KR950001922A - 투영노광장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 투사노광장치는 사진감광 기판의 각 노광영역위에 마스크 패턴을 투사하는 투사광학장치 및 사전 결정된 거리점도 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치를 포함한다. 본 발명에 따른 한 양상에 있어서, 투사노광장치는 투사광학장치의 영상위치에 대한 상쇄량 및, 투사광학장치와 마크 검출장치가 놓여 있는 환경조건의 변화량에 기초하여 축외형 마크 검출장치의 최적 초점위치에 대한 상쇄량을 계산하는 수단을 포함한다. 기판상의 위치마크의 검출이 상쇄량을 고려할때, 마크 검출장치의 위치에 있는 기판표면이 최적 초점위치와 정열된 후에 수행된다. 본 발명의 또다른 양상에 있어서, 투사노광장치는 기판 표면의 경사량을 결정하기 위한 경사량 측정수단을 포함한다. 기판상의 위치마크의 검출은 경사가 제거된 후 또는 마크 검출장치의 위치에 있는 표면이 경사량 고려시 최적 초점위치로 정열된 후에 수행된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1조는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투영 노광장치의 개략도 ; 제2도는 제1도의 AF센서의 확대도 ; 제3도는 상술한 실시예에 따른, 노출된 웨이퍼상의 쇼트영역의 배열을 도시한 평면도 ; 제4도의(a)는 상에 의하여 관측된 웨이퍼마크 및 색인마크(b)는 (a)부분의 마크에 대응하는 상신호를 도시하는 파형그래프.
Claims (21)
- 투사노광장치에 있어서, 사진감광 기판위의 각 노광영역에 마스크의 패턴을 투사하며, 광학축을 가진 투사광학장치; 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에서 움직이는 상기 기판에 대한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위해 사전 결정된 거리에 의해 상기 투사광학자장치에서 떨어진 축외형의 마크 검출장치; 상기 위치마크의 검출된 위치의 기초위에 상기 단에 의해 상기 마스크를 가진 상기 기판위에 각 노광영역을 정열하기 위한 제어장치; 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 움직이기에 알맞은 높이단; 상기 투사광학장치의 광학축의 근사에서 상기 투사광학장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치에 검출하기 위한 초점위치검출장치; 상기 투사광학장치 및 축외형의 상기 마크 검출장치가 놓여 있는 환경조건을 측정하기 위한 환경조건 측정센서; 상기 환경조건 측정센서에 의해 측정된 환경조건에서의 변화에 기초하여 상기 마크 검출장치의 최적 초점위치의 상쇄양과 상기 투사광학장치의 영상위치의 상쇄양을 결정하기에 적합하며, 상기 제어장치에 제공되는 상쇄계산기로 구성되며; 상기 마크 검출장치에 의해 상기 기판위에 상기 위치마크의 위치를 검출하기 위한 과정 및 상기 투사광학장치를 경유하여 상기 기판상의 각 노광영역위에 상기 마스크를 투사하기 위한 과정에 대해, 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 상기 기판의 위치가 상기 두 과정간에 독립해서 상기 높이단을 통해 설정되도록 상기 제어장치가 동작하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 투사광학장치를 통해 통과하는 조사광의 접속된 광량을 결정하기 위한 접속된 광량검출센서를 포함하며, 상기 상쇄계산기는 환경조건의 상기 변화량 및 상기 집속광량에 기초한 상기 상쇄량을 결정하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단위에 있는 상기 기판의 경사량을 측정하기 위한 경사량 측정장치를 포함하며, 상기 계산기는 상기 초점 위치 검출장치에 의해 결정된 상기 기판위의 선택위치에서 초점위치의 기초위에 사전 결정된 값에 대해 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리를 보정하는 것이 요구되는 상기 높이단의 변위량을 계산하기에 적합하고, 상기 기판의 경사량은 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치되게 할때, 상기 기판위에서 마크의 위치에 대한 배열정보 및 상기 경사량 측정장치에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 투사광학장치의 광학축에 대하여 수직한 평면에 대하여 상기 기판단위에 놓인 상기 기판의 경사량을 측정하기 위한 경사량 측정장치 및 상기 기판을 기울이기에 적합하고 상기 기판단에 제공된 레벨링단을 포함하며, 상기 제어장치는 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 경사량을 기초로 상기 투사광학장치의 광학축에 상기 기판이 수직하게 되도록 상기 레벨링단이 상기 기판을 보정하도록 하고, 상기 마크 및 상기 검출장치간의 거리가 사전 결정된 값을 갖도록 상기 초점위치 검출장치 및 상기 높이단이 상기 기판을 상부 또는 하부로 변위시키며, 이에 따라 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때 상기 마크 검출장치가 상기 기판위의 상기 위치마크의 위치를 검출하게 하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제3항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 기판의 경사량의 미리 저장된 허용값을 가지고 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량을 비교하기 위한 비교장치를 포함하고; 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때, 상기 제어장치는 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량이 상기 허용값보다 작을때 다음 마크의 검출 및 한 마크의 검출사이에서 상부 또는 하부로 상기 기판을 변위함 없이 상기 마크를 검출하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 기판의 경사량의 미리 저장된 허용값을 가지고 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량을 비교하기 위한 비교장치를 포함하며; 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치해 있을때, 상기 제어장치는 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량이 상기 허용값보다 작을때 상기 레벨링단을 동작함 없이 상기 마크를 검출하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 투사노광장치에 있어서, 사진감광 기판위의 각 노광영역위에 마스크 패턴을 투사하며, 광학축을 가진 투사광학장치; 상기 투사광학장치의 광학축 수직한 평면에서 상기 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위한 사전 결정된 거리정도가 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형 마크 