KR970017815A - Fed용 실리콘 스페이서와 그 제조방법 - Google Patents

Fed용 실리콘 스페이서와 그 제조방법 Download PDF

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KR970017815A
KR970017815A KR1019950033951A KR19950033951A KR970017815A KR 970017815 A KR970017815 A KR 970017815A KR 1019950033951 A KR1019950033951 A KR 1019950033951A KR 19950033951 A KR19950033951 A KR 19950033951A KR 970017815 A KR970017815 A KR 970017815A
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KR
South Korea
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silicon
mask
fed
spacer
silicon substrate
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Application number
KR1019950033951A
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Inventor
김태곤
황성연
Original Assignee
엄길용
오리온전기 주식회사
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Abstract

본 발명은 FED(Field Emission Display)용 스페이서(Spacer)와 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 실리콘 기판을 식각하여 제조되는 FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제1관점에 따른 FED용 실리콘 스페이서의 제조방법은 소정 두께와 넓이의 실리콘 기판의 한단면에 스페이서의 상단부의 표면적에 대응하는 마스크용 실리콘 절연막을 증착시키는 각주형 마스크 형성단계와, 상기 각주형 마스크가 형성된 실리콘 기판의 반대편 단부에 FED의 셀의 넓이에 대응하는 그물구조의 마스크용 실리콘 절연막을 증착시키는 그물형 마스크 형성단계 및, 상기 각주형 마스크 형성단계와 그물형 마스크 형성단계에 의해 실리콘 절연막 마스크가 형성된 상기 실리콘 기판을 양단면으로부틱 각각 식각하는 식각단계로 구성된 것을 특징으로 하며, 본 발명의 제2관점에 따른 FED용 실리콘 스폐이서는 FED의 캐소우드와 에노드의 사이에 설치되어 캐소우드와 에노드간에 소정의 거리를 유지할 수 있도록 된 스페이서에 있어서, 실리콘 기판의 식각에 의해 FEB의 셀에 대응하는 다수의 구멍이 뚫려 이루어진 그물형상의 실리콘 기판과, 상기 그물형상의 실리콘 기판의 실리콘 띠들이 교차되는 부위에 대응하여 소정의 형태의 기둥이 형성되는 것을 특징으로 한다.

Description

FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예에 따른 FED용 실리콘 스페이서를 나타낸 평면도,
제3도는 제2도 FED용 실리콘 스페이서의 측면도,
제4도는 제2도 FED용 실리콘 스페이서의 교차부 확대도.

Claims (4)

  1. 소정 두께와 넓이의 실리콘 기판의 한단면에 스페이서의 상단부의 표면적에 대응하는 마스크용 실리콘 절연막을 증착시키는 제1마스크 형성단계와, 상기 제1마스크가 형성된 실리콘 기판의 반대편 표면에 FED의 셀의 넓이에 대응하는 그물구조의 마스크용 실리콘 절연막을 증착시키는 제2마스크 형성단계 및, 상기 제1마스크 형성단계와 제2마스크 형성단계에 의해 실리콘 절연막을 마스크로 상기 실리콘 기판의 양단면을 식각하는 식각단계로 구성된 것을 특징으로 하는 FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법.
  2. FED의 캐소우드와 에노드의 사이에 설치되어 캐소우드와 에노드간에 소정의 거리를 유지할 수 있도록 된 스페이서에 있어서, 실리콘 기판의 식각에 의해 FED의 셀에 대응하는 다수의 구멍이 뚫려 이루어진 그물형상의 실리콘 기판과, 상기 그물형상의 실리콘 띠들이 교차되는 부위에 대응하여 소정의 형태의 기둥이 형성되는 것을 특징으로 하는 FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 실리콘 기판이(100)방향이고, 상기의 식각이 방향성 식각인 것을 특징으로 하는 FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1마스크와 제2마스크의 형성은 실리콘 기판의 양면을 산화시키는 산화막 형성단계와, 상기 산화막 형성단계에 의해 산화막이 형성된 실리콘 기판의 양면에 질화막을 형성시키는 질화막 형성단계, 상기 질화 형성단계에 의해 질화막이 형성된 실리콘 기판의 양면에 각각 PR을 도포하여 스페이서 기둥과 그물구조로 패턴화하는 패턴단계, 상기 패턴된 PR을 마스크로 상기 질화막과 산화막을 식각한 후, 마스크의 PR를 제거하는 마스크 형성단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 FED용 실리콘 스페이서와 그 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950033951A 1995-09-30 1995-09-30 Fed용 실리콘 스페이서와 그 제조방법 KR970017815A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100464306B1 (ko) * 1998-09-25 2005-02-28 삼성에스디아이 주식회사 전계방출표시소자및그스페이서제조방법
KR100599769B1 (ko) * 2000-02-02 2006-07-12 삼성에스디아이 주식회사 평판 표시 소자의 박막 패턴 인쇄 방법 및 이 방법에 의해제조된 에미터를 갖는 전계 방출 표시 소자

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