KR970072160A - 건식 식각 장치용 클램프 - Google Patents
건식 식각 장치용 클램프 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970072160A KR970072160A KR1019960010625A KR19960010625A KR970072160A KR 970072160 A KR970072160 A KR 970072160A KR 1019960010625 A KR1019960010625 A KR 1019960010625A KR 19960010625 A KR19960010625 A KR 19960010625A KR 970072160 A KR970072160 A KR 970072160A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- clamp
- wafer
- dry etching
- edge
- etching equipment
- Prior art date
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
건식 식각 장치용 클램프에 있어서, 클램프의 내측 가장자리가 역경사로 제거되어 있어 클램프의 상면에 흡착되는 식각 반응물질이 웨이퍼에 직접 접촉하지 않음으로써 식각 반응물질이 웨이퍼의 표면으로 비산하지 않게 된다. 또한 웨이퍼의 에지 노출 마진이 충분히 확보되어 웨이퍼의 가장자리에 감광막의 찌꺼기가 붙지 않게 된다.
따라서, 클램프에 형성된 식각 반응 물질과 감광막의 찌꺼기로 인한 오염이 방지되어 웨이퍼 상에 불량 칩 발생률의 감소에 따른 생산성의 향상이 이루어진다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 건식 식각 장치용 클램프에 웨이퍼가 클램핑된 상태를 나타낸 요부 단면도.
Claims (4)
- 페데스탈(pedestal)의 상면 상에 웨이퍼를 클램핑하는 클램프를 갖는 건식 식각 장치에 있어서, 상기 클램프의 상면 상에 형성되는, 웨이퍼 상에 형성된 소정의 층의 식각 반응물질이 다음의 웨이퍼의 표면에 접촉하지 않도록 상기 클램프의 내측 가장자리가 역경사로 제거된 것을 특징으로 하는 클램프.
- 제1항에 있어서, 상기 클램프가 웨이퍼에 에지 노출 마진을 확보할 수 있도록 역경사로 제거된 것을 특징으로 하는 클램프.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 클램프가 링 형태인 것을 특징으로 하는 클램프.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 클램프가 핑거(finger) 형태인 것을 특징으로 하는 클램프.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960010625A KR970072160A (ko) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 건식 식각 장치용 클램프 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960010625A KR970072160A (ko) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 건식 식각 장치용 클램프 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970072160A true KR970072160A (ko) | 1997-11-07 |
Family
ID=66223263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960010625A KR970072160A (ko) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 건식 식각 장치용 클램프 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970072160A (ko) |
-
1996
- 1996-04-09 KR KR1019960010625A patent/KR970072160A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR950015677A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
| KR970072160A (ko) | 건식 식각 장치용 클램프 | |
| KR970000198B1 (en) | Process for anisotropically etching semiconductor material | |
| KR970018192A (ko) | 어노우드(Anode) 전극을 갖는 반도체 식각장치 | |
| TW372331B (en) | Manufacturing method for semiconductor integrated circuit apparatus and manufacturing method of phase shift mask for exposing with the semiconductor integrated circuit apparatus | |
| JPS55128830A (en) | Method of working photoresist film | |
| JPS57167659A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| KR970053316A (ko) | 반도체 장비의 웨이퍼 홀더 | |
| KR19980034188A (ko) | 반도체 식각설비의 하측전극판 | |
| KR970053287A (ko) | 웨이퍼 고정장치 | |
| KR960002761B1 (ko) | 웨이퍼 클램프 | |
| KR970016832A (ko) | 산화막의 습식 에칭방법 | |
| KR960000136Y1 (ko) | 감광막 제거용 석영보트 | |
| KR980005787A (ko) | 반도체 제조 공정 | |
| KR970063459A (ko) | 반도체장치의 박막 형성방법 | |
| KR970030256A (ko) | 스핀 코팅장치 | |
| KR970077523A (ko) | 다중금속막 형성방법 | |
| KR910020837A (ko) | 반도체 제조공정의 식각공정방법 | |
| KR950019933A (ko) | 반도체 소자의 제조방법 | |
| KR970077295A (ko) | 반도체소자 제조장치 | |
| KR970072168A (ko) | 반도체장치의 폴리머 증착 억제방법 | |
| KR970077237A (ko) | 반도체소자 제조용 플라즈마 식각장치 | |
| KR920010808A (ko) | 반도체 제조공정 | |
| KR19980016563A (ko) | 반도체 제조공정용 식각장치의 웨이퍼받침대 | |
| KR970060382A (ko) | 반도체 이온주입장비의 척 팁 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |