KR960030099A - 박막 자기 헤드의 제조방법 - Google Patents

박막 자기 헤드의 제조방법 Download PDF

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KR960030099A
KR960030099A KR1019950001558A KR19950001558A KR960030099A KR 960030099 A KR960030099 A KR 960030099A KR 1019950001558 A KR1019950001558 A KR 1019950001558A KR 19950001558 A KR19950001558 A KR 19950001558A KR 960030099 A KR960030099 A KR 960030099A
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film magnetic
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KR1019950001558A
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Inventor
최희석
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 박막 자기 헤드의 제조방법에 관하여 개시한 것으로서, 본 발명에 의한 박막 자기 헤드의 제조방법은 자성막에 Cr 금속마스크를 형성하고, 이 금속마스크를 포토레지스트를 사용하여 반응성 이온증착법(RIE) 또는 화학적 에칭법으로 식각한 다음, 자성막을 이온 빔 증착법에 의해 IB E장비와 Ar개스 및 H2개스 그리고 N2개스를 이용하여 식각함으로써 트랙폭의 미세선폭을 정밀하게 제어할 수 있도록 한 것이다.

Description

박막 자기 헤드의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도는 본 발명에 의한 박막 자기 헤드의 제조방법에 대한 일예를 나타내 보인 개략적 제조공정도이며, 제7도는 제6도에 도시된 본 발명의 제조 공정에서 이온 빔 에칭시 H2및 N2첨가 개스를 사용하지 않은 경우의 각 금속막에 대한 선택성을 나타내 보인 도표, 그리고 제8도는 제6도에 도시된 본 발명의 제조 공정에서 이온 빔 에칭시 H2및 N2첨가 개스를 사용한 경우의 각 금속막에 대한 선택성을 나타내 보인 도표이다.

Claims (3)

  1. 자성막에 금속마스크를 형성하는 단계와; 상기 금속마스크를 포토레지스트를 사용하여 반응성 이온증착법(RIE) 또는 화학적 에칭법으로 식각하는 단계; 및 상기 자성막을 이온 빔 증착법에 의해 식각하는 단계를 순차 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 자성막 식각 단계는 IBE 장비와 Ar개스 및 H2개스 그리고 N2개스를 이용하여 식각하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 금속마스크는 Cr로 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950001558A 1995-01-27 1995-01-27 박막 자기 헤드의 제조방법 KR960030099A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100623419B1 (ko) * 2005-06-29 2006-09-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법

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KR100623419B1 (ko) * 2005-06-29 2006-09-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법

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