KR970702137A - 브러시의 사출성형 방법(a method of injection molding of brushes) - Google Patents
브러시의 사출성형 방법(a method of injection molding of brushes)Info
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Abstract
날을 바람직하게는 필터링된 음극 아크 플라즈마 원을 이용하여 무정형 다이아몬드로 경질-탄소 코팅함에 의한 예리하고 내구성인 절삭 엣지를 갖는 개선된 면도기와 면도날 및 면도날(16,20,44) 및 유사 절삭 공구의 제조 방법. 적어도 40% sp3탄소 결합, 적어도 45 기가파스칼의 경도 및 적어도 400 기가파스칼의 모듈러스를 갖는 무정형 다이아몬드 코딩(60)이 지지체(50)의 예리한 엣지에 도포된다. 지지체는 기계적으로 허닝될 수 있고, 지지체와 무정형 다이아몬드 코팅 사이에는 개입층이 존재하지 않는다. 코팅은 높은 종횡비를 유지하면서 얇은 날에 강성과 경성을 부여한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (44)
- (a)지지체를 제공하고, (b)이 지지체상에 30° 미만의 협각 및 1200Å 미만의 팁 반경을 갖는 쐐기 형상의 예리한 엣지를 성형한 다음, (c)이 예리한 엣지상에 무정형 다이아몬드층을 침착시키는 단계를 포함하는, 면도날의 성형 방법.
- 청구항 1에 있어서, 지지체가 예리한 엣지를 형성하기 위하여 허닝(honing) 단계의 순서로 기계적으로 연마되는 방법.
- 청구항 1에 있어서, 무정형 다이아몬드 코팅된 절삭 엣지상에 부착성 충합체 코팅을 도포하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 1에 있어서, 절삭 엣지상의 무정형 다이아몬드 코팅이 지지체의 예리한 팁에서 이로부터 40㎛거리까지 적어도 400Å의 두께를 갖는 방법.
- 청구항 1에 있어서, 지지체가 금속이고 무정형 다이아몬드 코팅이 금속 지지체보다 적어도 4배 경질인 방법.
- 청구항 1에 있어서, 무정형 다이아몬드층이 필터링된 음극 아크, 음극 아크, 양극 아크, 탄화수소 가스의 플라즈마 분해, 유도적으로 커를링된 rf에 의한 후-이온화를 이용한 스퍼터 침착, 레이저 융식, 레이저 흡수파 침착(LAWD) 및 이온빔 침착으로 이루어진 그룹중에서 선택된 기술에 의하여 침착되는 방법.
- 청구항 1에 있어서, 무정형 다이아몬드층이 그래파이트 타겟이 위치되어 있는 배기실내의 진공하에서 또는 아르곤 분위기하에서 침착되고, 그래파이트 타겟이 전압인가되며 DC 또는 RF 바이어스가 지체에 인가되면서 예리한 엣지상에 무정형 다이아몬드층이 침착되도록 아크가 그래파이트 타겟상에 충돌되는 방법.
- 청구항 1에 있어서, 플라즈마빔 및 날의 면간의 입사각이 32° 이하인 방법.
- 지지체를 제공하고, 이 지지체상에 30° 미만의 협각 및 1200Å 미만의 팁 반경을 갖는 쐐기 형상의 엣지를 성형한 다음, 이 쐐기 형상의 엣지상에 1200Å 미만의 반경을 제공하도록 무정형 다이아몬드층을 침착시키는 단계를 포함하는, 면도날의 성형 방법.
- 청구항 9에 있어서, 무정형 다이아몬드 재료가 음극 아크에 의하여 침착되는 방법.
- 청구항 9에 있어서, 쐐기 형상의 엣지상의 무정형 다이아몬드 코팅이 적어도 400Å의 두께를 갖는 방법.
- 청구항 11에 있어서, 무정형 다이아몬드 코팅된 절삭 엣지상에 부착성 중합체 코팅을 도포하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 12에 있어서, 절삭 엣지상의 무정형 다이아몬드 코팅이 약 2000Å의 두께를 갖는 방법.
- 적어도 약 0.1mm의 폭 및 20Å 미만의 협각을 갖는 면에 의해 규정된 쐐기 형상의 엣지 및 쐐기 형상의 엣지상의 무정형 다이아몬드층을 갖는 지지체를 포함하는 면도날.
- 청구항 14에 있어서, 무정형 다이아몬드 재료층이 가시광선 영역에서 적어도 40% sp3탄소결합 및 투명성에 의하여 특징지워지는 면도날.
