JP2017002350A - マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット - Google Patents
マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017002350A JP2017002350A JP2015116412A JP2015116412A JP2017002350A JP 2017002350 A JP2017002350 A JP 2017002350A JP 2015116412 A JP2015116412 A JP 2015116412A JP 2015116412 A JP2015116412 A JP 2015116412A JP 2017002350 A JP2017002350 A JP 2017002350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- inner cylinder
- drive block
- cathode unit
- cylindrical body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】磁石ユニットを軸線回りに回転させてその姿勢を簡単に変えることができるマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットRCを提供する。【解決手段】筒状のターゲットTg1,Tg2と、このターゲットの内部空間に配置される磁石ユニットとMuと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックDb1,Db2とを備える。駆動ブロックが、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる固定の内筒体12を備え、ターゲットの内部空間までその軸線方向に沿ってのびる部分に磁石ユニットが設けられる。内筒体が駆動ブロックの保持部に締結部材Bを介して締結され、締結手段により保持部と内筒体とを仮締結した状態で内筒体の軸線回りの回転をガイドするガイド部12bが保持部に設けられる。【選択図】図6
Description
本発明は、マグネトロンスパッタリング装置に用いられる回転式カソードユニットに関する。
この種の回転式カソードユニットは例えば特許文献1で知られている。このものは、真空チャンバ内を一定の速度で移送される基板の成膜面に対して高成膜レートで成膜するものであり、2本の筒状のターゲットと、このターゲットの内部空間に配置されて磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲットの母線に沿ってのびてレーストラック状に閉じるようにターゲット表面から漏洩する磁場を発生させる磁石ユニットと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックとを備えている。各ターゲットは、その母線方向が基板の移送方向に対して直交する方向に位置させて且つ移送方向に所定間隔を存して真空チャンバ内に設置される。駆動ブロックには、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる固定の内筒体を備え、内筒体は、ターゲットの駆動ブロック側の一側から他側に亘ってターゲットの内部空間を軸線方向に沿ってのびる部分を有し、この部分で磁石ユニットが保持されている。また、内筒体の周囲にはこれと同心に外筒体が設けられ、駆動手段により回転駆動されるこの外筒体にターゲットの軸線方向一端が連結されている。
ところで、上記磁石ユニットにより漏洩磁場を作用させた状態でターゲットをスパッタリングする場合、ターゲットと基板との間の空間にレーストラック状のプラズマが発生し、このプラズマ形状が転写されるかの如く、ターゲットの外表面がスパッタリングされる。そして、スパッタリングにより生じたスパッタ粒子が所定の飛散角度で基板に向けて飛散して基板の成膜面に付着する。このとき、高成膜レートを達成するには、両ターゲットの外表面からのスパッタ粒子が基板の所定領域に合焦するように磁石ユニットを夫々傾ける必要がある。このことから、簡単な作業で磁石ユニットの軸線回りに回転させてターゲット内での磁石ユニットの姿勢を変えることができるようにしておくことが望まれている。
本発明は、以上の点に鑑み、簡単な作業で磁石ユニットの軸線回りに回転させてターゲット内での磁石ユニットの姿勢を変えることができるように構成したマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットを提供することをその課題とするものである。