검출장치; 상기 위치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마스크를 가진 기판위에 각 노광영역을 정열시키는 제어장치; 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 움직이는 높이단; 상기 투사광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사광학장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점 위치검출장치; 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판위에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 측정하기 위한 경사량 측정장치; 상기 초점위치 검출장치에 의해 결정된 상기 기판위의 선택위치에서 초점위치를 기초로 사전 결정된 값에 대해 상기 마크 및 상기 마크 검출장치 사이의 거리를 보정할 것이 요구되는 상기 높이단의 변위량을 계산하기에 적합하고 상기 제어장치에서 제공되며, 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 마크 검출동안 계산된 변위량에 따라 초점조정이 수행되는 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때, 상기 기판위의 마크위치에 관한 장치정보 및 상기 경사량 측정장치에 의해 상기 기판의 경사량이 결정되는 계산기로 구성되는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제7항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 기판의 경사량의 미리 저장된 허용값을 가지고 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량을 비교하기 위한 비교장치를 포함하고; 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때, 상기 제어장치는 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량이 상기 허용값보다 작을때, 한 마크의 검출 및 다음 마크의 검출사이에서 상기 기판을 상부 또는 하부로 변위함 없이 상기 마크를 검출하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 투사노광장차에 있어서, 사진감광 기판위 각 노광영역에 마스크 패턴을 투사하며, 광학축을 가진 투사광학장치; 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에서 상기 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위해 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 상기 위치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해서 상기 마스크를 가진 상기 기판에 노광영역을 정열하는 제어장치; 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 움직이기에 적합한 높이단; 상기 투사광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사광학장치의 광학축에 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 조점위치 검출장치 ; 상기 투사광학 장치의 광학축과 수직한 평면에 대하여 상기 기판단에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 측정하기 위한 경사량 측정장치; 상기 기판을 기울이기에 적합하고 상기 기판단위에 제공되는 레벨링단으로 구성되며, 상기 제어장치는 상기 기판이 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 경사량을 기초로 상기 투사광학장치의 광학축에 수직이 되도록 상기 레벨링단이 상기 기판을 보정하게 하고, 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리가 사전 결정된 값을 갖도록 상기 초점위치 검출장치 및 상기 높이단이 상기 기판을 상부 또는 하부로 변위시키고, 따라서 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때 상기 마크 검출장치가 상기 기판위의 상기 위치마크의 위치를 검출하게 하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 제9항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 기판의 경사량에 대해 미리 저장된 허용값과 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량을 비교하기 위한 비교장치를 포함하고; 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치될때, 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량이 상기 허용값보다 작을시에는 상기 제어장치는 상기 레벨링단을 동작함 없이 상기 마크를 검출하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 투사노광장치에 있어서, 사진감광 기판의 각 노광영역위에 마스크 패턴을 투사하며, 광학축을 가진 투사광학장치; 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에서 상기 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판위에서 위치마크의 위치를 검출하기 위한 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 상기 위치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마스크를 가진 상기 기판위에 각 노광영역을 정열시키기 위한 제어장치; 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 움직이기에 적합한 높이단; 상기 투사광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사광학장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점위치 검출장치; 상기 투사광학장치의 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단위에 놓인 상기 기판의 경사량을 측정하기 위한 경사량 측정장치; 상기 기판의 경사량에 대해 미리 저장된 허용값과 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량을 비교하기 위한 비교장치로 구성되며; 상기 마크가 상기 마크 검출장치에 의해 검출되도록 상기 단이 위치되고, 상기 경사량 측정장치에 의해 결정된 상기 기판의 경사량이 상기 허용값보다 크다고 판단될때, 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리가 사전 결정된 값을 가지도록 상기 제어장치는 상기 초점위치 검출장치 및 상기 높이단이 상기 기판을 상부 및 하부로 변위하도록 제어하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 투사노광장치.
