CN217432448U - 超声波清洁装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种超声波清洁装置,包括盒体及超声波发生器,所述盒体包括底板及多个侧板,所述侧板围设于所述底板的一侧以形成容置空间。所述超声波发生器设于所述容置空间,所述超声波发生器包括引导管及震荡件,所述震荡件设置于所述引导管的一端,所述震荡件用于产生超声波,所述引导管用于引导所述超声波于所述容置空间内朝多个方向传播。本申请提供的超声波清洁装置可以对待清洁的物件的各个方向进行清洁,有利于提高清洁效果。

Description

超声波清洁装置
技术领域
本申请涉及一种超声波清洁装置。
背景技术
电路板在制作过程中,如,蚀刻、显影等湿法制程中,往往会产生感光树脂碎屑、填充树脂碎屑以及铜屑等污染物,所以在进入下一制作流程之前,需要将污染物清洗干净。
一般情况下,超声波清洁可以应用于电路板制程中的污染物清洁,但是,现有的超声波清洁设备多为单向发射超声波,被清洁的工件的清洁效果不佳。
实用新型内容
鉴于以上内容,有必要提供一种超声波清洁装置,以解决上述问题。
一种超声波清洁装置,包括盒体及超声波发生器,所述盒体包括底板及多个侧板,所述侧板围设于所述底板的一侧以形成容置空间。所述超声波发生器设于所述容置空间,所述超声波发生器包括引导管及震荡件,所述震荡件设置于所述引导管的一端,所述震荡件用于产生超声波,所述引导管用于引导所述超声波于所述容置空间内朝多个方向传播。
进一步地,所述容置空间具有第一方向及与所述第一方向垂直的第二方向,所述超声波发生器包括多个横向超声波发生器及多个纵向超声波发生器,所述横向超声波发生器沿所述第二方向并排设置于所述容置空间内,所述纵向超声波发生器沿所述第一方向并排设置于所述容置空间内。
进一步地,还包括循环组件,所述循环组件包括驱动件、过滤器、进液管、出液管以及循环介质,所述底板贯穿设有出液口,所述侧板设有进液口,所述出液管连通所述出液口和所述过滤器,所述进液管连通所述进液口和所述过滤器,所述驱动件设于所述进液管或出液管上,所述循环介质容置于所述容置空间,所述驱动件用于驱动所述循环介质由所述出液管进入所述过滤器,然后由所述进液管进入所述容置空间。
进一步地,所述盒体还包括隔离板,所述隔离板设于所述容置空间内,所述隔离板连接所述侧板,所述进液口和所述出液口分别设于所述隔离板的相对两侧,所述超声波发生器设于所述隔离板朝向所述进液口的一侧。
进一步地,所述隔离板沿第三方向贯穿设置有多个开槽,所述循环介质可穿过所述开槽,所述第三方向垂直所述第一方向和所述第二方向。
进一步地,还包括温控器,所述温控器设于所述侧板朝向所述容置空间的一侧,所述温控器用于加热或者冷却所述循环介质。
进一步地,所述循环介质为蒸馏水,所述蒸馏水的温度为40℃~60℃。
进一步地,还包括控制单元,所述控制单元电性连接所述超声波发生器、所述驱动件及所述温控器。
进一步地,所述超声波发生器为管状多节式超声波发生器。
进一步地,还包括盖板,所述盖板可拆卸地设置于所述侧板上。
本申请提供的超声波清洁装置的超声波发生器可以线各个方向发生超声波,从而可以实现对待清洁的物件的各个方向的清洁,提高清洁效果。
附图说明
图1为本申请一实施例提供的超声波清洁装置的示意图。
图2为图1所示的超声波清洁装置沿II-II线的剖视图。
主要元件符号说明
超声波清洁装置 100
盒体 10
底板 11
出液口 111
侧板 12
进液口 121
隔离板 13
开槽 131
超声波发生器 20
引导管 21
震荡件 22
横向超声波发生器 23
纵向超声波发生器 24
循环组件 30
驱动件 31
过滤器 32
进液管 33
出液管 34
循环介质 35
温控器 40
控制单元 50
盖板 60
第一方向 A
第二方向 B
第三方向 C
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本申请。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。
