasion son:
1. Fundiciones en caliente y fundiciones en caliente curadas con humedad;
2. Sistemas reactivos en dos partes basados en uretanos y epoxis;
3. Composiciones fotopolimericas consistentes en monomeros acrilatos reactivos y oligomeros acrilatos derivados de uretanos, poliesteres, polieteres y siliconas; y
4. Latex a base acuosa y dispersiones y formulaciones rellenas de partlculas incluyendo acrllicos y poliuretanos.
Se debe entender que el material de resina polimerica necesita fijarse sobre o dentro del sustrato 12 base despues de su deposicion sobre el mismo. Los medios por los que se fija o fija el material de resina polimerica dependen de sus propias exigencias flsicas y/o qulmicas. Los fotopollmeros se curan con luz, mientras que los materiales de fusion en caliente se fijan por enfriamiento. Los latex y dispersiones acuosos se secan y luego se curan con calor, y los sistemas reactivos se curan por calor. De acuerdo con lo anterior, los materiales de resina polimerica se pueden fijar mediante curado, enfriamiento, secado o cualquier combinacion de los mismos.
La fijacion adecuada del material de resina polimerica se requiere para controlar su penetracion y distribucion dentro del sustrato 12 base, es decir, para controlar y confinar el material dentro del volumen deseado del sustrato 12 base. Dicho control es importante por debajo del plano de superficie del sustrato 12 base para evitar la absorcion y dispersion. Dicho control puede ejercerse, por ejemplo, manteniendo el sustrato 12 base a una temperatura que hara que el material de resina polimerica se ajuste rapidamente al contacto. El control tambien se puede ejercer utilizando tales materiales que tienen tiempos de curado o reaccion bien conocidos o bien definidos sobre sustratos de base que tienen un grado de apertura de tal manera que el material de resina polimerica se fijara antes de que tenga tiempo para esparcirse mas alla del volumen deseado del sustrato 12 base.
Una o mas pasadas sobre el sustrato 12 base se pueden hacer mediante un conjunto 16 de inyector piezoelectrico para depositar la cantidad deseada de material y para crear la forma deseada. A este respecto, los depositos
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pueden tomar cualquier numero de formas como se ilustra generalmente en la figura 7. Las formas pueden ser cuadradas, redondas conicas, rectangulares, ovaladas, trapezoidales, etc. con una base mas gruesa que se estrecha hacia arriba. Dependiendo del diseno elegido, la cantidad de material depositado se puede superponer de manera decreciente a medida que el chorro pasa repetidamente sobre el area de deposito.
Cuando se ha aplicado una cantidad deseada de material de resina polimerica por unidad de area en una banda entre los carriles 18, 20 transversales a traves del sustrato 12 base, el sustrato 12 base se hace avanzar longitudinalmente en una cantidad igual a la anchura de la banda y se repite el procedimiento descrito anteriormente para aplicar el material de resina polimerica en una nueva banda adyacente a la que se ha completado previamente. De esta manera repetitiva, todo el sustrato 12 base puede estar provisto de cualquier cantidad deseada de material de resina polimerica por unidad de area.
Alternativamente, el conjunto 16 de inyector piezoelectrico, partiendo de nuevo de un borde del sustrato 12 base, o, preferiblemente, de un hilo de referencia que se extiende longitudinalmente en el mismo, se mantiene en una posicion fija con relacion a los carriles 18, 20 transversales, mientras que el sustrato 12 base se mueve debajo de la misma, para aplicar cualquier cantidad deseada del material de resina polimerica por unidad de area en una tira longitudinal alrededor del sustrato 12 base. Una vez completada la tira longitudinal, el conjunto 16 de inyector piezoelectrico se mueve a lo ancho en los carriles 18, 20 transversales, en una proporcion igual a la anchura de la tira longitudinal y se repite el procedimiento descrito anteriormente para aplicar el material de resina polimerica en una nueva tira longitudinal adyacente a la que se habla completado previamente. De esta manera repetitiva, el sustrato 12 base entero se puede proveer con la cantidad deseada de material de resina polimerica por unidad de area, si se desea.
Observese que el patron puede ser aleatorio, un patron aleatorio de repeticion en un sustrato base o patrones que sean repetibles de una correa a otra correa para el control de calidad.
En un extremo de los carriles 18, 20 transversales, se proporciona una estacion 22 de comprobacion de chorro para ensayar el flujo de material de resina polimerica desde cada inyector piezoelectrico en el conjunto 16 de inyector piezoelectrico. All!, los inyectores piezoelectricos pueden purgarse y limpiarse para restaurar la operacion automaticamente ante cualquier mal funcionamiento de la unidad de inyector piezoelectrico.