- 광학축을 갖고, 상기 기판의 각 노광영역위에 마스크 패턴을 투사하기 위한 투사광학장치; 상기 광학축에 수직한 평면에서 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위한 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치로부터 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 상기 우치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마크를 가지고 상기 기판위에 각 노광영역을 정열시키기 위한 제어장치를 포함한 투사광학장치에서 사진감광 기판위에 마스크 패턴을 투사하는 방법에 있어서, 상기 광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점위치 검출장치를 제공하는 단계; 상기 투사광학장치 및 상기 마크 검출장치가 환경조건의 변화를 측정하도록 놓여지는 환경조건을 감지하는 단계; 환경조건의 상기 변화에 기초하여 상기 마크 검출장치의 최적 초점위치의 상쇄량 및 상기 광학장치의 영상위치의 상쇄량을 계산하는 단계; 상기 마크 검출장치의 최적 초점위치의 계산된 상쇄량에 기초하여 상기 초점위치 검출장치를 조절하는 단계; 기판이 상기 초점위치 검출장치에 의해 결정된 상기 최적 초점위치에 옮겨지고, 상기 마크 검출장치에 의해 위치마크의 위치를 검출하는 과정에 영향을 주도록 상기 광학축을 따라 상기 기판을 움직이는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단위에 놓인 상기 기판의 경사량을 결정하는 단계; 상기 초저무이치 검출장치에 의해 결정된 상기 기판위 광학장치에서 초점위치를 기초로 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리를 보정하도록 요구되는 상기 기판의 변위량, 기판의 상기 결정된 경사량 및 마크의 위치에 대한 장치정보를 계산하는 단계; 상기 변위량에 대응하는 거리정도 상기 광학축을 따라 상기 기판을 변위시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 기판의 경사를 변화시키기 위하여 상기 기판단위에 레벨링단을 제공하는 단계; 상기 광학축에 수직한 평면에 대해 상기 기판에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 결정하는 단계로 구성되며, 기판을 움직이는 상기 단계전에, 상기 기판이 상기 광학축에 수직하게 되도록 상기 결정된 경사량을 기초로 상기 레벨링단이 구동되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제13항에 있어서, 경사량의 미리 저장된 허용값과 상기 결정된 경사량을 비교하는 단계; 결정된 경사량이 상기 허용값보다 작을때 상기 기판을 변위하는 상기 단계를 취소하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제14항에 있어서, 경사량의 미리 저장된 허용값과 상기 결정된 경사량은 비교하는 단계; 결정된 경사량이 상기 허용값보다 작을 때 상기 레벨링단을 구동하는 상기 단계를 취소하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 광학축을 갖고, 상기 기판의 각 노광영역위에 상기 마스크 패턴을 투사하는 투사광학장치; 상기 광학축에 수직한 평면에서 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위해 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 및 상기 위치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마크를 가진 상기 기판의 각 노광영역을 정열하기 위한 제어장치를 포함한 투사광학장치에서 사진 감광 기판상에 마스크 패턴을 투사하는 방법에 있어서, 상기 투사광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사광학장치의 광학축과 평행한 방향을 따라서 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점위치 검출장치를 제공하는 단계; 상기 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 결정하는 단계; 상기 초점위치 검출장치에 의해 결정된 상기 기판상의 선택 위치에서 초점위치를 기초로 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리를 보정하도록 요구되는 상기 기판의 변위량, 기판의 상기 결정된 경사량 및 마크위치에 대한 장치정보를 계사하는 단계; 기판이 상기 마크 검출장치의 최적 초점위치로 옮겨지도록 상기 초점위치 검출장치에 대해 결정된 값 및 상기 계산된 변위량에 기초한 상기 광학축을 따라 상기 기판을 