请参见图1和图2,本申请一实施例提供一种超声波清洁装置100,所述超声波清洁装置100可以应用于清洁电路板(图未示)上的污染物(图未示)。在本申请的其他实施例,所述超声波清洁装置100还可以应用于清洁首饰、眼镜等。
请参见图1,所述超声波清洁装置100包括盒体10及超声波发生器20。所述盒体10大致呈方形,所述盒体包括底板11及四个侧板12,所述侧板12围设于所述底板11的一侧以形成容置空间R,所述超声波发生器20设于所述容置空间R内。所述超声波发生器20为管状多节式超声波发生器。
所述超声波发生器20包括中空的引导管21及震荡件22,所述震荡件22设置于中空的所述引导管21的一端,所述震荡件22用于产生超声波(图未示),中空的所述引导管21用于引导所述超声波于所述容置空间R内朝各个方向传播,从而可以实现对所述电路板各个方向的清洁,提高清洁效果。其中,所述震荡件22产生超声波的原理在于,所述震荡件22内设置有压电陶瓷片(图未示),该压电陶瓷片在震荡电流的激励下可以产生超声波。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述超声波发生器20包括多个横向超声波发生器23及多个纵向超声波发生器24,所述横向超声波发生器23沿第二方向B并排设置于所述容置空间R内,所述纵向超声波发生器24沿第一方向A并排设置于所述容置空间R内。其中,所述第一方向A为所述容置空间R的高度方向,所述第二方向B为所述容置空空间R的长度方向,通过在不同的方向布置横向超声波发生器23及纵向超声波发生器24,可以进一步减少超声波传播的死角区,使得超声波从各个方向作用于所述容置空间R内任意位置处的待清洁的所述电路板。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述超声波清洁装置100还包括循环组件30,所述循环组件30用于向所述容置空间R内注入干净的循环介质35,所述循环介质35有助于清除所述电路板上的污染物。所述循环组件30包括驱动件31、过滤器32、进液管33、出液管34及循环介质35。所述底板11贯穿设有出液口111,所述侧板12贯穿设有进液口121。所述进液管33连通所述进液口121和所述过滤器32,所述出液管34连通所述出液口111和所述过滤器32,所述驱动件31设于所述进液管33或所述出液管34,所述驱动件31用于驱动所述容置空间R内的污浊的所述循环介质35由所述出液口111及所述出液管34流入所述过滤器32内,所述过滤器32过滤出污浊的所述循环介质35内的杂质以获得清洁的所述循环介质35,该清洁的所述循环介质35经过所述进液管33及所述进液口121进入所述容置空间R内。其中,所述循环介质35为蒸馏水、有机溶剂中的任意一种。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述盒体10还包括隔离板13,所述隔离板13设置于所述容置空间R内,所述隔离板13垂直连接所述侧板12,所述隔离板13于所述底板11相对间隔设置,所述进液口121和所述出液口111分别设于所述隔离板13的相对两侧,所述横向超声波发生器23沿所述第二方向B设置于所述隔离板13背离所述出液口111的一侧,所述纵向超声波发生器24沿所述第一方向A间隔设置于所述隔离板13背离所述出液口111的一侧,所述隔离板13用于隔断所述循环介质35形成对流,提高超声波对所述电路板的清洁效果。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述隔离板13沿第三方向C贯穿设有多个开槽131,所述循环介质35可以穿过所述开槽131,所述第三方向C垂直所述第一方向A和所述第二方向B。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述超声波清洁装置100还包括盖板60,所述盖板60可拆卸地设于所述侧板12远离所述底板11的一端,从而封盖所述容置空间R,所述盖板60可以防止外界杂物落入所述循环介质35内,同时也可以隔档部分噪音。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述超声波清洁装置100还包括温控器40,所述温控器40设置于所述侧板12朝向所述容置空间R的一侧,所述温控器40用于加热或者冷却所述循环介质35。优选地,所述温控器40用于控制蒸馏水的温度为40℃~60℃,根据超声波空化洁净程度,测试蒸馏水中空化洁净度,以40℃~60℃为最佳温度,温度超过60℃,因水分子内压力上升,而导致超声波空化量降低进而洁净量减少,由此设定温度在40℃~60℃最佳。
请参见图1和图2,在本实施例中,所述超声波清洁装置100还包括控制单元50,所述控制单元50电性连接所述超声波发生器20、所述驱动件31及所述温控器40。在本实施例中,所述控制单元50为可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)。在本申请的其他实施例中,所述控制单元50可以为中央处理单元(Central Processing Unit,CPU),数字信号处理器(Digital Signal Processor,DSP)、专用集成电路(ApplicationSpecific Integrated Circuit,ASIC)等。
具体工作时,首先,打开所述盖板60,在所述电路板进入所述容置空间R之前,所述控制单元50控制所述驱动件31开启并且控制所述超声波发生器20关闭。
在所述电路板放入所述容置空间R后,所述控制单元50控制所述驱动件31关闭并且控制所述超声波发生器20开启,所述电路板被清洁。
在清洁完的所述电路板离开所述容置空间R后,所述控制单元50控制所述驱动件31开启并且控制所述超声波发生器20关闭,关闭所述盖板60。
另外,本领域技术人员还可在本申请精神内做其它变化,当然,这些依据本申请精神所做的变化,都应包含在本申请所要求保护的范围。

Claims (10)

1.一种超声波清洁装置,其特征在于,包括:
盒体,包括底板及多个侧板,所述侧板围设于所述底板的一侧以形成容置空间;
超声波发生器,设于所述容置空间,所述超声波发生器包括引导管及震荡件,所述震荡件设置于所述引导管的一端,所述震荡件用于产生超声波,所述引导管用于引导所述超声波于所述容置空间内朝多个方向传播。
2.如权利要求1所述的超声波清洁装置,其特征在于,所述容置空间具有第一方向及与所述第一方向垂直的第二方向,所述超声波发生器包括多个横向超声波发生器及多个纵向超声波发生器,所述横向超声波发生器沿所述第二方向并排设置于所述容置空间内,所述纵向超声波发生器沿所述第一方向并排设置于所述容置空间内。
3.如权利要求2所述的超声波清洁装置,其特征在于,还包括循环组件,所述循环组件包括驱动件、过滤器、进液管、出液管以及循环介质,所述底板贯穿设有出液口,所述侧板设有进液口,所述出液管连通所述出液口和所述过滤器,所述进液管连通所述进液口和所述过滤器,所述驱动件设于所述进液管或出液管上,所述循环介质容置于所述容置空间、所述进液管、所述出液管及所述过滤器内,所述驱动件用于驱动所述循环介质由所述出液管进入所述过滤器,然后由所述进液管进入所述容置空间。
4.如权利要求3所述的超声波清洁装置,其特征在于,所述盒体还包括隔离板,所述隔离板设于所述容置空间内,所述隔离板连接所述侧板,所述进液口和所述出液口分别设于所述隔离板的相对两侧,所述超声波发生器设于所述隔离板朝向所述进液口的一侧。
5.如权利要求4所述的超声波清洁装置,其特征在于,所述隔离板沿第三方向贯穿设置有多个开槽,所述循环介质可穿过所述开槽,所述第三方向垂直所述第一方向和所述第二方向。
6.如权利要求4所述的超声波清洁装置,其特征在于,还包括温控器,所述温控器设于所述侧板朝向所述容置空间的一侧,所述温控器用于加热或者冷却所述循环介质。
7.如权利要求6所述的超声波清洁装置,其特征在于,所述循环介质为蒸馏水,所述蒸馏水的温度为40℃~60℃。
8.如权利要求6所述的超声波清洁装置,其特征在于,还包括控制单元,所述控制单元电性连接所述超声波发生器、所述驱动件及所述温控器。
9.如权利要求1所述的超声波清洁装置,其特征在于,所述超声波发生器为管状多节式超声波发生器。
10.如权利要求1所述的超声波清洁装置,其特征在于,还包括盖板,所述盖板可拆卸地设置于所述侧板上。
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