JPS60261582A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPS60261582A JPS60261582A JP11879584A JP11879584A JPS60261582A JP S60261582 A JPS60261582 A JP S60261582A JP 11879584 A JP11879584 A JP 11879584A JP 11879584 A JP11879584 A JP 11879584A JP S60261582 A JPS60261582 A JP S60261582A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid tank
- vibrator
- ultrasonic waves
- medium
- ultrasonic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体装置等の製造工程上で部品の洗浄に使用
される超音洗浄装置の改良に関するものである。
される超音洗浄装置の改良に関するものである。
半導体装置等の電子部品の製造工程上、広く超音波洗浄
装置が使用されている。例えば第４図に示すように基板
（１）にソルダ付されたリード線（２）を有する電子部
品（３）を洗浄するために超音波洗浄装置（４）の液槽
（５）中に上部から墨下げ、液槽（５）の底面に配置し
た振動子（６）を発振器（図示せず）により駆動し、超
音波を発生させ、この超音波が水（７）等の媒質中を伝
搬し、キャビティションによる被洗浄物の表面の侵食作
用により洗浄する超音波洗浄装置が使用されている。
装置が使用されている。例えば第４図に示すように基板
（１）にソルダ付されたリード線（２）を有する電子部
品（３）を洗浄するために超音波洗浄装置（４）の液槽
（５）中に上部から墨下げ、液槽（５）の底面に配置し
た振動子（６）を発振器（図示せず）により駆動し、超
音波を発生させ、この超音波が水（７）等の媒質中を伝
搬し、キャビティションによる被洗浄物の表面の侵食作
用により洗浄する超音波洗浄装置が使用されている。
上記の超音波洗浄装置は超音波（１６〜２９ＫＨｚ以上
）を発生させるだめの振動子を一般に液槽の底面に配置
している。ところが振動子から発生される超音波は波長
が短く、直進し極めて指向性が強いために液槽の底面か
ら媒質中を上方に向って進行しあらゆる方向へ拡散する
ことが少ない。
）を発生させるだめの振動子を一般に液槽の底面に配置
している。ところが振動子から発生される超音波は波長
が短く、直進し極めて指向性が強いために液槽の底面か
ら媒質中を上方に向って進行しあらゆる方向へ拡散する
ことが少ない。
そのために、第４図に示すように特に洗浄を必要とする
基板（１）の表面が超音波の媒質中の進行方向と一致し
てしまう場合には洗浄効果が期待したほどｉ弓ないとい
う欠点があった。
基板（１）の表面が超音波の媒質中の進行方向と一致し
てしまう場合には洗浄効果が期待したほどｉ弓ないとい
う欠点があった。
この場合、洗浄すべき電子部品（３）の基板（１）の表
面が超音波の進行方向と直角になるように電子部品（３
）を液槽中に吊下げれば良いようであるが、部品の形状
や液槽内に連続的に供給して大量処理する際の必要性等
から上記の状態で吊下げざるを得ない場合がしばしばあ
る。
面が超音波の進行方向と直角になるように電子部品（３
）を液槽中に吊下げれば良いようであるが、部品の形状
や液槽内に連続的に供給して大量処理する際の必要性等
から上記の状態で吊下げざるを得ない場合がしばしばあ
る。
本発明は上記の事情に基づきなされたもので、超音波の
直進性を考慮し超音波を発生させるための振動子を底面
に設けることなく液槽の側面に設け、媒質中を伝搬する
超音波が液槽の水平方向に進行するようにし、被洗浄物
の投入方向を変えること々く洗浄効果を向上せ１．めた
超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
直進性を考慮し超音波を発生させるための振動子を底面
に設けることなく液槽の側面に設け、媒質中を伝搬する
超音波が液槽の水平方向に進行するようにし、被洗浄物
の投入方向を変えること々く洗浄効果を向上せ１．めた
超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
以下に本発明の実施例を第１図ないし第３図を参照して
説明する。
説明する。
第１図において、（１５）は液槽であってこの液槽（１
５）はこの実施例では第３図の平面図に示すように被洗
浄物の洗浄を大量に処理するため長尺のものを用いてい
る。この液槽（１５）の側面（１５ａ）若しくは（１５
１））に振動子（１６）を設け、この振動子（１６）は
発振器（１８）と電気的に接続されている。
５）はこの実施例では第３図の平面図に示すように被洗
浄物の洗浄を大量に処理するため長尺のものを用いてい
る。この液槽（１５）の側面（１５ａ）若しくは（１５
１））に振動子（１６）を設け、この振動子（１６）は
発振器（１８）と電気的に接続されている。
なお振動子（１６）としては磁気ひずみ現象を利用した
磁気ひずみ振動子、圧電現象を利用した圧電振動子、電
気ひずみ現象を利用した電気ひずみ振動子等それぞれの
特長に応じて選定される。（１７）は媒質、例えば純水
であり、この媒質（１７）中に各種電子部品を搭載した
基板（１１）が吊下げ部材（１２）により墨下げられて
いる。
磁気ひずみ振動子、圧電現象を利用した圧電振動子、電
気ひずみ現象を利用した電気ひずみ振動子等それぞれの
特長に応じて選定される。（１７）は媒質、例えば純水
であり、この媒質（１７）中に各種電子部品を搭載した
基板（１１）が吊下げ部材（１２）により墨下げられて
いる。
第２図は上記の振動子（１６）を液槽（１５） ｉの両
側面に配置したもので、その配置方法は、例えば第３図
に示すように液槽（１５）の長手方向に対して千鳥状に
配置する。なお、被洗浄物は液槽（１５）中を矢印の方
向に移動する。
側面に配置したもので、その配置方法は、例えば第３図
に示すように液槽（１５）の長手方向に対して千鳥状に
配置する。なお、被洗浄物は液槽（１５）中を矢印の方
向に移動する。
上記のように液槽（１５）の両側面に配置する場合には
次のような配慮が必要となる。
次のような配慮が必要となる。
すなわち、対向面に振動子（１６）を配置する場合には
発振器（１８）からの発振周波数を互いに異ならしめ振
動子（１６）から発生される超音波が干渉によって互い
に打消し合わないようにするか、第３図のように千鳥状
に配置し、振動子（１６）が対向面に位置しな３− いようにすること等である。
発振器（１８）からの発振周波数を互いに異ならしめ振
動子（１６）から発生される超音波が干渉によって互い
に打消し合わないようにするか、第３図のように千鳥状
に配置し、振動子（１６）が対向面に位置しな３− いようにすること等である。
本発明は上記のように構成したので、振動子から発生さ
れる超音波が液槽底面に対して水平方向に媒質中を進行
し、上部から吊下げた基板の表面に直角に当ることに々
す、超音波の直進性を十分活すことができ洗浄効果が向
上する。
れる超音波が液槽底面に対して水平方向に媒質中を進行
し、上部から吊下げた基板の表面に直角に当ることに々
す、超音波の直進性を十分活すことができ洗浄効果が向
上する。
壕だ、振動子を液槽の両側面に千鳥状に配置する場合に
は洗浄効果が−そう向上し、かつ被洗浄物の大量処理が
短時間でできる等の効果がある。
は洗浄効果が−そう向上し、かつ被洗浄物の大量処理が
短時間でできる等の効果がある。
第１図ないし第３図は本発明の一実施例を示し、第１図
は振動子を液槽の側面に１個備えた図、第２図は同じく
振動子を複数個備えた図、第３図は第２図の平面を示す
図である。 １１ ・・・・・・基 板 １２ ・・・・・・ ω下
げ部材１５・・・・液槽 １５ａ、１５ｂ・・・・側面
１６ ・・・・・・振動子 １７ ・・・・・・媒 質
１８ ・・・・・・発振器 出願人 日本インターナショナル整流器株式会社４− 第４図 ３ ２７ 手続ン市正書（方式） ％式％ ２、発明の名称 超音波洗浄装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、補正命令の日付（発送日） 明細書第５頁「４、図面の簡単な説明、１の欄中、［第
３図は第２図の平面を示す図１の次に「、第４図は従来
から使用されている超音波洗浄装置の説明図」を追加Ｊ
る。
は振動子を液槽の側面に１個備えた図、第２図は同じく
振動子を複数個備えた図、第３図は第２図の平面を示す
図である。 １１ ・・・・・・基 板 １２ ・・・・・・ ω下
げ部材１５・・・・液槽 １５ａ、１５ｂ・・・・側面
１６ ・・・・・・振動子 １７ ・・・・・・媒 質
１８ ・・・・・・発振器 出願人 日本インターナショナル整流器株式会社４− 第４図 ３ ２７ 手続ン市正書（方式） ％式％ ２、発明の名称 超音波洗浄装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、補正命令の日付（発送日） 明細書第５頁「４、図面の簡単な説明、１の欄中、［第
３図は第２図の平面を示す図１の次に「、第４図は従来
から使用されている超音波洗浄装置の説明図」を追加Ｊ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 の側面に配置したことを特徴とする超音波洗浄装置。 （２）複数の前記振動子を前記液槽の対向側面に対して
千鳥状に配置したことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879584A JPS60261582A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879584A JPS60261582A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261582A true JPS60261582A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14745294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11879584A Pending JPS60261582A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261582A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10502695A (ja) * | 1994-07-14 | 1998-03-10 | デー エム テー−ゲゼルシャフト フュア フォルシュング ウント プリューフング ミット ベシュレンクテル ハフツング | コークス炉バッテリの受け器に散水しかつ充填ガスを吸出する方法 |
| JP2015099852A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
| US10090189B2 (en) | 2013-11-19 | 2018-10-02 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus comprising a second jet nozzle surrounding a first jet nozzle |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58137483A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-15 | 株式会社三社電機製作所 | 超音波洗浄方法 |
-
1984
- 1984-06-08 JP JP11879584A patent/JPS60261582A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58137483A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-15 | 株式会社三社電機製作所 | 超音波洗浄方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10502695A (ja) * | 1994-07-14 | 1998-03-10 | デー エム テー−ゲゼルシャフト フュア フォルシュング ウント プリューフング ミット ベシュレンクテル ハフツング | コークス炉バッテリの受け器に散水しかつ充填ガスを吸出する方法 |
| JP2015099852A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
| US10090189B2 (en) | 2013-11-19 | 2018-10-02 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus comprising a second jet nozzle surrounding a first jet nozzle |
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