KR950015629A - 실리콘기판의 세정방법 - Google Patents

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유이치 미요시
미치카즈 마쯔모토
테루히토 오오니시
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모리시타 요이찌
마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤
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Abstract

본 발명은, 초LSI제조에 사용되는 실리콘기판의 세정방법에 관한 것으로서, 암모니아/과산화수소세정액을 파기할 필요없이 약액비용의 저감을 실현한 위에, 안정적이고도 일정한 세정특성의 유지를 용이하게 달성할 수 있게한것을 목적으로 한것이며, 그 구성에 있어서, 암모니아/과산화수소세정액속의 암모니아농도를 3.5에서 부터 2.0중량%의 범위내에서 제어해서 사용한다. 암모니아농도의 제어는 일정시간마다 암모니아수용액을 일정량 추가하는 방법에 의해 행하는 것을 특징으로 한것이다.
상기 일정시간은 암모니아농도가 3.5중량에서부터 저하해서 20.중량%가 되는 직전까지의 시간을 말하며, 상기 일정량은 암모니아농도를 2.0중량에서부터 3.5중량%로 증가하는데 필요한 양을 말한다.

Description

실리콘기판의 세정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 있어서의 암모니아/과산화수소세정액속의 암모니아농도, 과산화수소농도의 경시변화를 표시한 도면.
제2도는 본 발명의 제1실시예에 있어서의 실리콘산화막의 애칭속도의 경시변화를 표시한 도면.
제3도는 본 발명의 제1실시예에 있어서의 암모니아시약을 추가공급한 경우의 암모니아/과산화수소 세정액속의 암모니아농도의 경시변화의 개념도.
제4도는 본 발명의 제1실시예에 있어서의 암모니아농도 제어방법을 표시한 순서도.

Claims (3)

  1. 암모니아, 과산화수소, 물을 주성분으로 하는 혼합액에 있어서, 상기 혼합액속의 암모니아의 농도를 2.0에서부터 3.5중량%까지의 특정된 범위내에서 제어하는 것을 특징으로 하는 실리콘기판의 세정방법.
  2. 제1항에 있어서, 소정시간마다 소정량의 암모니아수용액을 혼합액에 추가하고, 상기 혼합액의 암모니아농도를 특정범위내에 제어하는 것을 특징으로 하는 실리콘기판의 세정방법.
  3. 제1항에 있어서, 실리콘기판의 세정처리직전에 혼합액속의 암모니아농도를 측정하고, 상기 암모니아농도가 판정기준밖인 경우는 3.5중량%로 되는 분량의 암모니아수용액을 상기 혼합액에 추가하고, 상기암모니아농도를 특정범위내에 제어하는 것을 특징으로 하는 실리콘기판의 세정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940029517A 1993-11-15 1994-11-11 실리콘기판의 세정방법 KR100237736B1 (ko)

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