KR960007813A - 교환가능한 타겟 구조물을 구비하는 회전형 마그네트론 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 타겟 구조물의 효과적인 제거 및 교환을 가능케 하는 개선된 회전형 마그네트론에 관한 것으로 상기 타겟 구조물에 결합하도록 또는 분리되도록 연장될 수 있는 적어도 하나의 스핀들과 자석 구조물의 회전 위치를 선택적으로 고정하기 위하여 타겟 구조물 내부의 자석 구조물로 연장하는 수단을 구비하며 그리고 회전형 마그네트론의 밀봉 하우징과 스핀들 사이에 배치된 카트리지와 일체로 되어 있는 워터 및 진공 밀봉부를 갖는 것이 바람직하다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 회전형 마그네트론의 단부를 개략적으로 분해하여 도시하는 종단면도.
제2도는 본 발명에 따른 제1도의 회전형 마그네트론의 대향 단부를 개략적으로 분해하여 도시하는 종단면도.
제3도는 본 발명에 따른 제1도에 도시된 회전형 마그네트론의 단부 조립체를 개략적으로 도시하는 종단면도.
Claims (9)
- 중심축(38)을 중심으로 회전가능하며 그리고 그 사이에 타겟 길이(L)를 형성하는 제1타겟 단부(14a)와 제2타겟 단부(14b)를 갖는 타겟 실린더(14)의 외측에 형성된 타켓 표면(34): 상기 제1 및 제2타겟 단부를 각각 지지할 수 있는 제1지지 구조물(22)과 제2지구 구조물(24); 상기 제1 및 제2타겟 단부에 각각 결합가능하며 상기 제1 및 제2지지 구조물에 의하여 각각 지지되는 제1스핀들(30)과 제2스핀들(32) 및; 상기 타겟 구조물 내부에 위치하고 타겟 길이를 따라 실질적으로 연장하며 그리고 자석 구조물에 대하여 회전가능한 자석 구조물(40)을 구비한 진공 챔버 내부에 위치하는 회전형 마그네트론 장치에 있어서 상기 제1시핀들은 제1지지구조물에 대하여 충분히 외향 연장하면 제1타겟 단부에 결합되도록 그리고 제1지지 구조물에 대하여 충분히 내향 연자아면 제1타겟 단부로부터 분리되도록 제1지지 구조물에 대하여 축방향으로 이동가능하며 상기 자석 구조물은 중심축을 중심으로 자유 회전 가능하도록 타겟 구조물 내부에 지지되고 상기 제1 및 제2지지 구조물 중 하나에 의하여 지지되며 그리고 상기 하나의 지지구조물로부터 자석 구조물까지 연장하여 상기 하나의 지지 구조물에 대하여 자석 구조물의 회전 위치를 선택적으로 고정하기 위하여 상기 지지 구조물에 대하여 축방향으로 이동가능한 수단(42)을 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제1항에 있어서 상기 지지 구조물에 의하여 지지되며 그리고 지지 구조물로부터 타겟 구조물까지 연장하도록 지지 구조물에 대하여 축방향으로 이동가능한 제1 및 제2스핀들을 위치 설정하기 위한 수단(58,60)과 상기 제1 및 제2스핀들 위치설정 수단이 이에 대하여 축방향으로 그리고 회전식으로 고정되고 제1 및 제2스핀들이 제1 및 제2타겟 단부에 단단히 결합하도록 상기 제1 및 제2스핀들의 축방향 위치를 선택적으로 단단히 고정하기 위하여 상기 보유 수단 내부에 제1 및 제2스핀들 위치설정 수단으 확실하게 보유하도록 타겟구조물 내부에 위치하는 수단(62,64)을 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제1항에 있어서 상기 제2스핀들은 제2지지 구조물에 대하여 충분히 외향 연장하면 제2타겟 단부에 결합하도록 그리고 제2지지 구조물에 대하여 충분히 내향 연장하면 제2타겟 단부로부터 분리되도록 제2지지 구조물에 대하여 축방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제3항에 있어서 상기 지지구조물에 의하여 지지되며 그리고 지지 구조물로부터 타겟 구조물까지 연장하도록 지지 구조물에 대하여 축방향으로 이동가능한 제1 및 제2스핀들을 위치설정하기 위한 수단(58,60)과 상기 제1 및 제2스핀들 위치설정 수단이 이에 대하여 축방향으로 그리고 회전식으로 고정되고 제1 및 제2스핀들이 제1 및 제2타겟 단부에 단단히 결합하도록 상기 제1 및 제2스핀들의 축방향 위치를 선택적으로 단단히 고정하기 위하여 상기 보유 수단 내부에 제1 및 제2스핀들 위치설정 수단을 확실하게 보유하도록 타겟구조물 내부에 위치하는 수단(62,64)을 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제2항 또는 제4항에 있어서 상기 제1스핀들 위치설정 수단은 제1스핀들에 결합하기 위하여 그 외부 표면의 길이를 따라 인접하게 위치하는 구조물(66)을 구비하며 상기 제1스핀들 위치설정 수단이 제1타겟 단부로부터 제1지지구조물에 대하여 내향하여 충분히 철수되면 상기 결합구조물은 제1스핀들과 결합하여 제1스핀들과 철수되는 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제4항에 있어서 상기 제2스핀들 위치설정 수단은 제2스핀들에 결합하기 위하여 그 외부 표면의 길이를 따라 인접하게 위치하는 구조물(68)을 구비하며 상기 제2스핀들 위치설정 수단이 제2타겟 단부로부터 제2지지구조물에 대하여 내향하여 충분히 철수되면, 상기 결합 구조물은 제2스핀들과 결합하여, 제2스핀들과 철수된 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제2항 또는 제4항에 있어서 상기 하나의 지지구조물에 의하여 지지되는 제1 및 제2위치설정 수단중 하나는 중공이며 상기 고정수단은 상기 하나의 위치설정 수장 내부에서 지지되고 또한 위치설정 수단에 대하여 축방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 제1항에 있어서 상기 고정수단의 한 단부는 자석 구조물에 내부에 위치하는 고정부재(74)에 결합할 수 있는 플러그(44)를 구비하는 것을 특징으로 하는 회전형 마그네트론 장치.
