KR970705206A - 레이저 공진기, 레이저 장치, 레이저 응용 장치 및 레이저 발진 방법(Laser Resonator, Laser, Laser Applied Unit, Laser Oscillation Method) - Google Patents

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야스노리 후루카와
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Abstract

Cr을 함유하는 불화물로 형성되는 레이저 결정 및 최소한 1개의 광학 부품으로 형성되는 레이저 공진기에 있어서, 공진기 내부의 개구가 실질적으로 레이저 결정으로부터의 발광을 공진기 내부에서 발진해서 형성되는 제1의 레이저 빔의 지름의 5배 이상으로 설정한다.

Description

레이저 공진기, 레이저 장치, 레이저 응용 장치 및 레이저 발진 방법(Laser Resonator, Laser, laser Applied Unit, Laser Oscillation Method).
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (26)

  1. Cr을 함유하는 불화물로 형성되는 레이저 결정 및 최소한 1개의 광학 부품으로 형성되는 레이저 공진기에 있어서, 상기 공진기내부의 개구가 실질적으로 상기 레이저 결정으로부터의 발광을 공진기 내부에서 발진하여 형성되는 제 1의 레이저 빔의 지름의 5배 이상인 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저 결정이 Cr: LiSrAIF6(크롬 첨가의 불화리튬 스트론튬 알루미늄)인 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  3. 제 1 항에 또는 제 2 항에 있어서, 상기 레이저 결정을 온도 제어하는 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 레이저 결정을 입출력 특성이 포화하지 않는 범위에서 온도 제어하기 위한 수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 레이저 결정의 온도T를 0T50℃의 범위에서 온도 제어하기 위한 수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 공진기를 구성하는 복수의 미러의 최소한 1개가 상기 레이저 결정의 일단면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광학부품중 최소한 1개의 부품이 파장 제어 소자인 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 고체 레이저 결정의 발진 파장을 제어하기 위한 상기 제어 소자로서 브류스타각으로 경사진 복굴절 결정을 사용하는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  9. 제 8 항에 있어서 상기 복굴절 결정에 수정(SiO2), LiNbO3, LiTaO3, 액정판의 어느 1종 이상을 사용하는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 복굴절 결정이 두께 0.5mm 이하의 1장의 수정판을 사용한 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  11. 제 1 항 내지 제 10항의 한 항에 있어서, 상기 광학부품이 파장 제어 소자와 비선형광학결정을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1 의 레이저 빔의 적어도 일부가 상기 비선형 광학 결정을 통과하는 것으로서 제 1 의 레이저 빔과는 파장이 다른 제 2 의 레이저 빔으로 변환되는 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 비선형광학결정이 LiB3O5(3붕산리튬), CsLiB3O5(3붕산세슘리튬), β-BaB2O4(붕산발륨), KNbO3(니오브산칼륨), KTaO3(탄탈산칼륨), K-Li-Nb-O(니오브산리튬-칼륨), K-Ta-Nb-O(니오브산, 탄탈산-칼륨), 또는 LiIO3(요오드산리튬)중의 최소한 1개인 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  14. 제 11 항 내지 제 13항의 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저 결정과 비선형 광학 결정을 동시에 또는 단독으로 온도 제어하는 수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 레이저 공진기.
  15. 제 1 항 내지 제 14항의 어느 것에 기재된 레이저 공진기와, 상기 레이저 결정을 여기하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 장치.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 레이저 결정을 여기하기 위한 수단이 반도체 레이저인 것을 특징으로 하는 레이저 장치.
  17. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, Cr: LiSrAIF6로 형성되는 레이저 결정과, 상기 레이저 결정의 일단면에 최소한 1개의 공진기 미러를 형성하여 구성되는 공진기 구조와, 상기 레이저 결정을 여기하기 위한 반도체 레이저와, 상기 레이저 결정으로부터의 발광이 상기 레이저 공진기에 있어서 발진하는 것으로부터 형성되는 파장λ1이 780λ1 1000nm의 제 1의 레이저 빔과 공진기 내부에 삽입된 제 1 의 레이저 빔의 지름의 5배 이상의 개구를 갖춘 파장 제어 소자로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 장치.
  18. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, Cr: LiSrAIF6로 형성되는 레이저 결정과, 상기 레이저 결정의 일단면에 최소한 1개의 공진기 미러를 형성하여 구성되는 공진기 구조와, 상기 레이저 결정을 여기하기 위한 반도체 레이저와, 상기 레이저 결정의 온도T를 0T50℃의 범위에서 온도 제어하기 위한 수단과, 상기 레이저 결정으로부터의 발광이 상기 레이저 공진기에 있어서 발진하여 형성되는 파장λ1이 780λ1 1000nm의 제 1의 레이저 빔과, 상기 공진기 내부에 삽입된 상기 제 1 의 레이저 빔의 지름의 5배 이상의 개구를 갖춘 파장 제어 소자로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 장치.
  19. 제 15 항 또는 제 16항에 있어서, Cr: LiSrAIF6로 형성되는 레이저 결정과, 상기 레이저 결정의 일단면에 최소한 1개의 공진기 미러를 형성하여 구성되는 공진기 구조와, 상기 레이저 결정을 여기하기 위한 반도체 레이저와, 상기 레이저 결정으로부터의 발광이 레이저 공진기에 있어서 발진하여 형성되는 파장λ1이 780λ1 1000nm의 제 1의 레이저 빔과, 상기 공진기 내부에 삽입된 상기 제 1 의 레이저 빔의 지름의 5배 이상의 개구를 갖춘 비선형 광학 결정과, 파장 제어 소자와, 상기 비선형 광학 결정과, 상기 레이저 결정과 비선형 광학 결정을 동시에 또는 각각 단독으로 온도 제어하는 수단과, 제 1의 레이저 빔의 일부에서 다른 파장으로 변환된 제 2의 레이저 빔을 끌어내는 수단을 갖추는 것을 특징으로 하는 레이저 장치.
  20. 제 15 항 내지 제 19 항의 어느 한 항에 기재된 레이저 장치를 사용한 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 레이저 응용 장치가 레이저 프린터 장치인 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 레이저 응용 장치가 광조형 장치인 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  23. 제 20 항에 있어서, 상기 레이저 응용 장치가 광디스크 장치인 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  24. 제 20 항에 있어서, 상기 레이저 응용 장치가 파티클 카운터인 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  25. 제 20 항에 있어서, 상기 레이저 응용 장치가 DNA 시퀀서 장치인 것을 특징으로 하는 레이저 응용 장치.
  26. Cr을 함유하는 불화물로 형성되는 레이저 결정으로부터의 발광을 레이저 공진기에서 발진시켜서 제 1의 레이저 빔을 얻는 레이저 발진 방법에 있어서, 상기 제 1의 레이저 빔의 지름의 실질적으로 5배 이상의 지름의 개구부를 갖춘 공진기중에서 공진시키는 것을 특징으로 하는 레이저 발진 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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