MD3327F1 - Procedeu de obtinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf si polimer organic - Google Patents
Procedeu de obtinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf si polimer organicInfo
- Publication number
- MD3327F1 MD3327F1 MDA20060236A MD20060236A MD3327F1 MD 3327 F1 MD3327 F1 MD 3327F1 MD A20060236 A MDA20060236 A MD A20060236A MD 20060236 A MD20060236 A MD 20060236A MD 3327 F1 MD3327 F1 MD 3327F1
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- organic polymer
- photosensitive composite
- obtaining
- semiconductor
- chalcogenide semiconductor
- Prior art date
Links
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
Inventia se refera la un procedeu de obtinere a unui compozit fotosensibil, care poate fi utilizat pentru fabricarea senzorilor optici, purtatori de imagini optice sau de informatie holografica. Procedeul de obtinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf si polimer organic include amestecarea solutiei de As2S3 sau As2Se3 in monoetanolamina cu solutia metanolica de poli-N-vinilpirolidona si omogenizarea amestecului obtinut la temperatura de 20…40°C. Amestecul se depune pe suport si se usuca in termostat, la temperatura de 40…50°C, timp de 5…6 ore, apoi in vid timp de 3…4 ore, cu obtinerea unui compozit avand urmatorulraport al componentelor, % mas.:semiconductor calcogenic 10,0…87,0polimer organic restul.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20060236A MD3327G2 (ro) | 2006-09-27 | 2006-09-27 | Procedeu de obţinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf şi polimer organic |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20060236A MD3327G2 (ro) | 2006-09-27 | 2006-09-27 | Procedeu de obţinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf şi polimer organic |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD3327F1 true MD3327F1 (ro) | 2007-05-31 |
| MD3327G2 MD3327G2 (ro) | 2007-12-31 |
Family
ID=38164631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20060236A MD3327G2 (ro) | 2006-09-27 | 2006-09-27 | Procedeu de obţinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf şi polimer organic |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD3327G2 (ro) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD3634G2 (ro) * | 2007-05-23 | 2009-01-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Procedeu de obţinere a compozitului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf compus şi polimer organic |
| MD3888G2 (ro) * | 2007-11-12 | 2009-12-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de obţinere a nanocompozitului fotoluminescent din CdS şi polimeri organici |
| MD3934C2 (ro) * | 2008-09-08 | 2010-01-31 | Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы | Procedeu de obţinere a substratului de BaF2 cu suprafaţă perfectă |
| MD3976C2 (ro) * | 2008-11-17 | 2010-06-30 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de obţinere a nanocompozitului de CdS în matriţă polimerică |
| MD193Z (ro) * | 2009-06-04 | 2010-11-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Procedeu de obţinere a peliculei polisulfidice |
| MD389Z (ro) * | 2010-05-11 | 2012-01-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Procedeu de obţinere a unui nanocompozit luminofor pe baza compusului coordinativ al Eu3+ şi poli-N-vinilpirolidonei |
| MD503Z (ro) * | 2011-07-29 | 2012-11-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Procedeu de obţinere a unui nanocompozit luminofor pe baza compusului coordinativ al terbiului(III) şi poli-N-vinilpirolidonei |
-
2006
- 2006-09-27 MD MDA20060236A patent/MD3327G2/ro not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD3327G2 (ro) | 2007-12-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MD3327F1 (ro) | Procedeu de obtinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf si polimer organic | |
| MA29627B1 (fr) | Modifications cristallines de la pyraclostrobine | |
| MA31502B1 (fr) | Anticorps anti-notch 1 specifiques a nrr et ses procedes d'utilisation | |
| DE602006010775D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliziumscheiben | |
| EA201170251A1 (ru) | ЗАМЕЩЕННЫЕ ПРОИЗВОДНЫЕ 1,2,3,4-ТЕТРАГИДРОЦИКЛОПЕНТА[b]ИНДОЛ-3-ИЛ)УКСУСНОЙ КИСЛОТЫ, ПРИМЕНИМЫЕ В ЛЕЧЕНИИ АУТОИММУННЫХ И ВОСПАЛИТЕЛЬНЫХ РАССТРОЙСТВ | |
| MA31834B1 (fr) | 5-[(3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-1-arylpropyl)amino]-1h-quinolin-2-ones, leur procédé de production et leur utilisation comme anti-inflammatoires | |
| TW200720500A (en) | A high resistivity silicon structure and a process for the preparation thereof | |
| TW200728491A (en) | Organometallic composition | |
| DK1756202T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af polyforgrenede organiske/uorganiske hybrid-polymerer | |
| FR2912259B1 (fr) | Procede de fabrication d'un substrat du type "silicium sur isolant". | |
| MA31570B1 (fr) | Oxazolidinones substitués et leur utilisation | |
| EA200900747A1 (ru) | Загущающий состав | |
| WO2013042973A3 (ko) | Ｉ-선 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성 방법 | |
| FR2958200B1 (fr) | Procede de polissage chimico-mecanique d'un substrat avec une composition de polissage adaptee pour accroitre l'elimination de l'oxyde de silicium | |
| DK1907396T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af 4-beta-amino-4'-demethyl-4-deoxypodophyllotoxin | |
| BR112013006159A2 (pt) | gerador eletroquímico e processo de realização desse gerador | |
| TW200728357A (en) | Polycarbosilane, manufacture method of the same, silicon dioxide based composition for coatings and silicon dioxide film | |
| MD3888F1 (ro) | Procedeu de obtinere a nanocompozitului fotoluminescent din CdS si polimeri organici | |
| DE112007001452A5 (de) | Verfahren zur Herstellung von wasserstoffreichen Cyclosiloxanen | |
| CY1113279T1 (el) | Φαρμακευτικη συνθεση 271 | |
| ATE523484T1 (de) | Optische lösung a us 3-carbamoylmethyl-5-methyl- hexansäure | |
| MD3174G2 (ro) | Compozit fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf şi polimer organic | |
| DK1873152T3 (da) | Hidtil ukendt fremgangsmåde til oprensning af Moxonidin | |
| MD3634F1 (ro) | Procedeu de obtinere a compozitului fotosensibil in baza de semiconductor calcogenic amorf compus si polimer organic | |
| ATE377630T1 (de) | Siliciumhaltige verbindung, zusammensetzung und isolierfilm |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG4A | Patent for invention issued | ||
| KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) | ||
| MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |