KR960039167A - 웨이퍼 세정방법 및 세정장치 - Google Patents

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KR960039167A
KR960039167A KR1019950007837A KR19950007837A KR960039167A KR 960039167 A KR960039167 A KR 960039167A KR 1019950007837 A KR1019950007837 A KR 1019950007837A KR 19950007837 A KR19950007837 A KR 19950007837A KR 960039167 A KR960039167 A KR 960039167A
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KR
South Korea
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wafer
cleaning
ultrasonic
cleaning method
ultrasonic generator
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Application number
KR1019950007837A
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English (en)
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박영택
오영균
김의식
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 세정방법 및 세정장치에 관한 것이다. 수평방향 및 수직방향으로 진행하는 초음파를 이용하여 웨이퍼에 형성된 요부의 모서리부에 흡착되어 있는 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 웨이퍼 세정방법 및 세정장치를 제공한다.

Description

웨이퍼 세정방법 및 세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 제1도의 A-A선을 따라 절취한 상태의 부분 단면도로서, 수평으로 진행하는 초음파와 웨이퍼의 요부간의 관계를 도시한 단면도.

Claims (2)

  1. 세정액이 담겨져 있는 세정조(Bath)에 다수의 요부가 형성된 웨이퍼를 수직으로 위치시킨후, 화학조 하단에 설치한 초음파 발생기를 가동하여 발생된 초음파를 이용하여 웨이퍼 표면에 흡착된 이물질을 제거하는 웨이퍼 세정방법에 있어서, 수직 초음파 발생기에서 발생된 초음파를 수직방향으로 진행시킨후 수평 초음파 발생기에서 발생된 초음파를 수평방향으로 진행시켜 웨이퍼에 형성된 요철부의 모서리부에 흡착된 이물질을 제거시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정방법.
  2. 세정액이 담겨진 상태에서 다수의 요부가 형성된 웨이퍼를 수용하는 세정조와, 상기 세정조 하단에 설치되어 수직방향으로 진행하는 초음파를 발생시키는 초음파 발생기로 이루어진 웨이퍼 세정장치에 있어서, 상기 세정조 측부에 수평방향으로 진행하는 초음파 발생기를 설치하여 상기 웨이퍼의 요부에 수직방향 및 수평방향으로 진행하는 초음파의 파장을 상기 웨이퍼의 요철부에 순차적으로 부딪힐 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950007837A 1995-04-04 1995-04-04 웨이퍼 세정방법 및 세정장치 KR960039167A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010033702A (ko) * 1997-12-31 2001-04-25 페터 옐리히 기판을 처리하기 위한 방법 및 장치

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KR20010033702A (ko) * 1997-12-31 2001-04-25 페터 옐리히 기판을 처리하기 위한 방법 및 장치

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