KR960009243A - 다수의 기능을 가진 광검출기 - Google Patents

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Abstract

이 발명은 노광장비에 관한 것으로, 노광광이 들어오는 마스크 스테이지에 놓인 마스크에는 두 스테이지의 움직임의 평행도를 검출하기 위한 제1마크와, 상기 제1마크와 같이 동작하여 투영렌즈의 배율변화를 측정하기 위한 제2마크와, 투영렌즈의 초점위치를 찾기 위한 제3마크가 새겨져 있고, 상기 마스크 스테이지의 아래에 상기의 노광광을 받아서 결상을 하기 위한 투영렌즈가 위치하며, 그 아래에는 상기 결상되는 워크파스 스테이지가 위치하며, 상기 워크피스 스테이지 위에는 상기 제1마크와 제2마크의 동작을 돕기 위한 제4마크가 새겨져 있고, 상기 워크피스 스테이지 위에 놓여 노광광을 검출하기 위한 제1광검출부와 상기 제3마크의 동작을 돕기 위한 제5마크가 새겨져 있고, 상기 워크피스 스테이지 위에 놓여 노광광을 검출하기 위한 제2광검출부가 놓여 있는 구조로 구성되어,
한종류의 광검출기로써 노광 광원의 광균일도, 투영렌즈의 배율변화감지, 두 스테이지의 움직임에 있어서의 평행도 배출 및 투영렌즈의 초점위치를 자동으로 검출할 수 있는 것을 동작상의 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기에 관한 것이다.

Description

다수의 기능을 가진 광검출기
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 이 발명의 실시예에 따른 다수의 기능을 가진 광검출기의 사시도,

Claims (9)

  1. 노광광이 들어오는 마스크 스테이지와;
    상기의 노광광을 받아서 결상을 하기 위한 투영렌즈와;
    상기 마스크 스테이지 위에 놓여 있으며, 두 스테이지의 움직임의 평행도를 검출하기 위한 제1마크와, 상기 제1마크와 같이 동작하여 투영렌즈의 배율변화를 측정하기 위한 제2마크와, 투영렌즈의 초점위치를 찾기 위한 제3마크가 새겨져 있는 마스크와;
    상기 결상되는 워크피스 스테이지와;
    상기 제1마크와 제2마크의 동작을 돕기 위한 제4마크가 새겨져 있으며, 상기 워크피스 스테이지 위에 놓여 노광광을 검출하기 위한 제1광검출부와;
    상기 제3마크의 동작을 돕기 위한 제5마크가 새겨져 있으며, 상기 워크피스 스테이지 위에 놓여 노광광을 검출하기 위한 제2광검출부로 구성되어짐을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  2. 제1항에 있어서, 상기한 워크피스 스테이지와 워크피스 스테이지의 가장자리에 제1광검출부와 제2광검출부를 위치시킨 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  3. 제1항에 있어서, 상기한 워크피스 스테이지에는 제1광검출부, 제2광검출부만을 위치시키고, 제4마크, 제5마크는 별도의 제2마스크에 새겨서, 상기 제2마스크를 워크피스 스테이지위에 올려놓은 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  4. 제1항에 있어서, 상기한 마스크는 제1마크, 제2마크, 제3마크가 새겨져 있으며, 두 스테이지의 움직임의 평행도를 검출하고, 투영렌즈의 배율변화를 측정하고, 투영렌즈의 초점위치를 찾는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  5. 제1항 또는 2항에 있어서, 상기한 제1광검출부, 제2광검출부 위에 놓인 제4마크, 제5마크 대신에 제4마크, 제5마크가 새겨진 별도의 제2마스크를 사용하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  6. 제1항에 있어서, , 상기한 제1광검출부, 제2검출부의 위치를 워크피스 스테이지의 중심에 두어 워크피스 스테이지의 최대이동거리를 줄이도록 하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  7. 제1항에 있어서, 배율보정, 스테이지의 움직임의 평행도 측정과 투영렌즈의 촛점위치를 찾는데 각각 다른 독립의 제1마크, 제2마크, 제3마크를 사용하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  8. 제1항에 있어서, 상기한 제1마크, 제2마크는 투영렌즈의 초점위치를 찾기 위해 슬릿(slit) 구조를 가진 마크와 광검출기를 사용하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
  9. 제1항에 있어서, 상기한 마크와 광검출기는 스테이지 움직임의 평행도를 검출하고 투영렌즈의 배율변화를 측정하기 위해 비주기적인 배열의 슬릿 구조를 가진 마크와 광검출기를 사용하는 것을 특징으로 하는 다수의 기능을 가진 광검출기.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3318980C2 (de) * 1982-07-09 1986-09-18 Perkin-Elmer Censor Anstalt, Vaduz Vorrichtung zum Justieren beim Projektionskopieren von Masken

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100510454B1 (ko) * 1998-02-10 2005-10-24 삼성전자주식회사 스텝퍼의 패턴 이미지 보정장치 및 이를 이용한 패턴 이미지 보정 방법

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