KR960043072A - 반도체 웨이퍼 에지 검사용 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

다수의 반도체 웨이퍼의 에지를 한번에 검사하는 방법과 장치. 웨이퍼는 카세트내에서 지지되고, 매우 뚜렷한 원통형 광선이 웨이퍼의 상부 에지부에 접선방향으로 투사된다. 웨이퍼의에지로부터의 후미산란을 가시적으로 찾음으로서 에지 결함을 발견할 수 있다. 상기 장치를 사용하여 웨이퍼를 회전시키면 웨이퍼의 전체 둘레가 검사된다. 상기 장치는 검사 과정동안 웨이퍼의 연마된 표면을 보호하는 방식으로 웨이퍼를 지지한다.

Description

반도체 웨이퍼 에지 검사용 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 웨이퍼의 에지 결함을 검사하는데 사용되어 도시된 본 발명의 웨이퍼 검사 장치의 측면도.

Claims (10)

  1. 한번의 조작으로 다수의 반도체 웨이퍼를 검사하는 장치에 있어서, 사실상 공통축상에 있는 중심와 일반적으로 원형인 외부 에지를 가지며 사실상 동일한 직경으로 소정의 간격으로 평행상태에 있는 복수개의 웨이퍼를 지지하는 홀더, 상기 웨이퍼의 상기 공통축과 대체로 평행하며 상기 홀더내에서 웨이퍼의 에지에 대체로 접선방향으로 중심 길이방향축을 따라 광의 매우 뚜렷한 원통형 광선을 투사하는 광원, 광선이 상기 웨이퍼의 상기 에지상에 투사되는 동안 웨이퍼의 에지에서 결함을 찾는 웨이퍼 회전용 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광원의 하우징, 상기 하우징을 소정 높이로 설치하기 위한 스탠드 및 상기 광원에의해 투사된 광선의 방향을 바꾸기 위해 상기 스탠드에 의해 하우징의 위치 각도를 조절하기 위한 수단을 구비하는 것을특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 하우징은 일반적으로 수평축에 대하여 주축 회전 동작을 하기 위해 스탠드상에 설치되는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 홀더는 뚫린 상부, 뚫린 저부 및 카세트내에 다수의 평행홈을 만드는 일련의 격벽을가진 카세트를 구비하며, 각각의 홈은 상기 카세트의 뚫린 상부위의 홈으로부터 뻗어있는 각 웨이퍼를 지지하는데 적합하며, 웨이퍼를 회전시키기 위한 상기 장치는, 상기 공통축과 대체로 평행인 축상에서의 회전을 위해 카세트의 뚫린 저부하부에 설치된 롤러를 구비하고, 상기 롤러는 상기 웨이퍼의 에지와 결합하기 적합한 외부표면을 가지고, 롤러 회전용 기구는 상기 롤러의 외부 표면이 웨이퍼와 결합하는 동안 상기 공통축에 의해 웨이퍼를 회전시키는 것을 특징으로 하는다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 홀더에 의해 지지된 상기 웨이퍼의 상부 에지가 상기 광원에 의해 투사된 상기 광선에 대체로 접선방향이 되도록 상기 홀더를 지지하기 위한 지지 시스템을 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 광원은 고정 높이에 있으며, 상기 지지 시스템은 지지물과 직경이 다른 웨이퍼를 수용하기 위해 상기 홀더를 하나이상의 다른 높이에서 지지하기위한 지지물과 결합가능한 하나이상의 장치를 구비하는 것을특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 지지물과 결합가능한 상기 하나이상의 장치 각각은 홀더아래의 지지물상에 위치되기에 적당한 공간 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사용 장치.
  8. 각각 중심과 대체로 원형인 외부 에지를 갖는 다수의 반도체 웨이퍼를 한번의 작동으로 검사하는 방법에있어서, 상기 웨이퍼가 간격을 두고 분리되고 실제적으로 공통축상에 웨이퍼의 중심을 가지고 대체로 서로서로 평행이 되도록 실제 동일한 직경이며 대체로 둥근 다수의 반도체 웨이퍼를 지지하는 단계, 중심 길이방향의 축을 따라 매우 뚜렷한원통형 광선을 상기 웨이퍼의 상기 공통축과 대체로 평행하게 상기 다수의 웨이퍼의 에지와 대체로 접선방향으로 투사하여 에지를 비추는 단계, 상기 웨이퍼의 에지상에 상기 광선이 투사되는 동안 상기 웨이퍼를 회전시키는 단계 및 상기 웨이퍼가 회전할때 웨이퍼의 에지에서 결함을 찾는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 검사 단계는 상기 광원 근처의 상부 위치로부터 가시적인 측정에 의해 수행되며, 상기 가시적 측정은 웨이퍼내의 결함을 인식하기 위해 광선의 후미 산란을 측정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 웨이퍼의 상기 공통축이 고정각에 있도록 상기 웨이퍼를 지지하며, 상기 고정각과 평행이 되도록 상기 광선의 각을 조절하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 다수의 반도체 웨이퍼 검사 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960014902A 1995-05-08 1996-05-07 반도체 웨이퍼 에지 검사용 장치 및 방법 KR100261832B1 (ko)

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