- 청구항 15에 있어서, 무정형 다이아몬드 층이 2 : 1 이상의 종횡비를 갖는 면도날.
- 청구항 16에 있어서, 무정형 다이아몬드 재료층상에 부착성 중합체 코팅을 추가로 포함하는 면도날.
- 청구항 17에 있어서, 무정형 다이아몬드 코팅이 약 2000Å의 두께를 갖는 면도날.
- 쐐기 형상의 엣지, 및 쐐기 형상 엣지의 팁과 블랭크상에 지지체의 예리한 팁에서 이로부터 40㎛ 거리까지 적어도 약 400Å의 두께를 갖고 약 1000Å 미만의 팁 반경을 규정하는 무정형 다이아몬드 재료층을 갖는 지지체를 포함하는 면도날.
- 청구항 19에 있어서, 지지체 강철이고, 쐐기 형상의 엣지가 기계적 연마 단계의 순서에 의해 성형되며, 무정형 다이아몬드 재료가 음극 아크 공정에 의해 성형되는 면도날.
- 청구항 20에 있어서, 무정형 다이아몬드 재료층이 적어도 40%의 sp3탄소 결합을 갖고, 무정형 다이아몬드 재료층상에 부착성 중합체 코팅을 추가로 포함하는 면도날.
- 이격된 피부 접촉면을 갖는 지지체 구조물, 및 이에 고정된 면도날 구조물을 포함하고, 면도날 구조물이 쐐기 형상의 엣지 및 이 위에 존재하는 무정형 다이아몬드층을 갖는 지지체를 포함하며, 무정형 다이아몬드 코팅된 쐐기 형상의 엣지가 피부 접촉면 사이에 배치되는 면도 장치.
- 청구항 22에 있어서, 면도날 구조가 쐐기 형상의 엣지를 갖는 두개의 지지체를 구비하고, 쐐기 형상의 엣지가 피부 접촉면 사이에서 상호 평행하게 배치되는 면도 장치.
- 청구항 23에 있어서, 각각의 무정형 다이아몬드 재료층이 40%이상의 sp3탄소 결합을 갖고; 각각의 무정형 다이아몬드 코팅이 약 2000Å의 두께를 갖고; 각각의 무정형 다이아몬드 재료층상에 부착성 중합체 코팅을 추가로 포함하는 면도날.
- (a)아크 방전을 음극의 기성 탄소 표면에 인가하여 기화 탄소의 플라즈마 스트림을 생성시키고, (b)기화 탄소가 날의 절삭 엣지상에 침착되도록 코팅될 날을 플라즈마 스트림내에 배향시킨 다음, (c)기화 탄소가 엣지의 제1경사면 및 날의 절삭 엣지의 제2경사면에 침착되도록 날을 플라즈마 스트림에 대하여 제공하는 단계를 포함하고, 기화 탄소가 절삭 엣지의 제1 및 제2경사면상에 대략 동등한 평균 침착 속도로 침착되는 제1 및 제2경사면에 의해 경계지워진 절삭 엣지를 갖는 날에 경질 탄소 코팅을 도포하는 방법.
- 청구항 25에 있어서, 날이 다수의 스태킹된 날을 함유하는 스택내 유지되고, 날을 배향하고 날을 제공하는 단계가 다수의 스태킹된 날에서 동시에 수행되는 방법.
- 청구항 26에 있어서, (a)스택내 다수의 날 각각이 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 연결부에 팁을 갖고, 팁이 평면을 그리도록 날이 스태킹되고, (b)플라즈마 스트림이 대략 평행선 세트로 분해될 수 있는 일반적으로 방향성인 스트림이며, (c)날의 배향 단계가 평면에 대해 수직인 선 및 대략적인 평행선 세트중 하나에 의해 규정된 각도가 20 내지 90°범위내에 들어오도록 날을 배치하여 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면중 하나를 상기의 각도에서 플라즈마 스트림에 노출시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 27에 있어서, 날 제공 단계가 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각을 상기 각도에서 플라즈마 스트림에 노출시키는 단계를 포함하는 방법.
- 청구항 28에 있어서, 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각의 노출 단계가 날의 스택 및 플라즈마 스트림을 상호간에 이동시켜, 증가분 침착층이 순차적인 노출동안 각각의 표면상에 형성될 수 있도록 제1 및 제2경사면 각각을 플라즈마 스트림에 순차적으로 노출시키는 추가 단계를 포함하는 방법.
