KR960014651B1 - 액정표시소자 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

액정표시소자 제조방법

제1도는 종래의 액정표시소자 구성도.

제2도는 본 발명의 액정표시소자 구성도.

제3도는 제2도에 대한 다른 실시예시도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 액정표시소자 셀 2 : 편광판

3 : 절연막 4 : 투명전극막

본 발명은 액정표시소자 제조방법에 관한 것으로, 특히 액정표시소자와 다른 물체 혹은 인체와 접촉되거나 마찰된 후 격리되는 과정에서 상호 전기장의 영향으로 인하여 나타나는 오동작 및 정전기 장애현상을 제거할 수 있는 액정표시소자 제조방법에 관한 것이다.

종래의 액정표시소자는 제1도에 도시된 바와 같이, 액정표시소자(Liquid Crystal Display 이하 LCD라 칭함) 셀(10)의 앞면과 뒷면에 접착제(21)에 의해 편광물질(22) 및 보호막(23)이 적층된 편광판(20)이 일체로 형성되어 있다.

이와 같이 구성된 종래의 액정표시소자에 있어서, 보호막(23)은 실질적 사용에서는 필요없게 되어 제거하게 된다.

상기 보호막(23)을 제거할 경우, 보호막(23)과 소자와의 정전기 장애(ESD)가 발생되어 전기장이 발생되고, 이러한 전기장이 액정을 제어하게 되어 디스플레이 현상이 발생된다. 따라서, 액정표시소자(LCD)를 사용하고자 하는 세트(set)에 장착하고 보호막(23)을 제거할 때 디스플레이 현상이 수십초간 지속 발생되어 다음 공정으로 이동하기 위한 검사기간에 많은 지장을 초래한다. 또한, 액정표시소자의 박막 트랜지스터(TFT)에서와 같은 반도체 스위칭 소자를 갖는 장치에서는, 액정표시소자 셀 및 편광판을 수리시 정전기 장애에 의하여 미세한 박막 트랜지스터가 파괴됨으로써 불량으로 유도하게 된다.

따라서, 소자나 재료의 취급시 대전상태에서 다른 전위물체와 접촉되는 경우 방전되어 피해를 입게되고, 티브이 및 컴퓨터의 모니터와 사람이 정전기 방전에 의해 전기적 쇼크를 받게되는 문제점이 있었다.

본 발명은 이와같은 종래의 문제점을 감안하여, 액정표시소자의 정전기 장애에 의한 디스플레이 소자의 오동작현상을 제거할 수 있고, 박막 트랜지스터와 같은 스위칭소자의 파괴를 막을 수 있도록 함을 특징으로 한다.

즉, 액정표시소자의 앞면, 뒷면, 혹은 앞,뒷면에 ITO 혹은 SnO₂와 같이 투과도가 뛰어난 투명전극막을 형성시킴으로서, 정전기 장애를 제거할 수 있도록 한 것이다.

이하 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

본 발명의 액정표시소자는 제2도에 도시한 바와 같이, 액정표시소자 셀(1)과 편광판(2) 사이에 절연막(3)과 투명전극막(4)을 형성시켜 구성한다.

이와 같은 구조의 액정표시소자 제조방법을 상세히 설명하면 다음과 같다. 상,하 유리판에 알카리이온의 방지막인 SiO₂막을 디핑(dipping) 또는 스퍼터링(Sputtering) 방법으로 300~1000Å두께로 증착하여 산화막을 도포한다. 이어 인듐틴 옥사이드를 스퍼터링 또는 전자빔 증발기를 사용하여 수백~수천 Å의 두께로 증착시키고, 이미지 프로세스(Image Process)에 의해 필요한 패턴을 이루어 투명전극인 인듐틴 옥사이드막을 형성한다. 물론 상기 공정에서 세척공정이 표함됨은 알 수 있을 것이므로 그 설명은 생략하며, 상기 공정은 각 유리판에 각각 실시된다.

그리고 투명전극인 인듐틴 옥사이드막이 형성된 각 유리판상에서 이물, 미립자 등에 의한 인듐틴 옥사이드막 패턴끼리의 쇼트(Short)를 방지하기 위하여 옵셋 롤코팅법(Off-Set Roll Coating Method)에 의하여 수백 Å의 탑코팅을 실시하여 탑코팅막을 이룬다. 이때 탑코팅재로는 투과도가 좋은 SiO₂계를 이용한다. 탑코팅 공정은 탑코팅재의 전사인쇄, 건조, 자외선 조사, 소성 순에 의하여 이루어짐은 알 수 있을 것이다. 이어서 탑코팅막이 적층된 유리판상에 일반적인 방법에 의해 배향막을 형성하고, 액정이 일정한 방향으로 배열될 수 있도록 러빙(Rubbing)을 실시한다. 이때의 러빙천(Rubbing Cloth)의 파일(Pile)길이는 전체적인 기판의 표면이 일정하기 때문에 파일의 길이에 의존하지 않는다. 그러나 1.5~2.0mm의 파일 길이가 바람직하다. 이어 실링 및 액정 주입하여 어셈블리(Assembly)된 액정표시소자 셀(1)의 앞, 뒷면에 200℃ 이하에서 성막이 가능한 스퍼터링(Sputtering) 방법으로 SiO₂를 약 1000Å 정도의 두께로 증착하여 절연막(3)을 형성시킨다. 물론, 상기 공정에서 DI 및 IPA와 같은 유기용제를 사용하여 유리기판 표면에 있는 이물이나 미립자등을 깨끗히 세척하는 세척공정이 포함됨은 알 수 있을것이므로 그 설명은 생략한다.

이어서, 상기와 같은 스퍼터링 방법으로 200℃ 이하의 낮은 온도에서 수백 Å의 두께로 ITO나 SnO₂막을 증착하여 투명전극막(4)을 형성시킨 후, 편광판(2)을 부착시킨다. 상기 공정에서 투명전극막(4)의 형성공정은 일반적으로 알려진 공지의 사실이다.

상기와 같은 방법으로 액정표시소자 셀(1)의 앞,뒷면에 선택적으로 투명전극막(4)을 형성시키거나, 일반적으로 접촉이 빈번한 앞면에 주로 형성시킨다.

상기 투명전극막(4)은 외부의 긁힘(scratch)에 강한 저항력을 갖고 있기 때문에 상기 공정 즉, 어셈블리된 후 투명전극막(4)이 형성되고 나서 그 이후의 공정에 의한 표면의 손상(damage)은 없다. 단, 산 에칭(etching)에는 주의해야할 것이다. 그러나, 이러한 에칭공정도 어셈블리 이후의 공정에는 없는 것이 일반적이다. 또한, 정전기 장애를 제거하기 위한 투명전극막(4) 형성공정은 액정표시소자 셀(1)이 완성된 후에도 100℃ 이하의 저온에서 완성된 액정표시소자(LCD)의 표면에 형성시킬 수 있다. 따라서, 정전기 방지용 투명전극막(4)은 물리적으로 두 물체간의 전위를 같은 레벨로 유지하여 방전이 없도록 하는 것이다.

본 발명에 의한 다른 실시예는 제3도에 도시한 바와 같이, 티브이 또는 컴퓨터 등과 같은 브라운관(CRT)의 외부 유리기판 즉, 최외각 표면에 절연막(3) 및 투명전극막(4)을 형성하면, 정전기 장애가 인체에 영향을 주는 전기적 쇼크 등을 제거할 수 있다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은, 액정표시소자의 셀 표면에 투명전극막을 형성시킴으로써, 정전기 장애를 막을 수 있고, 외부의 긁힘에 의한 표면손상을 막을 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 유리기판에 SiO₂막, 투명전극인 인듐틴 옥사이드막, 탑코팅막 및 배향막을 차례로 적층시켜 실링 및 액정주입하여 액정표시소자를 제조함에 있어서, 어셈블리 후 액정표시소자 셀(1) 표면에 SiO₂계의 절연막(3)을 스퍼터링에 의해 형성하는 단계와 ; 절연막(3) 형성후 ITO 또는 SnO₂계의 투명전극막(4)을 스퍼터링에 의행 형성하는 단계와 ; 투명전극막(4) 형성후 편광판(2)을 부착하는 단계로 형성함을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 투명전극막(4)은 200 이하의 낮은 온도에서 수백 Å의 두께로 스퍼터링 방법에 의해 형성시킴을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.