En la segunda estacion, la estacion 24 de deposicion de pollmero de imagenes/precision, la unica estacion no opcional en la presente invencion, los carriles 26, 28 transversales soportan una camara 30 para la formacion de imagenes digitales, que es trasladable a traves de la anchura del sustrato 12 base, y un conjunto 32 de inyector piezoelectrico, que es trasladable tanto a traves de la anchura del sustrato 12 base y longitudinalmente con respecto a los mismos entre los carriles 26, 28 transversales, mientras que el sustrato 12 base esta en reposo.
La camara 30 de imagen digital ve la superficie del sustrato 12 base para situar los nudillos formados donde los hilos en una direccion del sustrato 12 base se tejen sobre los de la otra direccion. En el proceso de tejido, estos puntos de cruce, mientras que estan situados muy cerca de intervalos predeterminados o regulares, dependiendo del patron de tejido, sin embargo, varlan. De acuerdo con lo anterior, el simple intento de depositar el material de resina polimerica a intervalos discretos no asegurara que todos o el numero deseado de puntos de cruce recibiran el deposito. De acuerdo con lo anterior, una comparacion entre la superficie real y su aspecto deseado se realiza mediante un procesador de reconocimiento de patron rapido (FPR) que funciona en conjuncion con la camara 30 de imagenes digitales en tiempo real. El procesador de FPR senaliza el conjunto 32 de inyector piezoelectrico para depositar material de resina polimerica sobre las posiciones que se requiere que coincida con la apariencia deseada. En la presente invencion, el material de resina polimerica se deposita sobre los nudillos en la parte posterior de la tela para acumular depositos discretos discontinuos del material de resina polimerica sobre la misma. Alternativamente, se deposita sobre los valles entre nudillos o sobre dos o mas nudillos consecutivos alineados en la maquina o en direccion transversal a la maquina y sobre los valles intermedios. Esencialmente, los depositos estan provistos para separar la parte posterior de la tela de un cilindro de secado o rodillo de torneado de manera que el aire, llevado por la parte posterior de la tela en una cuna de compresion, pueda escapar en ambas direcciones longitudinal y transversal a lo largo de la superficie de la parte posterior en lugar de ser forzado a traves de la tela, donde podrla causar "desprendimiento". Idealmente, los depositos se acumulan gradualmente a traves de la deposicion de gotitas de material de resina polimerica desde los inyectores piezoelectricos en multiples pasadas por el conjunto 32 de inyector piezoelectrico para alcanzar una altura por encima del nudillo en un rango nominal de 0,5 mm a 1,0 mm, para separar la parte posterior de la tela desde un cilindro de secado o rodillo de torneado por ese volumen. Multiples pasadas por el conjunto 32 de inyector piezoelectrico permiten que las formas de los depositos sean cuidadosamente controladas para no afectar la permeabilidad de la tela secante. Es decir, depositando las gotitas en un patron de repeticion, estando por capas una gota en la parte superior de la siguiente, la altura o la direccion z del material de resina polimerica sobre el sustrato 12 base esta controlada y puede ser uniforme, variada o ajustada de otro modo segun se desee. Ademas, se pueden usar algunos de los inyectores piezoelectricos individuales en el conjunto de inyector piezoelectrico para depositar un material de resina polimerica, mientras que otros pueden usarse para depositar un material de resina polimerica diferente, para producir una superficie que tiene microrregiones de mas de un tipo de material de resina polimerica. Tal precision en el deposito puede evitar el paso
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de rectificado o abrasion para obtener una superficie monoplanar a traves del material de resina polimerica depositado. Por supuesto, tambien se puede hacer una operacion de rectificado o abrasion, si se desea.
Como en la estacion 14 opcional de deposito de polimero, se proporciona una estacion 34 de comprobacion de inyector piezoelectrico en un extremo de los carriles 26, 28 transversales para probar el flujo de material desde cada inyector piezoelectrico. Alli, cada inyector piezoelectrico en el conjunto 32 de inyector piezoelectrico puede purgarse y limpiarse para restaurar la operacion automaticamente a cualquier unidad de inyector piezoelectrico defectuosa.
