KR970018002A - 화학기상 증착장치 및 증착방법 - Google Patents

화학기상 증착장치 및 증착방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법에 관해 게시한다. 반응챔버를 형성하는 벨자(bell jar)와 상기 벨자를 감싸는 벨자 히터(heater)와 상기 벨자 내부에 설치되어 웨이퍼를 가열시키는 히터 블록과 상기 히터 블록 측벽에 형성된 열차단기(thermal shield)와 상기 벨자 내부에서 히터 블록 상부에 형성된 상판(top plate)과 상기 벨자 하부에 형성된 서스 챔버와 상기 벨자 내부에 웨이퍼를 주입하는 로드락포트(load-lock port)와 상기 히터 블록상에 위치한 웨이퍼 장착용 서셉터(susceptor)와 상기 벨자 내부의 진공 형성을 위한 진공포트 및 상기 벨자 내부에 반응가스를 주입하기 위한 반응가스주입구를 구비한 박막 형성 장치를 사용함으로서 박막 균일도가 향상된다.

Description

화학기상 증착장치 및 증착방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 화학기상 증착장치의 개략도이다,
제3도는 상기 제2도의 히터블록(heater block)을 확대 도시한 단면도이다.

Claims (8)

  1. 반응챔버를 형성하는 벨자(bell jar); 상기 벨자를 감싸는 벨자 히터(heater); 상기 벨자 내부에 설치되어 웨이퍼를 가열시키는 히터 블록; 상기 히터 블록 측벽에 형성된 열차단기(thermal shield); 상기 벨자 내부에서 히터 블록 상부에 형성된 상판(top plate); 상기 벨자 하부에 형성된 서스 챔버(sus. chamber); 상기 벨자 내부에 웨이퍼를 주입하는 로드락포트(load-lock port); 상기 히터 블록상에 위치한 웨이퍼 장착용 서셉터(susceptor); 상기 벨자 내부의 진공 형성을 위한 진공포트; 및 상기 벨자 내부에 반응가스를 주입하기 위한 반응가스주입구를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 열차단기는 SiC 원통을 사용하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 상판(top plate)은 SiC로 코팅한 그래파이트(graphite) 또는 유리(quartz)를 사용하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 상판은 높이를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 서셉터는 그 가운데 부분이 상기 웨이퍼 폭만큼 볼록하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 가스주입구의 끝부분은 상기 벨자 내부에 위치하며 상기 상판보다 높게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 열차단기는 가열장치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  8. 반응챔버를 고진공으로 형성하는 단계; 상기 반응챔버 내의 서셉터(susceptor)를 가열하는 단계; 상기 서셉터상에 웨이퍼를 로딩하는 단계; 상기 서셉터의 높이를 열차단기보다 낮게 조절한 상태에서 수분간 대기하는 단계; 상기 서셉터의 높이를 다시 열차단기보다 높게 조절하는 단계; 및 상기 반응챔버에 반응가스를 주입시켜 상기 웨이퍼에 박막 증착을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100402332B1 (ko) * 2001-09-07 2003-10-22 주식회사 시스넥스 균일하게 가스분사가 이루어지는 샤워헤드와유도가열방식에 의해 서셉터 상부의 온도를 균일하게가열하는 수직형 화학기상증착 반응기

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KR100402332B1 (ko) * 2001-09-07 2003-10-22 주식회사 시스넥스 균일하게 가스분사가 이루어지는 샤워헤드와유도가열방식에 의해 서셉터 상부의 온도를 균일하게가열하는 수직형 화학기상증착 반응기

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