움직이는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제17항에 있어서, 경사량의 미리 저장된 허용값과 상기 결정된 경사량을 비교하는 단계; 결정된 경사량이 상기 허용값보다 작을때는 마크의 검출과정간에 상기 기판을 움직이는 상기 단계를 취소하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 광학축을 갖고, 상기 기판의 각 노광영역위에 상기 마스크 패턴을 투사하기 위한 투사광학장치; 상기 광학축에 수직한 평면에서 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위해 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 상기 위치 마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마스크를 가진 상기 기판위에 각 노광영역을 정열하기 위한 제어장치를 포함하는 투사광학장치에서 사진감광 기판위에 마스크 패턴을 투사하는 방법에 있어서, 상기 광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점위치 검출장치를 제공하는 단계; 상기 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 결정하는 단계; 상기 기판의 경사를 변화시키기 위하여 상기 기판단에 레벨링단을 제공하는 단계; 상기 기판의 상기 광학축에 수직하게 되도록 상기 결정된 경사량을 기초로 상기 레벨링단을 구동하는 단계; 기판이 상기 초점위치 검출장치에 의해 결정된 상기 마크 검출장치의 최적 초점위치에 옮겨지고, 상기 마크 검출장치에 의해 위치마크의 위치를 검출하는 과정에 영향을 주도록 상기 광학축을 따라 상기 기판을 움직이는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 제19항에 있어서, 경사량의 미리 저장된 허용값과 상기 결정된 경사량을 비교하는 단계; 상기 결정된 경사량이 상기 허용값보다 작을때는 상기 레벨링 단계를 구동하는 상기 단계를 취소하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.
- 광학축을 갖고, 상기 기판의 각 노광영역위에 마스크 패턴을 투사하기 위한 투사광학장치; 상기 광학축에 수직한 평면에서 기판을 움직이기 위한 기판단; 상기 기판에 형성된 위치마크의 위치를 검출하기 위해 사전 결정된 거리정도 상기 투사광학장치에서 떨어져 있는 축외형의 마크 검출장치; 및 상기 위치마크의 검출된 위치를 기초로 상기 단에 의해 상기 마스크를 가진 상기 기판의 각 노광영역을 정열시키는 제어장치를 포함하는 투사광학장치에서 사진감광 기판에 마스크 패턴을 투사하는 방법에 있어서, 상기 투사광학장치의 광학축의 근사시에 상기 투사광학장치의 광학축과 평행한 방향을 따라 상기 기판의 초점위치를 검출하기 위한 초점위치 검출장치를 제공하는 단계 ; 상기 투사광학장치의 광학축을 따라 움직이기에 적합한 높이단을 제공하는 단계; 상기 광학축에 수직한 평면에 대하여 상기 기판단에 놓여 있는 상기 기판의 경사량을 결정하는 단계; 경사량의 미리 저장된 허용값과 상기 결정된 경사량을 비교하는 단계; 상기 기판의 상기 결정된 경사량이 상기 허용값보다 크다고 판단될때, 상기 마크 및 상기 마크 검출장치간의 거리가 사전 결정된 값을 갖도록 상기 초점위치 검출장치 및 상기 높이단이 상기 기판을 상부 및 하부로 변위토록 제어하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴을 투사하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| KR100471018B1 (ko) * | 2000-11-28 | 2005-03-08 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 두 개의 대상물 간의 갭 조절장치 및 조절방법 |
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| JP5203992B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
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1994
- 1994-06-10 KR KR1019940013066A patent/KR100414575B1/ko not_active IP Right Cessation
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| KR100471018B1 (ko) * | 2000-11-28 | 2005-03-08 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 두 개의 대상물 간의 갭 조절장치 및 조절방법 |
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