En la tercera estacion, la estacion 36 de ajuste opcional, los carriles 38, 40 transversales soportan un dispositivo 42 de ajuste, que puede ser necesario para ajustar el material de resina polimerica que se esta utilizando. El dispositivo 42 de ajuste puede ser una fuente de calor, por ejemplo, una fuente de infrarrojos, de aire caliente, de microondas o de laser; aire frio; o una fuente de luz ultravioleta o de luz visible, siendo la eleccion guiada por los requisitos del material de resina polimerica que se utiliza.
Finalmente, la cuarta y ultima estacion es la estacion 44 de rectificado opcional, donde se usa un abrasivo apropiado para evitar que algun material de resina polimerica por encima del plano de la superficie del sustrato 12 base con un espesor uniforme. La estacion 44 de rectificado opcional puede comprender un rollo que tiene una superficie abrasiva y otra superficie de rodillo o soporte en el otro lado del sustrato 12 base para asegurar que el rectificado dara como resultado un espesor uniforme.
A modo de ejemplo, se hace ahora referencia a la figura 2, que es una vista en seccion transversal, tomada en direccion longitudinal, de una tela 50 secante que tiene un material de resina polimerica depositado sobre los nudillos en su superficie trasera para formar depositos 60 discretos y discontinuos de acuerdo con la presente invention. La tela 50 secante esta tejida a partir de hilos 52 longitudinales e hilos 54 transversales en un tejido duplex, aunque debe entenderse que el tejido particular mostrado es un ejemplo al cual la presente invencion no esta limitada.
La figura 3 es una vista en seccion transversal tomada en la direccion transversal como se indica en la figura 2. Como se muestra en las figuras 2 y 3, los hilos 52 longitudinales y los hilos 54 transversales son ambos de seccion transversal rectangular, pero esto tambien se debe entender como un ejemplo al cual la presente invencion no esta limitada.
El parte 56 posterior de la tela 50 secante es el lado inferior de la misma en las vistas mostradas en las figuras 2 y 3. De acuerdo con la presente invencion, los nudillos 58 formados donde los hilos 54 longitudinales se entrelazan bajo los hilos transversales inferiores tienen depositos 60 discretos y discontinuos de material de resina polimerica construidos por la deposition de pequenas gotitas de los mismos por una estacion 24 de deposition de imagenes/polimero preciso. Los depositos 60, como puede visualizarse facilmente, separan los nudillos 58 de cualquier superficie, tal como la de un cilindro de secado, y elevan toda la tela 50 secante relativa a dicha superficie. Como se indica por las vistas presentadas en las figuras 2 y 3, los depositos 60 permiten que el aire fluya en ambas direcciones longitudinal y transversal entre el parte 56 posterior de la tela 50 secante y un cilindro secante para permitir que el aire sea llevado a una cuna de compresion por la tela 50 secante movil para ventilar otra que pasando hacia fuera a traves de la tela 50 secante. Los depositos 60, como se ha indicado anteriormente, tienen alturas, relativas a los nudillos 58 sobre los cuales estan dispuestos, en un margen nominal de 0.5 mm a 1.0 mm.
La figura 4 es una vista en perspectiva de la parte 56 posterior de la tela 50 secante que muestra los depositos 60 en los nudillos 58 formados por los hilos 52 longitudinales. Los nudillos 58 y los depositos 60 forman lineas de diseno asargado en la parte 56 posterior, aunque los expertos en la tecnica se daran cuenta de que tal alineacion resulta del patron de tejido particular mostrado en las figuras 2 a 4 y no es una caracteristica necesaria de todas las telas secantes de la presente invencion. En resumen, los depositos 60 podrian ser aplicados a la parte posterior de cualquier tela 50 secante, incluyendo los del tipo de espiral, tal como el mostrado en la Patente de los Estados Unidos No. 4,567,077 de Gauthier, como paso final en el proceso de elaboration.
A su favor, los depositos 60, que en cierto sentido forman un revestimiento discontinuo en la parte 56 posterior de la tela 50 secante, no tienen efecto sobre las propiedades de flexion de la tela 50 secante, puesto que, de manera discontinua en la superficie, no afectan ni a la rigidez de la tela 50 secante, ni a la ubicacion de su eje neutro de flexion.
