MD626G2 - Procedeu de preparare a heterojoncţiunilor p+ InP-pInP/CdS şi p+ GaAs-pGaAs/CdS - Google Patents
Procedeu de preparare a heterojoncţiunilor p+ InP-pInP/CdS şi p+ GaAs-pGaAs/CdSInfo
- Publication number
- MD626G2 MD626G2 MD94-0004A MD940004A MD626G2 MD 626 G2 MD626 G2 MD 626G2 MD 940004 A MD940004 A MD 940004A MD 626 G2 MD626 G2 MD 626G2
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- cds
- reactor
- pgaas
- pinp
- inp
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la tehnologia semiconductorilor şi poate fi utilizată la obţinerea în sistem deschis cu transport de gaze a heterojoncţiunilor p+InP-pInP/CdS şi p+GaAs-pGaAs/CdS pentru celule solare şi fotodiode.Pentru mărirea productivităţii procesului şi a calităţii parametrilor electrofizici ai celulelor solare cu ajutorul procedeului solicitat, care include creşterea structurilor p+InP-pInP şi p+GaAs-pGaAs în sistem de cloruri cu transport de gaze, decaparea chimică, plasarea structurilor în reactor, purjarea reactorului cu hidrogen, încălzirea cuptorului electric, creşterea stratului CdS se efectuează după amplasarea reactorului în cuptor şi stabilizarea temperaturilor, după aceasta reactorul este scos din cuptor, în timpul creşterii debitele fluxului de hidrogen în zona sursei şi în zona de creştere fiind, respectiv, de 150 cm3/min şi 220...240 cm3/min, iar în timpul stabilizării temperaturilor şi în timpul răcirii respectiv de 20...30 cm3/min şi 1000 cm3/min.Rezultatul tehnic constă în reducerea duratei de stabilizare a regimului de temperatură în reactor, ceea ce asigură păstrarea parametrilor electrofizici ai substraturilor şi componenţa sursei, frânarea procesului de difuzie reciprocă a componentelor heterostructurii.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MD94-0004A MD626G2 (ro) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Procedeu de preparare a heterojoncţiunilor p+ InP-pInP/CdS şi p+ GaAs-pGaAs/CdS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MD94-0004A MD626G2 (ro) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Procedeu de preparare a heterojoncţiunilor p+ InP-pInP/CdS şi p+ GaAs-pGaAs/CdS |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD940004A MD940004A (ro) | 1995-07-31 |
| MD626F2 MD626F2 (ro) | 1996-11-29 |
| MD626G2 true MD626G2 (ro) | 1997-06-30 |
Family
ID=19738508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MD94-0004A MD626G2 (ro) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Procedeu de preparare a heterojoncţiunilor p+ InP-pInP/CdS şi p+ GaAs-pGaAs/CdS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD626G2 (ro) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD972Z (ro) * | 2015-02-19 | 2016-06-30 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de creştere a structurii p+InP-p-InP-n+CdS pentru celule fotovoltaice |
| MD4510C1 (ro) * | 2016-06-23 | 2018-03-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de creştere a structurii n+-p-p+ InP pentru celule solare |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4280C1 (ro) * | 2013-09-04 | 2014-10-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de creştere a structurii pInP-nCdS |
-
1994
- 1994-01-13 MD MD94-0004A patent/MD626G2/ro active IP Right Grant
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.Choy Appl. Physics, v. 8, nr. 4, 1977 (M. Bettini, K. J. Bochmann. E. Buchler, J. L. Choy, S.Wagner "Preparation of CdS/InP solar cells by chemical vapor deposition of CdS", p. 1603-1606). * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD972Z (ro) * | 2015-02-19 | 2016-06-30 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de creştere a structurii p+InP-p-InP-n+CdS pentru celule fotovoltaice |
| MD4510C1 (ro) * | 2016-06-23 | 2018-03-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de creştere a structurii n+-p-p+ InP pentru celule solare |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD626F2 (ro) | 1996-11-29 |
| MD940004A (ro) | 1995-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2003069027A3 (en) | Energy efficient method for growing polycrystalline silicon | |
| ATE471397T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines iii-v-nitridfilms | |
| MY100449A (en) | High-oxygen-content silicon monocrystal substrate for semiconductor devices and production method therefor | |
| JPS577131A (en) | Manufacture of p-n junction | |
| Korin et al. | Crystallization of amorphous silicon films using a multistep thermal annealing process | |
| JPS5740940A (en) | Semiconductor device | |
| JPS5717125A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| US3092462A (en) | Method for the manufacture of rods of meltable material | |
| JPS5645899A (en) | Vapor phase growing method for gallium nitride | |
| NO953464L (no) | Fremgangsmåte for fremstilling av et substramateriale for solceller | |
| MY133116A (en) | Process for preparing defect free silicon crystals which allows for variability in process conditions | |
| JPS5648237A (en) | Evacuated gaseous phase reactor | |
| Druminski | Optimization of the Deposition Conditions for Epitaxial Silicon Films on Czochralski Sapphire in the Silane‐Hydrogen System | |
| JPS55120129A (en) | Method for gaseous-phase growth of semiconductor | |
| JPS59137400A (ja) | 低転位密度p型砒化ガリウム単結晶およびその製造方法 | |
| JPS54106081A (en) | Growth method in vapor phase | |
| JPS5618000A (en) | Vapor phase growing method for 3-5 group compound semiconductor | |
| RU2057211C1 (ru) | Способ получения монокристаллического кремния | |
| JPS5795898A (en) | Growing method for silicon single crystal | |
| JPS5717496A (en) | Liquid phase growing method for single crystal of compound semiconductor | |
| JPS6421074A (en) | Method for selectively growing thin metallic film | |
| JPH03236219A (ja) | 半導体基板の表面処理方法 | |
| JPS5948788B2 (ja) | 気相エピタキシヤル成長方法 | |
| JPS57211725A (en) | Liquid epitaxial growth method | |
| JPS5461463A (en) | Vapor phase growth method for semiconductor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG3A | Granted patent for invention | ||
| IF99 | Valid patent on 19990615 |
Free format text: EXPIRES: 20140113 |