CN207581908U - 一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，包括真空炉，所述真空炉内壁上端设置有若干个防偏转溅射靶，且防偏转溅射靶两端设置有屏蔽挡板，所述真空炉内部下端设置有若干个弧形靶，所述真空炉内部设置有旋转轴，所述旋转轴外侧通过夹臂连接有加工支架，所述加工支架上设置有铝板固定扣，通过在真空炉内部设置可旋转的加工支架，可以很好的将铝板加工件放置在加工支架上，在真空炉内部很好的通过溅射靶对铝板加工镀膜，提高了镀膜机对铝板的加工效率，通过溅射靶内部设置的两个异性磁铁，在溅射靶内部形成磁场，使得离子在真空状态下高速溅射，利永磁体产生的磁场对等离子体进行行动约束，有效地提高气体的离化率，值得推广。

Description

一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机

技术领域

本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体为一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

申请号为CN201020539482.5，名称为真空多弧离子镀膜机的实用新型专利，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套上的靶材、设于靶材上方的磁铁，在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体，磁铁缸体的上端固定连接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与调节螺杆的里端固定连接，磁铁置于磁铁缸体中。可调节磁铁与靶材的相对位置，从而使真空室中的磁场强度发生变化，镀膜机具有可针对不同靶材和工况下，达到最佳工作状态的优点。

但是在使用的时候，电磁溅射容易在真空室内出现偏差的情况，导致溅射出现偏转，影响铝板加工，而且铝板不方便放置在内部加工，使得铝板镀膜加工效率缓慢，因此设计了一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足, 本实用新型提供一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，通过在真空炉内部设置可旋转的加工支架，可以很好的将铝板加工件放置在加工支架上，在真空炉内部很好的通过溅射靶对铝板加工镀膜，提高了镀膜机对铝板的加工效率，通过溅射靶内部设置的两个异性磁铁，在溅射靶内部形成磁场，使得离子在真空状态下高速溅射，利永磁体产生的磁场对等离子体进行行动约束，有效地提高气体的离化率，值得推广。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，包括真空炉，所述真空炉内壁上端设置有若干个防偏转溅射靶，且防偏转溅射靶两端设置有屏蔽挡板，所述真空炉内部下端设置有若干个弧形靶，所述真空炉内部设置有旋转轴，所述旋转轴外侧通过夹臂连接有加工支架，所述加工支架上设置有铝板固定扣；

所述防偏转溅射靶包括极板，所述极板上端设置有S磁铁，所述S磁铁两端设置有N磁铁，所述S磁铁与N磁铁上端设置有铜材背板，所述铜材背板上表面上设置有金属靶材，所述金属靶材与极板之间设置有绝缘密封套。

作为本实用新型一种有选的技术方案，所述真空炉外侧设置有若干个壁挂安装脚，所述壁挂安装脚上设置有安装吊环。

作为本实用新型一种有选的技术方案，所述真空炉外侧设置有散热板，所述散热板为圆弧形结构，所述散热板上设置有倾斜的散热翼片。

作为本实用新型一种有选的技术方案，所述铝板固定扣内部设置有硅胶垫层。

作为本实用新型一种有选的技术方案，所述绝缘密封套采用聚氨脂材料制成，且绝缘密封套外侧设置有卡紧凹槽，所述卡紧凹槽内设置有不锈钢紧箍。

作为本实用新型一种有选的技术方案，所述金属靶材采用铬、钛、镍、钨或者钛铝合金的一种材料制成，且金属靶材形状为圆饼形。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型通过在真空炉内部设置可旋转的加工支架，可以很好的将铝板加工件放置在加工支架上，在真空炉内部很好的通过溅射靶对铝板加工镀膜，提高了镀膜机对铝板的加工效率；

（2）本实用新型通过溅射靶内部设置的两个异性磁铁，在溅射靶内部形成磁场，使得离子在真空状态下高速溅射，利永磁体产生的磁场对等离子体进行行动约束，有效地提高气体的离化率，值得推广。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的防偏转溅射靶结构示意图。

图中：1-真空炉，2-防偏转溅射靶，3-屏蔽挡板，4-弧形靶，5-旋转轴，6-夹臂，7-加工支架，8-铝板固定扣，9-极板，10-S磁铁，11-N磁铁，12-铜材背板，13-金属靶材，14-绝缘密封套，15-壁挂安装脚，16-安装吊环，17-散热板，18-散热翼片，19-硅胶垫层，20-卡紧凹槽，21-不锈钢紧箍。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

以下各实施例的说明是参考附图，用以示例本实用新型可以用以实施的特定实施例。本实用新型所提到的方向和位置用语，例如「上」、「中」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向和位置。因此，使用的方向和位置用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。