En una realization alternativa de la presente invencion, la estacion 14 de deposito de polimero opcional, la estacion 24 de formation de imagenes/reparacion, y la estacion 36 de ajuste opcional puede estar adaptada para producir una tela a partir del sustrato 12 base de acuerdo con una tecnica en espiral, en lugar de por indexation en la direccion transversal a la maquina como se ha descrito anteriormente. En una tecnica en espiral, la estacion 14 de deposito de polimero opcional, la estacion 24 de deposito de formacion de imagenes/polimero preciso y la estacion 36 de ajuste opcional comienzan en un borde del sustrato 12 base, por ejemplo, el borde izquierdo de la figura 1, se mueven gradualmente a traves del sustrato 12 base, a medida que el sustrato 12 base se mueve en la direccion indicada en la figura 1. Las velocidades a las que se mueven las estaciones 14, 24, 36 y el sustrato 12 base se ajustan de manera que el material de resina polimerica deseado en la tela terminada se enrosca en espiral sobre el
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substrato 12 base como se desea de una manera continua. En esta alternativa, el material de resina polimerica depositado por la estacion 14 de deposito de pollmero opcional y la estacion 24 de deposicion de imagenes/depositos precisos de pollmero pueden ser parcialmente fijadas o fijadas a medida que cada espiral pasa por debajo del dispositivo 42 de ajuste opcional, y se ajustan completamente cuando todo el sustrato l2 base ha sido procesado a traves del aparato 10.
Alternativamente, la estacion 14 de deposito de pollmero opcional, la estacion 24 de deposito de formacion de imagenes/pollmero preciso y la estacion 36 de ajuste opcional pueden mantenerse fijas. Posiciones alineadas entre si, mientras que el sustrato 12 base se mueve por debajo de ellas, de manera que el material de resina polimerica deseado para la tela acabada puede aplicarse a una tira longitudinal alrededor del sustrato 12 base. Una vez completada la tira longitudinal, la estacion 14 de deposito de pollmero opcional, La estacion 24 de deposicion de pollmero de imagen/precision y la estacion 36 de ajuste opcional se mueven a lo ancho en una cantidad igual a la anchura de la tira longitudinal y se repite el procedimiento para una nueva Longitud adyacente a la previamente completada. De esta manera repetitiva, toda la estructura 12 base puede tratarse completamente segun se desee.
Debe observarse que el material no necesita ser una correa de anchura total, sino que puede ser una tira de material tal como la descrita en la Patente de los Estados Unidos No. 5,360,656 de Rexfelt y posteriormente formada en una correa de anchura total. La tira se puede desenrollar y enrollar sobre un conjunto de rodillos despues del procesamiento completo. Estos rodillos de materiales de cinta se pueden almacenar y pueden usarse para formar una estructura de anchura completa sin fin usando, por ejemplo, las ensenanzas de la patente inmediatamente mencionada.
La figura 5 es una vista en seccion transversal, tomada en direccion longitudinal, de una tela 70 secante que tiene un material de resina polimerico depositado sobre los denominados valles en su superficie trasera para formar depositos discretos y discontinuos de los mismos de acuerdo con la presente invencion. La tela secante 70 se teje a partir de hilos 72 longitudinales e hilos 74 transversales en un tejido plano, aunque debe entenderse que la presente invencion no esta limitada a tal tejido. La parte 76 posterior de la tela 70 secante es la parte inferior de la misma en la vista mostrada en la figura 5. En la realizacion mostrada all!, los valles 78 entre nudillos 80 formados donde los hilos 72 longitudinales se entrelazan bajo hilos 74 transversales tienen depositos 82 discretos y discontinuos de material de resina polimerica construidos por el deposito de pequenas gotitas de los mismos. Los depositos 82 separan la parte 76 posterior de la tela 70 de cualquier superficie, tal como la de un cilindro secador o rollo giratorio, y elevan toda la tela 70 secante con respecto a dicha superficie. Los depositos 82 tambien unen hilos 72 longitudinales a hilos 74 transversales en los puntos de cruce. Los depositos 82, como se ha indicado anteriormente, tienen alturas, relativas a los nudillos 80, en un margen nominal de 0.5 mm a 1.0 mm.