上記課題を解決するために、筒状のターゲットと、このターゲットの内部空間に配置されて磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲットの母線に沿ってのびてレーストラック状に閉じるようにターゲット表面から漏洩する磁場を発生させる磁石ユニットと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックとを備える本発明のマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットは、駆動ブロックが、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる固定の内筒体と、内筒体と同心に配置されてターゲットの軸線方向一端が連結される外筒体と、この外筒体を回転駆動する駆動手段とを有し、内筒体はターゲットの内部空間までその軸線方向に沿ってのびる部分を有し、この部分に磁石ユニットが設けられ、内筒体が駆動ブロックの保持部に複数個の締結部材を介して締結され、締結手段により保持部と内筒体とを仮締結した状態で内筒体の軸線回りの回転をガイドするガイド部が設けられることを特徴とする。
本発明によれば、締結手段による駆動ブロックの保持部と内筒体との締結を解消して仮締結した状態とし、この状態では、ガイド部に案内されて内筒体を軸線回りに回転できるため、磁石ユニットの姿勢を変えることができる。そして、両ターゲットの外表面からのスパッタ粒子が基板の所定領域に合焦するように磁石ユニットの姿勢(傾き)を調整した後、締結手段により保持部と内筒体とを再度締結する。このように本発明では、簡単な作業で磁石ユニットの軸線回りに回転させてターゲット内での磁石ユニットの姿勢を変えることができる。
本発明においては、前記締結部材は頭付きボルトであり、前記ガイド部は、同一の円周上に沿って湾曲してのびる長円状の貫通孔であるとすれば、簡単な作業で磁石ユニットの軸線回りに回転させてターゲット内での磁石ユニットの姿勢を変える構成が実現できる。
以下、図面を参照して、本発明のマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットの実施形態を説明する。以下において、図2に示す回転式カソードユニットの水平姿勢で図外の真空チャンバに配置されるものとし、これを基準として鉛直方向としての「上」、「下」並びに「右」、「左」と言った方向を示す用語を用いるものとする。
図1を参照して、RCは、本発明の実施形態の回転式カソードユニットであり、図外の真空チャンバ内で成膜対象物たる基板Wに上下方向で対向配置される2本の円筒状のターゲットTg1,Tg2を備える。各ターゲットTg1,Tg2の右端にはクランプCpを介して駆動ブロックDb1,Db2が夫々連結されると共に、各ターゲットTg1,Tg2の左端にはクランプCpを介して支持ブロックSb1,Sb2が夫々連結され、これらが架台St上に設置されている。そして、架台Stの右端に連結された支持プレートSpを介して図外の真空チャンバの所定位置に回転式カソードユニットRCが着脱自在に取り付けられる。
ここで、各ターゲットTg1,Tg2、駆動ブロックDb1,Db2及び支持ブロックSb1,Sb2が夫々同一の形態であるため、図2及び図3も参照して、その一方の駆動ブロックDb1を例に説明すると、駆動ブロックDb1はハウジング11を備え、ハウジング11内には左右方向にのびる断面円形の内筒体12が設けられている。固定配置される内筒体12の周囲には、この内筒体12と同心に断面円形の外筒体13が配置されている。外筒体13の内周面には、径方向にくぼむ環状の凹部13aが設けられ、この凹部13aを介して内筒体12と外筒体13とを導通するブラシ14が設けられている。外筒体13は、複数の軸受15aを介してハウジング11に内挿された支持部材16で回転自在に支持されている。外筒体13には、軸受15aの左右方向両側に位置させてオイルシール15bが外挿されている。
また、駆動ブロックDb1には、外筒体13を回転駆動してこれに連結されるターゲットTg1を回転駆動する駆動手段2が設けられている。駆動手段2は、架台Stに格納されるモータ21と、モータ21の駆動軸に設けたプーリ―22と外筒体13の外周面との間に巻き掛けられるベルト23とを備える。外筒体13の左端には、導電性のフランジ17と冷却水の流れを規制する規制板18とが液密に取り付けられ、このフランジ17を介してクランプCpにより後述のターゲットTg1のバッキングチューブ41と連結されている。これにより、モータ21を駆動して外筒体13を回転駆動すると、この外筒体13と一体にターゲットTg1が所定の回転数で回転駆動される。また、内筒体12は、ブラシ14を介して外筒体13と導通し、この外筒体13が、フランジ17を介してバッキングチューブ41、ひいてはターゲット材42に導通している(つまり、内筒体12とターゲット材42とが同電位となる)。
ハウジング11には、内部に元往路19aと元復路19bとが夫々設けられた導電性の元管19が設けられ、一端がハウジング11を貫通して内筒体12までのびて元往路19aが内筒体12の内部空間12aに連通し、元復路19bが内筒体12と外筒体13との間の空間13bに連通している。元管19の他端は、公知の構造を有する冷媒循環手段としてのチラーユニットChに接続されている。また、元管19には、図外のスパッタ電源からの出力ケーブルPkが接続されている。これにより、モータ21により外筒体13を回転駆動してターゲットTg1を回転駆動しながら、スパッタ電源からの出力ケーブルPkを介してターゲットTg1に例えば負の電位を持った所定電力を投入することができる。