- 중심축(38)을 중심으로 회전가능하며 그리고 그 사이에 타겟 길이(L)를 형성하는 제1타겟 단부(14a)와 제2타겟 단부(14b)를 갖는 타겟 실린더(14)의 외측에 형성된 타겟 표면(34); 상기 제1 및 제2타겟 단부를 각각 지지할 수 있는 제1지지 구조물(22)과 제2지지 구조물(24); 상기 제1 및 제2타겟 단부에 각각 결합가능하며, 상기 제1 및 제2지지 구조물에 의하여 각각 지지되는 제1스핀들(30)과 제2스핀들(32) ; 및 상기 타겟 구조물내부에 위치하고 타겟 길이를 따라 실질적으로 연장하며 그리고 자석 구조물에 대하여 회전가능한 자석 구조물(40)을 구비하는 진공 챔버 내부에 위치하는 회전형 마그네트론 장치에서 상기 타겟 구조물을 교환 자석 구조물을 내부에 갖는 교환 타겟 구조물로 교환하는 방법에 있어서 상기 제1 및 제2타겟 단부로부터 제1 및 제2스핀들을 각각 분리시키는 단계, 가장 인접한 제1 및 제2타겟 단부중 하나로부터 가장 인접한 제1 및 제2지지 구조물중 하나에 대하여 상기 분리된 스핀들 중 적어도 하나를 철수시키는 단계, 상기 마그네트론으로부터 타겟 구조물을 제거하는 단계, 그리고 상기 교환 타겟 구조물의 제1 및 제2타겟 단부를 제1 및 제2스핀들에 각각 결합시키는 것을 특징으로 하는 교환 방.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/296,237 US5445721A (en) | 1994-08-25 | 1994-08-25 | Rotatable magnetron including a replacement target structure |
US08/296,237 | 1994-08-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960007813A true KR960007813A (ko) | 1996-03-22 |
Family
ID=23141193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950026773A KR960007813A (ko) | 1994-08-25 | 1995-08-24 | 교환가능한 타겟 구조물을 구비하는 회전형 마그네트론 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5445721A (ko) |
EP (1) | EP0698908A3 (ko) |
JP (1) | JPH0867979A (ko) |
KR (1) | KR960007813A (ko) |
CN (1) | CN1126770A (ko) |
AU (1) | AU2498395A (ko) |
CA (1) | CA2155295A1 (ko) |
FI (1) | FI953986A (ko) |
PH (1) | PH31196A (ko) |
TW (1) | TW274161B (ko) |
ZA (1) | ZA956122B (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-08-25 US US08/296,237 patent/US5445721A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-07-07 TW TW084107047A patent/TW274161B/zh active
- 1995-07-13 AU AU24983/95A patent/AU2498395A/en not_active Abandoned
- 1995-07-19 PH PH50946A patent/PH31196A/en unknown
- 1995-07-21 ZA ZA956122A patent/ZA956122B/xx unknown
- 1995-08-02 CA CA002155295A patent/CA2155295A1/en not_active Abandoned
- 1995-08-16 EP EP95305728A patent/EP0698908A3/en not_active Withdrawn
- 1995-08-24 JP JP7215730A patent/JPH0867979A/ja active Pending
- 1995-08-24 KR KR1019950026773A patent/KR960007813A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-08-24 FI FI953986A patent/FI953986A/fi not_active Application Discontinuation
- 1995-08-25 CN CN95109394A patent/CN1126770A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI953986A0 (fi) | 1995-08-24 |
JPH0867979A (ja) | 1996-03-12 |
EP0698908A2 (en) | 1996-02-28 |
AU2498395A (en) | 1996-03-07 |
ZA956122B (en) | 1996-03-07 |
CA2155295A1 (en) | 1996-02-26 |
PH31196A (en) | 1998-04-24 |
US5445721A (en) | 1995-08-29 |
EP0698908A3 (en) | 1997-12-10 |
TW274161B (ko) | 1996-04-11 |
CN1126770A (zh) | 1996-07-17 |
FI953986A (fi) | 1996-02-26 |
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