La figura 6 es una vista en seccion transversal, tomada en direccion longitudinal, de una tela 90 secante que tiene un material de resina polimerica depositado sobre dos nudillos consecutivos alineados en la direccion de la maquina y sobre los valles entre su superficie posterior para formar depositos discretos y discontinuos sobre el mismo. La tela 90 secante se teje a partir de hilos 92 longitudinales e hilos 94 transversales en un tejido plano, aunque debe entenderse que la presente invencion no se limita a tal tejido. La parte 96 posterior de la tela 90 secante es la parte inferior de la misma en la vista mostrada en la figura 6. En la realizacion mostrada all!, depositos 98 discretos discontinuos se extienden entre los nudillos 100 adyacentes y cubren el valle 102 entre ellos en el hilo 92 longitudinal, estando formados los nudillos 100 donde los hilos 92 longitudinales se entrelazan bajo los hilos 94 transversales. Los depositos 98 se construyen mediante el deposito de pequenas gotitas de material de resina polimerica y separan la parte 96 posterior de la tela 90 de cualquier superficie, los depositos 98 se construyen mediante el deposito de pequenas gotitas de resina polimerica tal como la de un cilindro secador o rollo giratorio, y elevan toda la tela secante 90 con relacion a dicha superficie. Los depositos 98 tienen alturas, relativas a los nudillos 100, en un margen nominal de 0.5 mm a 1.0 mm. Mientras que la figura 6 muestra los depositos 98 que se ejecutan solo desde un nudillo 100 al siguiente, debe entenderse que se podrlan correr para cualquier longitud deseada, es decir, para cualquier numero de nudillos 100 deseados.
Tambien debe entenderse que, cualquiera que sea la forma (por ejemplo, cuadrada, rectangular, cillndrica, trapezoidal, etc., vease la figura 7), los depositos 60, 82, 98 discretos discontinuos, no necesitan aplicarse a cada nudillo, valle o de otro modo, segun el caso puede ser. Mas bien, pueden estar espaciadas entre si por cualquier numero de nudillos o valles que se interpongan en la direccion de la maquina o transversal a la maquina para definir los patrones deseados en la parte posterior de la tela.
Finalmente, como se ha indicado anteriormente, cuando el sustrato 12 base es sin fin, puede ser necesario invertirlo, es decir, girarlo de adentro hacia afuera, para colocar los depositos discontinuos discretos de material de resina polimerica en la parte posterior de la misma cuando el aparato 10 se utiliza para depositar el material de resina polimerica en el recorrido superior del sustrato 12 base a su traves. Cuando el sustrato 12 base no es sin fin, el lado que recibe los depositos discontinuos discretos se colocara finalmente en el interior cuando el sustrato 12 base se cose en forma sin fin sobre una seccion de secado. En cualquier caso, como se ha mencionado anteriormente, puede haber situaciones en las que se aplica resina al lado de contacto de la lamina ademas de la parte posterior. Tambien, como alternativa, se podrla considerar la deposicion de un material para sacrificar en un patron deseado para crear en esencia un molde para el material de resina depositado posteriormente. Este material para sacrificar
puede ser, por ejemplo, cera o una sustancia soluble en agua que despues se elimina dejando la resina, ajustada en el patron deseado en la tela.
Tambien puede ser deseable aplicar material de resina polimerica diferente en la misma tela en diferentes posiciones por medio de diferentes chorros en el conjunto.
5 Las modificaciones a las anteriores serlan evidentes para los expertos en la tecnica, pero no harlan que la invencion fuera modificada de este modo mas alla del alcance de las reivindicaciones adjuntas. En particular, mientras se describen anteriormente los inyectores piezoelectricos como se usan para depositar el material de resina polimerica en las posiciones preseleccionadas sobre el sustrato base, otros medios para depositar gotitas de los mismos en el intervalo de tamanos deseado pueden ser conocidos por los expertos en la tecnica o pueden desarrollarse en el 10 futuro, y tales otros medios se pueden usar en la practica de la presente invencion. El uso de tales medios no llevarla la invencion, si se practicaba con ella, mas alla del alcance de las reivindicaciones adjuntas.

Claims (24)

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    REIVINDICACIONES
    1. Un metodo para la elaboracion de una tela (50, 70, 90) de fabricacion de papel o industrial, comprendiendo dicho metodo las etapas de:
    a) proporcionar un sustrato (12) base para la tela;
    b) depositar una pluralidad de gotitas de material de resina polimerica sobre posiciones discretas preseleccionadas sobre dicho sustrato (12) base de manera controlada para construir depositos (60, 82, 98) discontinuos, discretos de dicho material de resina polimerica que tienen una altura de al menos 0.5 mm con respecto a una superficie de dicho sustrato base en dichas ubicaciones discretas preseleccionadas, en donde las gotitas tienen un diametro nominal de 10 pm a 100 mm; y
    c) fijar al menos parcialmente dicho material de resina polimerica.
  2. 2. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde las etapas b) y c) se realizan secuencialmente en bandas sucesivas que se extienden a lo ancho a traves de dicho sustrato (12) base.
  3. 3. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde las etapas b) y c) se realizan secuencialmente en tiras sucesivas que se extienden longitudinalmente alrededor de dicho sustrato (12) base.
  4. 4. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde las etapas b) y c) se realizan en espiral alrededor de dicho sustrato (12) base.
  5. 5. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones discretas preseleccionadas sobre dicho sustrato base son nudillos (58) formados por hilos (52) longitudinales pasando dicho sustrato base sobre hilos (54) transversales.
  6. 6. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones preseleccionadas sobre dicho sustrato base son nudillos (58) formados por hilos (54) transversales de dicho sustrato base que pasa sobre hilos (52) longitudinales.
  7. 7. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones preseleccionadas sobre dicho sustrato base son valles (78) entre nudillos (80) formados por hilos (72) longitudinales de dicho sustrato base que pasan sobre hilos (74) transversales.
  8. 8. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones preseleccionadas sobre dicho sustrato base son valles (78) entre nudillos (80) formados por hilos (74) transversales de dicho sustrato base que pasan sobre hilos (72) longitudinales.
  9. 9. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones preseleccionadas sobre dicho sustrato base discurren entre dos nudillos (100) consecutivos formados por hilos (92) longitudinales de dicho substrato base que pasa sobre hilos (94) transversales e incluye el valle (102) entre ellos.
  10. 10. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 4, en donde dicho sustrato (12) base es tejido y en la etapa b), dichas posiciones preseleccionadas sobre dicho sustrato base discurren entre dos nudillos (100) consecutivos formados por hilos (94) transversales de dicho sustrato base que pasa sobre hilos (92) longitudinales e incluye el valle (102) entre ellos.
  11. 11. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 10, en donde, en la etapa b), dicho material de resina polimerica se deposita mediante un conjunto (32) de inyector piezoelectrico que comprende al menos un inyector piezoelectrico controlado por ordenador.
  12. 12. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 11, en donde la etapa b) comprende las etapas de:
    i) comprobar en tiempo real la superficie de dicho sustrato (12) base para localizar las posiciones discretas preseleccionadas y hacer que el deposito de dicho material de resina polimerica sobre dicho material polimerico de resina construya dichos depositos (60, 82, 98) discretos y discontinuos; y
    ii) depositar dicho material de resina polimerica sobre dichas posiciones preseleccionadas que requieren material de resina polimerica para proporcionar a dichos depositos (60, 82, 98) la altura deseada.
    5
    10
    15
    20
    25
  13. 13. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 12, en donde dicha etapa de comprobacion se realiza mediante un procesador de reconocimiento rapido de patrones (FPR) que funciona en conjuncion con una camara (30) de imagenes digitales en tiempo real.
  14. 14. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 13, en donde dicha etapa de deposito se lleva a cabo mediante un conjunto (32) de inyectores piezoelectricos acoplado a dicho procesador FPR.
  15. 15. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 14, en donde dicho material de resina polimerica se selecciona del grupo que consiste en:
    1. fundidos en caliente y fundidos en caliente, curados con humedad;
  16. 2. sistemas reactivos en dos partes basados en uretanos y epoxis;
  17. 3. composiciones de fotopollmeros que consisten en monomeros reactivos acrilados y oligomeros acrilados derivados de uretanos, poliesteres, polieteres y siliconas; y
  18. 4. dispersiones y latex con base acuosa y formulaciones rellenas de partlculas que incluyen acrllicos y poliuretanos.
  19. 16. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde dicha etapa de ajuste se realiza exponiendo dicho material de resina polimerica a una fuente (42) de calor.
  20. 17. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde dicha etapa de ajuste se realiza exponiendo dicho material de resina polimerica al aire frlo.
  21. 18. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 1, en donde dicha etapa de ajuste se lleva a cabo exponiendo dicho material de resina polimerica a radiacion actlnica.
  22. 19. Un metodo como se reivindica en la reivindicacion 11, en donde dicho conjunto (32) de inyector piezoelectrico comprende una pluralidad de inyectores piezoelectricos individuales controlados por ordenador, y en donde algunos de dichos inyectores piezoelectricos controlados por ordenador individuales depositan un material de resina polimerica mientras que otros inyectores piezoelectricos depositan un material de resina polimerica diferente.
  23. 20. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 19, que comprende ademas la etapa de abrasion de dicho material de resina polimerica depositado sobre dicho sustrato (12) base para proporcionar dicho material de resina polimerica por encima del plano de superficie de dicho sustrato base con un espesor uniforme.
  24. 21. Un metodo como se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 20, en donde se deposita un primer material de resina polimerica y se deposita un segundo material de resina polimerica que es diferente del primer material de resina polimerica.
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