KR950026513A - 미용 또는 피부용 조성물에서 술폰산의 노화 방지제로서의 용도 - Google Patents

미용 또는 피부용 조성물에서 술폰산의 노화 방지제로서의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 내인성 노화를 치료하기 위한 미용 또는 퍼부용 조성물의 노화 방지제로서 일부 이상이 중화되지 아니한 하나 이상의 술폰산 기능을 가지는 하나 이상의 화합물의 용도, 및 피부의 내인성 노화에 대항할 목적의 신규 미용 및/또는 피부용 조성물에 관한 것이다.

Description

미용 또는 피부용 조성물에서 술폰산의 노화 방지제로서의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (25)

  1. 미용 또는 피부용 조성물 제조용 및 내인성 노화에 대항하기 위한 시약으로서 일부 이상이 중화되지 아니한 하나 이상의 술폰산 기능을 가지는 하나 이상의 화합물의 용도.
  2. 내인성 노화로 인한 주름살 또는 미세한 선에 대항하기 위한 미용 또는 피부용 조성물을 제조하고, 일부 이상이 중화되지 아니한 하나 이상의 술폰산 기능을 가지는 하나 이상의 화합물의 용도.
  3. 죽은 세포를 피부로 부터 제거하기 위한 미용 또는 피부용 조성물을 제조하고, 일부 이상이 중화되지 아니한 하나 이상의 술폰산 기능을 가지는 하나 이상의 화합물의 용도.
  4. 제1항에 있어서, 화합물이 하기 식을 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    (식중, R은 치환될 수도 있는 지방족 또는 방향족 탄화수소기를 나타낸다).
  5. 제4항에 있어서, R은 직쇄 또는 측쇄이고, 하나 이상의 히드록실, 알콕시, 아실옥시, 아릴, 시클로알킬 또는 폴리시클로알킬기로 치환될 수도 있는 탄소수 1 내지 30개의 알킬기 및 탄소수 2 내지 30개의 알케닐기를 포함하는 기로 부터 선택된 지방족 탄화수소기인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, R은 CH3또는 CH3-(CH2)11기인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서, 이 화합물이 캄포르-10-술폰산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  8. 제4항에 있어서, R은 하나 이상의 히드록실, 알콕시, 알케닐옥시, 알킬, 아실옥시, 아릴, 아릴옥시아로일, 아로일옥시, 카르복실, 할로 또는 술포닐기로 치환될 수도 있는 탄소수 6 내지 10개의 방향족 탄화수소기인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  9. 제8항에 있어서, R은 C6H5기인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  10. 제8항에 있어서, R은 하기의 기인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
  11. 제4항에 있어서, 이 화합물은 하기 일반식 (b)를 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    [식중, B는 H 또는 SO3H 이고 0 ≤p≤1(이때 p=0일 때, B=SO3H임), 0≤n≤4, D는 동일 또는 상이한 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 알케닐, 알케닐옥시, 알콕시기, 할로 또는 히드록시기를 나타내고, n≥2일 때에는 탄소수가 1 내지 18개인 알킬, 알케닐, 알케닐옥시 또는 알콕시기이며, A는 S03H기 또는 하기의 기:
    (식중 Y는 H 또는 SO3H임) 또는 하기의 기:
    (식중, R11은 수소 원자, 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기, 또는 SO3H 기이며, B=H일 때 R11은 SO3H이고, R12는 수소 원자 또는 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기이고, X는 산소 원자 또는 황 원자 또는 - NR-기 (식중, R은 수소 원자 또는 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬기임)를 나타낸다)].
  12. 제11항에 있어서, 일반식(b)의 화합물이 하기 일반식(I)을 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    [식중, -Z는 하기의 기이고:
    (식중, Y는 H 또는 SO3H임), -n은 0, 또는 1 내지 4의 정수이고 (0≤n≤4), -R1은 동일 또는 상이하며, 탄소수가 1 내지 4개인 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기이다].
  13. 제12항에 있어서, 일반식 (I)의 화합물이 벤젠-1, 4-[디(3-메틸리덴-10-캄포르술폰)]산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  14. 제11항에 있어서, 일반식 (b)의 화합물이 하기 일반식(II)를 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    (식중, -R2는 수소 원자 또는 -SO3H기이고, -R3, R4, R5및 R6은 동일 또는 상이하며, 히드록실기, 탄소수가 1내지 4개인 직쇄 또는 측쇄 알킬기, 탄소수가 2 내지 4개인 직쇄 또는 측쇄 알케닐기, 탄소수가 1 내지 4개인 직쇄 또는 측쇄 알콕시기, 탄소수가 2 내지 4개인 직쇄 또는 측쇄 알케닐옥시기, 또는 할로기이고; 또한 R3내지 R6중 오직 하나의 기는 SO3H기일 수 있고, R2가 수소 원자일 때, R3내지 R6기중 하나 이상은 -SO3H 기이다).
