KR970022508A - 포토마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체소자의 제조장치에 관한 것으로 특히 마스크에 발생되는 결함을 보완하기 위한 포토마스크에 대한 것이다.
종래의 노광장치는 마스크상에 결함이 존재할 경우 그 결함은 웨이퍼에 그대로 전사되므로, 이러한 마스크의 결함은 제거되어야 하며 제거가 불가능할 경우 마스크를 사용할 수 없는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 마스크와 프라운 호퍼면을 통하여 웨이퍼에 패턴을 형성하는 노광장치에 있어서, 공정중 상기 마스크 상에 있는 결함으로 형성된 프라운 호퍼면의 회절로 인하여 발생하는 웨이퍼에 패턴불량 원인을 제거하기 위한 결함제거수단을 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 전체적인 구성도,
제2A도는 마스크를 투과한 빛이 프라운호퍼 면을 지날때의 회절상을 나타낸 것,
제2B도는 마스크에서 빔 프로파일(Beam Profile)을 나타낸 것.
Claims (2)
- 마스크와 프라운 호퍼면을 통하여 웨이퍼에 패턴을 형성하는 노광장치에 있어서, 공정중 상기 마스크상에 있는 결함으로 형성된 프라운 호퍼면의 회절로 인하여 발생하는 웨이퍼에 패턴불량 원인을 제거하기 위한 결함제거수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 결함제거수단은 상기 마스크의 회절상과 동일한 패턴을 갖는 보조마스크를 프라운 호퍼면에 삽입하는 것을 특징으로 하는 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950035609A KR970022508A (ko) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950035609A KR970022508A (ko) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 포토마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970022508A true KR970022508A (ko) | 1997-05-28 |
Family
ID=66583210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950035609A KR970022508A (ko) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 포토마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970022508A (ko) |
-
1995
- 1995-10-16 KR KR1019950035609A patent/KR970022508A/ko not_active Application Discontinuation
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |