KR980002094A - 염 함량이 낮은 축합 생성물 제제의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

축합 후 남아있는 무기산을 중화시킨 후, 임의로 그들의 염 형태로 무기염 함량이 제제에 대해 10중량% 미만이 될 때까지, 축합 생성물로부터 전체적 또는 부분적으로 분리해내어, 제혁제, 분산제 및 액화제로서 매우 적합한 제제를 얻는, A) 술폰화 방향족 화합물, B) 알데히드 및(또는)케톤, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물, 우레아 및 우레아 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 기재으로 한 축합 생성물의 저염 제제의 제조 방법.

Description

염 함량이 낮은 축합 생성물 제제의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 축합 이후에 존재하는 무기산은 중화시켜, 무기염 함량이 제제에 대해 10중량% 미만이 될 때까지, 임의로 그들의 염 형태로 축합 생성물로부터 전체적으로 또는 부분적으로 분리 내는 것을 특징으로 하는, A) 술폰화 방향족 화합물, B) 알데히드 및(또는) 케톤, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물, 우레아 및 우레아 유도체로 이루어진 군중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 기재로 하는 축합 생성물의 저염 제제의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 무기산을 임의로 그들의 염 형태로, 막 분리 기술을 사용해 분리해 내는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 사용된 막 분리 기술이 한외여과, 확산 투석 또는 전기투석 법인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 막 분리 기술에, 분자량 차단(MWCO) 수준이 1,000 내지 10,000 달톤인 한외여과 막이 사용되는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 축합 생성물이 A) 술폰화 방향족 화합물, B) 포름알데히드, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물로부터 제조된 것인 방법.
  6. A) 술폰화 방향족 화합물, B) 알데히드 및(또는) 케톤, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물, 우레아 및 우레아 유도체로 이루어진 군중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 기재로 하는 축합 화합물을 포함하며, 축합 생성물의 평균 축합도가 5이하이고, 제제의 무기 염 함량이 제제에 대해 10중량% 미만인 제제.
  7. A) 술폰화 방향족 화합물, B) 알데히드 및(또는) 케톤, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물, 우레아 및 우레아 유도체로 이루어진 군중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 기재로 하는 축합 생성물을 포함하며, 잔류 단량체 함량이 축합 생성물을 기준으로 하여 30중량% 미만, 구체적으로는 20중량% 미만이고, 무기 염 함량이 제제를 기준으로 하여 10중량% 미만, 바람직하게는 5중량%미만, 구체적으로는 1중량% 미만인 제제.
  8. A) 술폰화 방향족 화합물, B) 알데히드 및(또는) 케톤, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물, 우레아 및 우레아 유도체로 이루어진 군중에서 선택된 1종 이상의 화합물을 기재로 하는 축합 생성물의 수용액 또는 수현탁액을 MWCO 수준이 80,000 달톤 이상, 구체적으로는 200,000 내지 500,000 달톤인 한외여과 막을 투과시켜 얻을 수 있는, 축합 생성물을 포함하는 제제.
  9. 제6,7 및 8항중 어느 한 항에 있어서, 축합 생성물이 A) 술폰화 방향족 화합물, B) 포름알데히드, 및 임의로는 C) 비술폰화 방향족 화합물로부터 제조된 것인 제제.
  10. 제1 내지 5항중 어느 한 항에 따른 방법으로 얻은 제제 및 제6 내지 9항중 어느 한 항에 따른 제제의 제혁제, 액화제 또는 분산제로서의 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970027101A 1996-06-26 1997-06-25 염 함량이 낮은 축합 생성물 제제의 제조 방법 KR980002094A (ko)

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