  15. 제14항에 있어서, 일반식(II)의 화합물을 3-벤질리덴캄포르-4′-술폰산, 3-벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-벤질리덴캄포르-4′-메틸-3′-술폰산, 3-벤질리덴캄포르-4′-클로로-3′-술폰산, 4′-메틸-3-벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3- (3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메록시)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-(3, 5- 디-t-부틸-4-히드록시)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-벤질리덴캄포르-4′-메톡시-3′-술폰산, 3- (4, 5-메틸렌디옥시)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-(4-메톡시)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3- (4, 5-디메록시)벤질리덴-10-캄포르술폰산, 3-(4-n-부톡시)벤질리덴-10-캄포르술폰산 또는 3-(4-n-부톡시-5-메록시)벤질리덴-10-캄포르술폰산으로 부터 선택하는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  16. 제1항에 있어서, 일반식 (b)의 화합물이 하기 일반식 (III)을 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    [식중, -R11은 수소 원자, 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기, 또는 -SO3H기이고, -R12는 수소 원자, 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기이고, -R13은 수소 원자 또는 -SO3H기이고, -R11과 R13기중 하나 이상은 -SO3H기이고, -X는 산소 원자, 황 원자 또는 -NR- 기 (식중 R은 수소 원자, 또는 탄소수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 측쇄 알킬기임)이다].
  17. 제10항에 있어서, 일반식(III)의 화합물이 2-[4-(캄포메틸리덴)페닐]벤즈이미다졸-5-술폰산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  18. 제4항에 있어서, 이 화합물이 하기 일반식 (c)를 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    [식중, -R9는 이가 기: -(CH2)m-또는-CH2-CHOH-CH2-이고, m은 1내지 10의 정수이며(1≤m≤10), -R10은 수소 원자 또는 탄소수가 1 내지 4인 알콕시기이고, -Y 또는 Y′은 수소 원자 또는 -SO3H기이고 Y 또는 Y′기중 하나 이상은 수소 이외의 기이다].
  19. 제18항에 있어서, 일반식 (c)의 화합물이 에틸렌비스[3-(4′-옥시벤질리덴)-10-캄포르술폰]산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  20. 제4항에 있어서, 이 화합물이 하기 일반식 (d)를 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
    (식중, -R14와 R15는 동일 또는 상이하며, 수소 원자 또는 탄소수가 1 내지 8개인 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고, -a, b 및 c는 동일 또는 상이하며, 0 또는 1이다).
  21. 제20항에 있어서, 일반식 (d)의 화합물이 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  22. 제4항에 있어서, 이 화합물이 하기 일반식 (e)를 가지는 것을 특징으로 하는 화합물의 용도:
    [식중, -X는 산소 원자 또는 -NH-기이고, -R16은 수소 원자, 탄소수가 1 내지 8개인 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기, 또는 하기 식(IV)의 기:
    (식증, X′는 산소 원자 또는 -NH-기이고, W는 H 또는 SO3H임)이다].
  23. 제22항에 있어서, 일반식 (c)의 화합물이 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산, 벤젠-1, 4-디(벤즈이미다졸-2-일-5-술폰)산 또는 벤젠-1, 4-디(벤족사졸-2-일-5-술폰)산인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  24. 제1항에 있어서, 이 화합물의 사용량이 조성물의 0.1 내지 10중량%인 것을 특징으로 하는 화합물의 용도.
  25. 일부 이상이 중화되지 않은 하나 이상의 술폰산 기능을 가지는 화합물을 하나 이상 포함하는 미용 또는 피부용 조성물을 피부에 사용하는 것을 특징으로 하는, 피부의 내인성 노화에 대항하기 위한 비-치료적(non- therapeulic)방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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