KR19980040679A - 반도체 기판의 세정 장치 - Google Patents

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KR19980040679A
KR19980040679A KR1019960059903A KR19960059903A KR19980040679A KR 19980040679 A KR19980040679 A KR 19980040679A KR 1019960059903 A KR1019960059903 A KR 1019960059903A KR 19960059903 A KR19960059903 A KR 19960059903A KR 19980040679 A KR19980040679 A KR 19980040679A
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KR1019960059903A
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김용훈
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

반도체 기판의 세정 장치에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치는 세정액이 담겨지는 세정조; 및 상기 세정조에 장착된 복수개의 초음파 진동자들을 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 복수개의 초음파 진동자들에서 발생하는 초음파의 주 진행 방향이 서로 다르기 때문에 종래와 같이 반도체 기판에서부터 분리된 불순물이 재흡착되는 문제는 발생하지 않는다. 따라서, 효과적으로 상기 불순물을 상기 반도체 기판으로부터 제거할 수 있다.

Description

반도체 기판의 세정 장치
본 발명은 반도체 기판의 세정 장치에 관한 것으로, 특히 초음파를 이용하여 반도체 기판을 세정하는 세정 장치에 관한 것이다.
초음파 진동자를 사용하여 초음파를 발생시킴으로써 세정액의 쌍극자(dipole)를 회전시켜 세정액에 담겨져 있는 반도체 기판을 세정할 때, 그 세정 정도는 초음파 진동자에서 발생하는 초음파의 주 진행 방향에 큰 영향을 받는다. 종래에는 하나의 초음파 진동자만을 사용하여 반도체 기판을 세정하였기 때문에 세정 작업이 제대로 이루어지지 않았댜.
도 1은 종래 기술에 의한 반도체 기판의 세정 장치를 설명하기 위한 개략도이다. 구체적으로, 참조 번호 10은 세정조, 20은 상기 세정조(10) 내에 있는 세정액, 30은 상기 세정액(20)에 담겨져 있는 반도체 기판, 32는 상기 반도체 기판(30)의 표면에 달라붙어 있는 불순물, 그리고 40은 상기 불순물(32)이 상기 반도체 기판(30)으로부터 떨어져 나가도록 상기 세정액(20)을 진동시키기 위하여 상기 세정조(10)의 저면에 장착된 초음파 진동자를 각각 나타낸다.
여기서, 상기 초음파 진동자(40)는 상기 세정조(10)의 저면에만 위치하므로 상기 초음파 진동자(40)의 진동에 의해 발생하는 초음파는 상기 세정조(10)의 수직 방향(다)으로 주로 진행하게 된다. 따라서, 상기 불순물(32)이 상기 반도체 기판(30)으로부터 떨어져 나오더라도 상기 반도체 기판(30)으로부터 멀리 분리되지 못하여 상기 반도체 기판(30) 주위에 잔류하다가 상기 반도체 기판(30)의 표면에 재흡착되기 쉽다.
상술한 바와 같이 종래 기술에 의한 반도체 기판의 세정 장치에 의하면, 상기 초음파 진동자(40)가 한 쪽에만 위치하므로 상기 불순물(32)이 상기 반도체 기판(30)에서부터 효과적으로 제거되지 않는다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 반도체 기판 상에 달라 붙어 있는 분술물을 효과적으로 제거할 수 있는 반도체 기판의 세정 장치를 제공하는 데 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 반도체 기판의 세정 장치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치를 설명하기 위한 개략도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치는 세정액이 담겨지는 세정조; 및 상기 세정조에 장착된 복수개의 초음파 진동자들을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치는 상기 복수개의 초음파 진동자들이 상기 세정조의 측면 및 저면에 각각 장착되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치는 상기 복수개의 초음파 진동자들이 각각 서로 다른 주파수를 발생시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치에 의하면, 복수개의 초음파 진동자들에서 발생하는 초음파의 주 진행 방향이 서로 다르기 때문에 종래와 같이 반도체 기판에서부터 분리된 불순물이 재흡착되는 문제는 발생하지 않는다. 따라서, 효과적으로 상기 불순물을 상기 반도체 기판으로부터 제거할 수 있다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치를 설명하기 위한 개략도이다. 구체적으로, 참조 번호 110은 세정조, 120은 상기 세정조(110) 내에 있는 세정액, 130은 상기 세정액(120)에 담겨져 있는 반도체 기판, 132는 상기 반도체 기판(130)의 표면에 달라붙어 있는 불순물, 140은 상기 불순물(132)이 상기 반도체 기판(130)으로부터 떨어져 나가도록 상기 세정액(120)을 진동시키기 위하여 상기 세정조(110)의 저면에 장착된 수직 방향 초음파 진동자, 그리고 150은 상기 세정조(110)의 측면에 장착된 수평 방향 초음파 진동자를 각각 나타낸다.
여기서, 상기 수직 방향 초음파 진동자(130)의 진동에 의해 발생하는 초음파는 상기 세정조(110)의 수직 방향(가)으로 주로 진행하게 되므로, 상기 불순물(132)을 상기 반도체 기판(130)에서부터 분리시키는데 주로 기여한다. 반면, 상기 수평 방향 초음파 진동자(150)의 진동에 의해 발생하는 초음파는 상기 세정조(110)의 수평 방향(나)으로 주로 진행하므로 상기 반도체 기판(130)에서부터 떨어져 나온 상기 불순물(132)을 상기 반도체 기판(130)에서부터 멀리 이동시키는데 주로 기여한다.
즉, 상기 수직 방향 초음파 진동자(140) 및 상기 수평 방향 초음파 진동자(150)에서 각각 발생하는 초음파에 의해 상기 불순물(132)이 상기 반도체 기판(130)의 표면에서부터 효과적으로 제거된다. 또한, 상기 수직 방향 초음파 진동자(140) 및 상기 수평 방향 초음파 진동자(150)가 서로 다른 주파수를 발생하도록 함으로써 경우에 따라 더욱 효율적으로 상기 불순물(132)을 상기 반도체 기판(130)으로부터 제거할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 기판의 세정 장치에 의하면, 복수개의 초음파 진동자들, 예컨데 수평 방향 초음파 진동자(150) 및 수직 방향 초음파 진동자(150)에서 발생하는 초음파의 주 진행 방향이 서로 다르기 때문에 종래와 같은 불순물(132)의 재흡착 문제의 발생없이 효과적으로 상기 불순물(132)을 상기 반도체 기판(130)으로부터 제거할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에만 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.

Claims (3)

  1. 세정액이 담겨지는 세정조; 및
    상기 세정조에 장착된 복수개의 초음파 진동자들을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판의 세정 장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 복수개의 초음파 진동자들이 상기 세정조의 측면 및 저면에 각각 장착되는 것을 특징으로 하는 반도체 기판의 세정 장치.
  3. 제1 항에 있어서, 상기 복수개의 초음파 진동자들이 각각 서로 다른 주파수를 발생시키는 것을 특징으로 하는 반도체 기판의 세정 장치.
KR1019960059903A 1996-11-29 1996-11-29 반도체 기판의 세정 장치 KR19980040679A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100827618B1 (ko) * 2006-05-11 2008-05-07 한국기계연구원 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템
KR101014520B1 (ko) * 2008-10-15 2011-02-14 주식회사 엘지실트론 매엽식 웨이퍼 세정 장치 및 방법

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