- 청구항 29에 있어서, 증가분 침착층이 3 내지 500Å범위이고 이동 단계가 적어도 두개의 증가분 침착층이 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각에 침착될 때까지 반복되는 방법.
- 청구항 28에 있어서, 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각의 노출 단계가 필터링된 음극 아크원과 함께 기화 탄소의 제2플라즈마 스트림 생성을 위한 제2플라즈마 생성 수단을 사용하여, 침착층이 각각의 표면상에 동시에 형성될 수 있도록 제1 및 제2경사면 각각을 상기의 각도에서 플라즈마 스트림에 동시에 노출시키는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 28에 있어서, 기화 탄소를 날에 침착시키면서 날에 제1전압 바이어스를 인가하고 이어서 제2전압바이어스를 인가하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 32에 있어서, 제1전압 바이어스가 200 내지 2000V 범위이고 제2전압 바이어스가 10 내지 200V 범위인 방법.
- 청구항 33에 있어서, 제1전압 바이어스가 2분 이하의 지속 기간 동안 인가 되는 방법.
- 청구항 25에 있어서, 날이 다수의 날을 보유한 홀더내에서 유지되고, 날의 배향 및 날의 제공 단계가 홀더내에 있으면서 날상에서 수행되는 방법.
- 청구항 35에 있어서, (a)홀더내 다수의 날 각각이 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면의 연결부에 팁을 갖고 팁과 제1 및 제2경사면에 의해 규정된 제1각도를 에워싸며, (b)플라즈마 스트림이 대략적인 평행 세트로 분해될 수 있는 일반적으로 방향성인 스트림이며, (c)날의 배향 단계가 제1각도를 양분하는 선 및 대략적인 평행선 세트중 하나에 의해 규정된 제2 각도가 20 내지 90°범위내에 들어오도록 날을 배치하여, 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면중 하나를 상기의 각도에서 플라즈마 스트림에 노출시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 36에 있어서, 날 제공 단계가 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각을 상기 각도에서 플라즈마 스트림에 노출시키는 단계를 포함하는 방법.
- 청구항 37에 있어서, 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각의 노출 단계가 날의 세트 및 플라즈마 스트림을 상호간에 이동시켜, 증가분 침착층이 순차적인 노출동안 각각의 표면상에 형성될 수 있도록 제1 및 제2경사면 각각을 플라즈마 스트림에 순차적으로 노출시키는 추가 단계를 포함하는 방법.
- 청구항 38에 있어서, 증가분 침착층이 3 내지 500Å범위이고 이동 단계가 적어도 두개의 증가분 침착층이 날의 절삭 엣지 제1 및 제2 경사면 각각에 침착될 때 까지 반복되는 방법.
- 청구항 37에 있어서, 날의 절삭 엣지 제1 및 제2경사면 각각의 노출 단계가 필터링된 음극 아크원과 함께 기화 탄소의 제2플라즈마 스트림 생성을 위한 제2플라즈마 생성 수단을 사용하여 침착층이 각각의 표면상에 동시 형성될 수 있도록 제1 및 제2경사면 각각을 상기의 각도에서 플라즈마 스트림에 동시에 노출시키는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 37에 있어서, 기화 탄소를 날에 침착시키면서 날에 제1전압 바이어스를 인가하고 이어서 제2전압바이어스를 인가하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 청구항 41에 있어서, 제1전압 바이어스가 200 내지 2000V범위이고 제2전압 바이어스가 10 내지 200V범위인 방법.
- 청구항 42에 있어서, 제1전압 바이어스가 2분 이하의 지속 기간 동안 인가되는 방법.
- 제1경사면과 제2경사면에 의해 경계지워지고, 제1 및 제2경사면의 연결부에 팁을 보유하며, 팁과 제1 및 제2경사면에 의해 규정된 각도를 에워싸는 절단 엣지를 갖고, 절단 엣지가 코팅이 팁을 감싸도록 제1 및 제2경사면상에 침착된 경질 탄소 코팅을 포함하며, 경질 탄소 코팅이 제1 및 제2경사면중 하나에 대해 수직으로 측정한 제1두께 및, 각도를 양분하는 선을 따라 측정한 제2두께를 가지며; 제2두께 : 제1두께의 비가 적어도 2 : 1이며, 경질 탄소 코팅의 경도가 적어도 40 기가파스칼인 날.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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