KR960039759A - 광로 조절 장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광로 조절 장치에 제조방법에 관한 것으로서, 멤브레인, 하부전극, 변형부, 상부전극 및 보호막을 순차적으로 형성한 후 각각의 식각 마스크를 사용하여 액츄에이터를 분리하는 과정과 동시에 상기 각각의 식각마스크 상부에 소정의 형태(예를 들면 □, ＋, X)를 형성하여 상부전극에서 희생막의 상부의 소정 부분(예를 들면, 중앙)까지 연직방향으로 개구를 내어 희생막을 제거함으로써 희생막 제거공정시 액츄에이터의 외측에서 내측으로 점진적으로 식각할 뿐만 아니라 희생막의 중앙에서 양측방향으로 식각이 이루어진다. 따라서, 본 발명은 희생막 제거공정시 식각용액이 액츄에이터의 외측에서 내측으로 작용할 뿐만 아니라, 희생막의 중앙에서 작용하여 양측방향으로 희생막이 식각됨으로써 희생막을 용이하게 제거할 수 있다.

Description

광로 조절 장치의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 평면도, 제3도(A) 내지 (D)는 제2도를 b-b선으로 자른 본 발명의 실시 예에 따른 광로 조절 장치의 제조공정도.

Claims (15)

  1. 트랜지스터들을 매트릭스 상태로 내장하고 표면에 상기 트랜지스터들과 전기적으로 연결된 패드들을 갖는 구동기판(51)이 상부에 희생막(55)를 형성하는 공정과, 상기 패드(53)를 주위의 소정 부분의 상기 희생막(55)을 제거하여 상기 구동기판(51)을 노출시키고, 상기 노출된 구동기판(51)과 상기 희생막(55)의 상부에 멤브레인(57)을 형성하는 공정과, 상기 멤브레인(57)의 소정 부분을 상기 패드(53)가 노출되도록 제거하여 제1개구(58)을 형성하고 그 제1개구(58)에 플러그(59)를 형성하는 공정과, 상기 멤브레인(57) 상부에 하부전극(61)을 상기 플러그(59)와 전기적으로 접촉되도록 형성하는 공정과, 상기 하부전극(61)의 상부에 변형부(63)를 형성하는 공정과, 상기 변형부(63)의 상부에 상부전극(65)을 형성하는 공정과, 상기 상부전극(65), 변형부(63), 하부전극(61) 및 멤브레인(57)을 각각의 식각마스크로 상기 구동기판(51)이 노출되도록 하여 이웃하는 액츄에이터들과 분리하는 공정과, 상기 액츄에이터들을 분리하는 공정과 동시에 각각의 식각마스크에 소정 형태를 만들어 상기 상부전극(65)에서 상기 희생막(55)의 상부표면까지 연직방향으로 제24개구를 형성하는 공정과, 기 제24개구(71)가 형성된 후 상기 상부전극(65) 상부와 상기 제24개구(71) 내부에 보호막(67)을 형성하는 공정과, 상기 제24개구(71)와 엑츄에이터(80)의 측면에 식각용액을 작용시켜 희생막(55)을 제거하는 공정을 구비하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 희생막(55)을 PSG 또는 다결정 실리콘으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 멤브레인(57)을 질화실리콘 또는 탄화실리콘의 규화물로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 하부전극(61)을 백금 또는 백금/티타늄을 500∼2000Å의 두께로 증착하여 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 변형부(63)를 BaTiO3, PZT 또는 PLZT의 압전세라믹으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 변형부(63)를 PMN의 전왜세라믹으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 변형부(63)를 회전도포법, 분사법 또는 화학기상침적법으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 변형부(63)를 1∼2㎛의 두께를 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 상부전극(65)을 전기전도도 및 반사특성이 양호한 알루미늄을 스퍼터링 또는 진공 증착하여 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 상부전극(65)을 500∼1000Å의 두께로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  11. 제1항에 있어서, 상기 제24개구(71)를 소정의 형태(예를 들면, □, ＋, X)로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  12. 제1항에 있어서, 상기 상부전극(65)의 상부, 제24개구(71) 내부 및 액츄에이터들의 분리에 의한 측면들에 보호막을 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 보호막(67)을 산화실리콘으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 보호막(67)을 질화실리콘으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 보호막(67)을 포토레지스로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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