实施例：

如图1与图2所示，本实用新型提供了一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，包括真空炉1，通过真空炉1来提供离子复合镀膜的环境，真空环境更加便于等离子体流动，所述真空炉1内壁上端设置有若干个防偏转溅射靶2，且防偏转溅射靶2两端设置有屏蔽挡板3，屏蔽挡板3进行初级的屏蔽，避免溅射出的等离子体扩散开，将等离子体聚集，所述真空炉1内部下端设置有若干个弧形靶4，弧形靶4起到反射作用，使得等离子体在真空炉1内部均匀分布，所述真空炉1内部设置有旋转轴5，所述旋转轴5外侧通过夹臂6连接有加工支架7，所述加工支架7上设置有铝板固定扣8，使用的时候，将加工件放置在加工支架7上，加工件通过铝板固定扣8锁紧固定在加工支架7上，旋转轴5在驱动装置的带动下旋转，带动铝板在内部匀速转动，实现多个铝板同时的镀膜；

如图2所示，所述防偏转溅射靶2包括极板9，所述极板9上端设置有S磁铁10，所述S磁铁10两端设置有N磁铁11，所述S磁铁10与N磁铁11上端设置有铜材背板12，所述铜材背板12上表面上设置有金属靶材13，所述金属靶材13与极板9之间设置有绝缘密封套14，极板9接通电源之后，产生电流，电流经过上端金属靶材13之后，产生等离子体流束，而极板9上端的S磁铁10与N磁铁11相互作用，形成磁场，等离子体在磁场的约束下溅射出去，对铝板进行镀膜操作。

如图1所示，所述真空炉1外侧设置有若干个壁挂安装脚15，所述壁挂安装脚15上设置有安装吊环16，方便设备移动与安装，可很好的固定住，避免设备晃动。

如图1所示，所述真空炉1外侧设置有散热板17，所述散热板17为圆弧形结构，所述散热板17上设置有倾斜的散热翼片18，提高了设备的散热能力，可以很好的将真空炉1产生的热量散发出去。

如图1所示，所述铝板固定扣8内部设置有硅胶垫层19，避免固定扣8损伤铝板表面，提高了铝板的稳固性。

如图2所示，所述绝缘密封套14采用聚氨脂材料制成，且绝缘密封套14外侧设置有卡紧凹槽20，所述卡紧凹槽20内设置有不锈钢紧箍21，提高了绝缘密封套14的密封性，可以很好的将内部结构固定在一起。

如图2所示，所述金属靶材13采用铬、钛、镍、钨或者钛铝合金的一种材料制成，且金属靶材13形状为圆饼形，可以很好的提供溅射源。

综上所述，本实用新型的主要特点在于：

（1）本实用新型通过在真空炉内部设置可旋转的加工支架，可以很好的将铝板加工件放置在加工支架上，在真空炉内部很好的通过溅射靶对铝板加工镀膜，提高了镀膜机对铝板的加工效率；

（2）本实用新型通过溅射靶内部设置的两个异性磁铁，在溅射靶内部形成磁场，使得离子在真空状态下高速溅射，利永磁体产生的磁场对等离子体进行行动约束，有效地提高气体的离化率，值得推广。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：包括真空炉（1），所述真空炉（1）内壁上端设置有若干个防偏转溅射靶（2），且防偏转溅射靶（2）两端设置有屏蔽挡板（3），所述真空炉（1）内部下端设置有若干个弧形靶（4），所述真空炉（1）内部设置有旋转轴（5），所述旋转轴（5）外侧通过夹臂（6）连接有加工支架（7），所述加工支架（7）上设置有铝板固定扣（8）；

所述防偏转溅射靶（2）包括极板（9），所述极板（9）上端设置有S磁铁（10），所述S磁铁（10）两端设置有N磁铁（11），所述S磁铁（10）与N磁铁（11）上端设置有铜材背板（12），所述铜材背板（12）上表面上设置有金属靶材（13），所述金属靶材（13）与极板（9）之间设置有绝缘密封套（14）。

2.根据权利要求1所述的一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述真空炉（1）外侧设置有若干个壁挂安装脚（15），所述壁挂安装脚（15）上设置有安装吊环（16）。

3.根据权利要求1所述的一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述真空炉（1）外侧设置有散热板（17），所述散热板（17）为圆弧形结构，所述散热板（17）上设置有倾斜的散热翼片（18）。

4.根据权利要求1所述的一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述铝板固定扣（8）内部设置有硅胶垫层（19）。

5.根据权利要求1所述的一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述绝缘密封套（14）采用聚氨脂材料制成，且绝缘密封套（14）外侧设置有卡紧凹槽（20），所述卡紧凹槽（20）内设置有不锈钢紧箍（21）。

6.根据权利要求1所述的一种用于铝板加工防偏转多弧离子复合镀膜机，其特征在于：所述金属靶材（13）采用铬、钛、镍、钨或者钛铝合金的一种材料制成，且金属靶材（13）形状为圆饼形。