支持ブロックSb1には、軸受31で支承された被動軸32が設けられ、ターゲットTg1の一端を回転自在に支持するようになっている。ターゲットTg1,Tg2は、円筒状のバッキングチューブ41と、バッキングチューブ41にインジウムやスズなどのボンディング材(図示せず)を介して接合される円筒状のターゲット材42とで構成される。ターゲット材42としては、基板Wに成膜しようする膜の組成に応じて金属や金属化合物の中から適宜選択されたものが用いられる。
図4及び図5も参照して、バッキングチューブ41内は、ターゲット材42の母線方向略全長に亘ってのびる管体43が挿設され、その右端が内筒体12の左端に連結されている。本実施形態では、管体43によって、ターゲットTg1,Tg2の内部空間までその軸線方向に沿ってのびる内筒体12の部分が構成される。管体43の内部空間は冷媒を循環するときの往路44を構成し、往路44の右端が内筒体12の内部空間12aに連通している。他方、管体43とバッキングチューブ41との間の空間は冷媒を循環するときの復路45を構成し、この復路45が内筒体12と外筒体13との間の空間13bに連通している。これにより、チラーユニットChから元管19の元往路19aと内筒体12の内部空間12aとを経て往路44に達し、支持ブロックSb1,Sb2側の端部で復路45に戻ってこの復路45から空間13bに達し、元管19の復路19bからチラーユニットChへと戻る冷媒循環通路が形成され、スパッタリング中、ターゲット材42を冷媒との熱交換で冷却することができる。
また、バッキングチューブ41内には、管体43で支持させて、ターゲットTg1,Tg2と基板Wとの間に磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲットTg1,Tg2の母線に沿ってのびてレーストラック状に閉じるようにターゲットTg1,Tg2表面から漏洩する磁場Mfを発生する磁石ユニットMuが組み込まれている(図6も参照)。磁石ユニットMuは、ターゲットTg1,Tg2の略全長に亘る長さのヨーク51を備える。本実施形態では、ヨーク51が略均等に4分割され、ヨーク51の各部分は管体43を貫装した支柱52で夫々支持されている。ヨーク51の各部分は、基板Wに平行な頂面51aと、頂面51aから夫々下方に向かって傾斜する傾斜面51bとを形成した磁性材料製の板状部材で構成される。ヨーク51の頂面51aには中央磁石53が配置されると共に、両傾斜面51bには周辺磁石54が夫々配置されている。なお、特に図示して説明しないが、ヨーク51の頂面51aの母線方向両端には、中央磁石53の端部を囲うようにして周辺磁石54相互の間を橋し渡すようにコーナー磁石(図示せず)が配置されている。この場合、中央磁石53、周辺磁石54及びコーナー磁石としては、同磁化のネオジウム磁石が用いられ、例えば一体に成形した断面略四角形の棒状のものが利用できる。
ところで、上述のように回転式カソードユニットRCを構成し、漏洩磁場Mfを作用させた状態で両ターゲットTg1,Tg2を同時にスパッタリングする場合、ターゲットTg1,Tg2と基板Wとの間の空間に2つのレーストラック状のプラズマが発生し、このプラズマ形状が転写されるかの如く、ターゲット材42の外表面がスパッタリングされる。そして、スパッタリングにより生じたスパッタ粒子が所定の飛散角度で基板Wに向けて飛散して基板Wの成膜面に付着する。このとき、高成膜レートを達成するには、図5に示すように、各ターゲット材42の外表面からのスパッタ粒子が基板Wの所定領域に合焦するように磁石ユニットMuを夫々傾けてセットする必要があり、これには、簡単な作業で磁石ユニットMuの軸線回りに回転させてターゲットTg1,Tg2内での磁石ユニットMuの姿勢を変えることができるようにしておく必要がある。
本実施形態では、内筒体12が駆動ブロックDb1,Db2の保持部に締結部材を介して締結され、締結手段により保持部と内筒体12とを仮締結した状態で内筒体12の軸線回りの回転をガイドするガイド部を内筒体12に設けることとした。具体的には、図3,6に示すように、内筒体12の右端に、径方向に延出するフランジ部12bを設けると共にこのフランジ部12bにその板厚方向たる左右方向に貫通する4個の貫通孔12cを径方向に所定間隔を存して形成している。そして、締結手段を頭部B1とねじ山を設けた軸部B2とで構成されるボルトB、駆動ブロックDB1の保持部を支持部材16とし、各ボルトBを各貫通孔12cに通し、その軸部B2の先端を支持部材16に所定位置に夫々形成したタップ孔(図示せず)に螺合していく。この場合、各貫通孔12cの内周面が支持部材16側の小径孔部121とこれに連続する大径孔部122とで構成され、大径孔部122の小径孔部121との境界面で頭部B1が係止されると、各ボルトBにより内筒体12が支持部材16に締結され、内筒体12が支持部材16に固定される。
また、各貫通孔12cは、同一の円周上に沿って湾曲してのびる長円状に形成され、軸部B2の先端がタップ孔に螺合しているが、大径孔部122の小径孔部121との境界面で頭部B1が係止されていない仮締結状態では、内筒体12が各貫通孔12cに案内されて軸線回りに回転することができ、磁石ユニットMuの姿勢を変えることができる。この場合、各貫通孔12cが本実施形態のガイド部を構成する。
以上によれば、貫通孔12cに案内されて内筒体12を軸線回りに回転できるため、両ターゲットTg1,Tg2の外表面のからのスパッタ粒子が基板Wの所定領域に合焦するように両磁石ユニットMuの姿勢(傾き)を調整でき、その後、内筒体12を支持部材16に再度締結することができる。また、上記の如く、4個の貫通孔12cでガイド部を構成すれば、基板Wに対して磁石ユニットMuの取付角をどの様にも調整することができ、その結果、例えば、ターゲットTg1,Tg2と基板Wとの間の距離に対応させて各ターゲット材42の外表面からのスパッタ粒子が合焦する領域を変更したり、基板Wの任意の領域に合焦させたり、更には、基板Wの面内で合焦する領域が生じないようにしたりすることができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではない。上記実施形態では、内筒体12が駆動ブロックDb1,Db2の支持部材16にボルトBを介して締結され、内筒体12に長円状の貫通孔12cを設けてガイド部を構成するものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、ハウジング11の壁面を保持部とし、これにガイド部を設けてることもできる。また、締結手段をボルトB、ガイド部として長円状の貫通孔12cを例に説明したが、仮締結状態にて内筒体12が軸線回りに回転することができるものであれば、その形態は問わない。
RC…回転式カソードユニット、Db1,Db2…駆動ブロック、Tg1,Tg2…ターゲット、Sb1,Sb2…支持ブロック、12…内筒体、12c…貫通孔(ガイド部)、13…外筒体、43…管体(内筒体の部分)、2…駆動手段、B…ボルト(締結手段)、B1…頭部、Mu…磁石ユニット、Mf…漏洩磁場。
Claims (2)
- 筒状のターゲットと、このターゲットの内部空間に配置されて磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲットの母線に沿ってのびてレーストラック状に閉じるようにターゲット表面から漏洩する磁場を発生させる磁石ユニットと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックとを備えるマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットであって、
駆動ブロックが、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる固定の内筒体と、内筒体と同心に配置されてターゲットの軸線方向一端が連結される外筒体と、この外筒体を回転駆動する駆動手段とを有し、内筒体はターゲットの内部空間までその軸線方向に沿ってのびる部分を有し、この部分に磁石ユニットが設けられるものにおいて、
内筒体が駆動ブロックの保持部に複数個の締結部材を介して締結され、締結手段により保持部と内筒体とを仮締結した状態で内筒体の軸線回りの回転をガイドするガイド部が設けられることを特徴とする回転式カソードユニット。 - 前記締結部材は頭付きボルトであり、前記ガイド部は、同一の円周上に沿って湾曲してのびる長円状の貫通孔であることを特徴とする請求項1記載の回転式カソードユニット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015116412A JP2017002350A (ja) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015116412A JP2017002350A (ja) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017002350A true JP2017002350A (ja) | 2017-01-05 |
Family
ID=57753241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015116412A Pending JP2017002350A (ja) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017002350A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107058965A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种内置旋转阴极结构 |
WO2021230017A1 (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | 株式会社アルバック | マグネトロンスパッタリング装置及びこのマグネトロンスパッタリング装置を用いた成膜方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH084403A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-09 | Matsushita Electric Works Ltd | ローラー付吊金具 |
JPH0867979A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-12 | Boc Group Inc:The | 交換可能なターゲット構造を備えた回転マグネトロン |
-
2015
- 2015-06-09 JP JP2015116412A patent/JP2017002350A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH084403A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-09 | Matsushita Electric Works Ltd | ローラー付吊金具 |
JPH0867979A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-12 | Boc Group Inc:The | 交換可能なターゲット構造を備えた回転マグネトロン |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107058965A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种内置旋转阴极结构 |
WO2021230017A1 (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | 株式会社アルバック | マグネトロンスパッタリング装置及びこのマグネトロンスパッタリング装置を用いた成膜方法 |
JPWO2021230017A1 (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | ||
CN115552053A (zh) * | 2020-05-14 | 2022-12-30 | 株式会社爱发科 | 磁控溅射装置及使用该磁控溅射装置的成膜方法 |
JP7305886B2 (ja) | 2020-05-14 | 2023-07-10 | 株式会社アルバック | マグネトロンスパッタリング装置及びこのマグネトロンスパッタリング装置を用いた成膜方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102364799B1 (ko) | 마그네트론 스퍼터링 장치용 회전식 캐소드 유닛 | |
JPH06264234A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置及び磁束を提供する方法 | |
US20110036708A1 (en) | Magnetron sputtering device | |
JP2017002350A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット | |
JP2014525516A (ja) | 物理気相堆積チャンバターゲット用の冷却リング | |
KR20140027558A (ko) | 회전 마그넷 스퍼터 장치, 스퍼터 방법 및, 회전 마그넷 스퍼터 장치의 냉각 방법 | |
JP2006265692A (ja) | スパッタ装置 | |
JP2017002348A (ja) | スパッタリング装置用の回転式カソードユニット | |
JP7326036B2 (ja) | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット | |
JP5827344B2 (ja) | 処理装置およびシールド | |
JP2016125405A (ja) | ファン | |
ES2366377T3 (es) | Sistema de imanes para un cátodo pulverizador. | |
CN207581908U (zh) | 一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机 | |
US9558921B2 (en) | Magnetron sputtering apparatus | |
TWI839503B (zh) | 濺射裝置,薄膜製造方法 | |
KR101298768B1 (ko) | 원통형 스퍼터링 캐소드 장치 | |
KR20170082619A (ko) | 스퍼터링 마그네트론 | |
KR20230038770A (ko) | 마그네트론 스퍼터링 장치용 캐소드 유닛 및 마그네트론 스퍼터링 장치 | |
KR20160089952A (ko) | 원통형 스퍼터링 캐소드 | |
JP6876594B2 (ja) | スパッタ装置 | |
JP2013185254A (ja) | 磁石ユニット及びスパッタ装置 | |
JP2009107855A (ja) | 部材処理装置 | |
KR101272985B1 (ko) | 스퍼터링 장치 | |
TW202100787A (zh) | 濺射裝置,薄膜製造方法 | |
KR101778602B1 (ko) | 플라즈마 증착 장치용 전극 본체 구동수단 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180417 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181113 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190528 |