KR940019778A - 미세구조물로부터 플라스틱을 제거하는 방법 - Google Patents

미세구조물로부터 플라스틱을 제거하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR940019778A
KR940019778A KR1019940002401A KR19940002401A KR940019778A KR 940019778 A KR940019778 A KR 940019778A KR 1019940002401 A KR1019940002401 A KR 1019940002401A KR 19940002401 A KR19940002401 A KR 19940002401A KR 940019778 A KR940019778 A KR 940019778A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
microstructure device
metallic microstructure
metallic
treated
plastic
Prior art date
Application number
KR1019940002401A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100322640B1 (ko
Inventor
라이넥케 홀거
Original Assignee
라이너 베크중, 라이너 아인하우스
미크로파르츠 게젤샤프트 퓌어 미크로스트룩투르테크닉 엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 라이너 베크중, 라이너 아인하우스, 미크로파르츠 게젤샤프트 퓌어 미크로스트룩투르테크닉 엠베하 filed Critical 라이너 베크중, 라이너 아인하우스
Publication of KR940019778A publication Critical patent/KR940019778A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100322640B1 publication Critical patent/KR100322640B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/428—Stripping or agents therefor using ultrasonic means only

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)

Abstract

본 발명은 미세구조물로부터 플라스틱을 제거하는 방법에 관한 것이다.
현재, 플라스틱은 조사한 다음, 필요한 경우, 용매, 예를 들며, 공격적인 용매에 의해 처리하거나 승온에서 처리함으로써 금속성 미세구조물로부터 제거하고, 이러한 방법은 미세구조물의 특성을 손상시킬 수 있거나 미세구조물을 상당히 변화 또는 파괴할 수 있다. 새로운 방법은 플라스틱을 쉽게 제거할 수 있다.
금속성 미세구조물을 140℃ 이상에서 비점이 높은 유체로 10 내지 90분 동안 처리한 다음 물로 세척한다. 적합한 유체는 에틸렌 글리콜, 단쇄 디올 또는 디카복실산 에스테르의 올리고머이다. 이러한 유체는 금속을 손상시키지 않고 제거될 플라스틱을 팽윤으로부터 보호한다.
금속성 미세구조물을 제조하고 금속성 미세구조물을 사용함으로써 플라스틱으로부터 미세구조물 소자를 주조하는 방법은 본원에서는 바람직하지만, 새로운 방법에 사용되지 않는 경우에는 사용할 수 없거나 단지 제한적으로만 사용되는 플라스틱을 사용하여 수행할 수 있다.

Description

미세구조물로부터 플라스틱을 제거하는 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 금속성 미세구조물 소자를 140℃ 이상의 온도에서 비점(대기압에서)이 130℃ 이상인 유체로 처리함을 특징으로 하여, 금속성 미세구조물 소자로부터 플라스틱을 제거하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 플라스틱의 융점으로부터 20℃ 아래인 온도로부터 플라스틱의 융점으로부터 100℃ 위인 범위인 동시에 유체의 비점으로부터 50℃ 아래인 온도로부터 유체의 비점의 범위인 온도에서 처리함을 특징으로 하여, 금속성 미세구조물 소자로부터 가용성 플라스틱을 제거하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 140℃ 이상의 온도에서 유체로 처리함을 특징으로 하여, 금속성 미세구조물 소자로부터 불용성 플라스틱을 제거하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를, 임의로 초대기압에서 액상 또는 기상 유체 속에서 처리함을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 액상 속에서 처리하는 동시에 기계적 에너지[예 : 교반, 초음파 또는 메가사운드(megasound)를 부여함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 비점이 높은 물질, 바람직하게는 에틸렌 글리콜 또는 올리고머, 중합체 또는 이의 유도체, 프로판디올, 부탄디올, 디카복실산의 에스테르, 폴리비닐 알콜 또는 실리콘 오일로 처리함을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 금속 염(예 : 아연 브로마이드, 코발트 브로마이드 또는 은 아세테이트) 또는 유리 라디칼 형성제(예 : 클로로니트로소벤젠, 벤조일 퍼옥사이드 또는 비스아조이소부티로니트릴)를 첨가하면서 유체로 처리함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 160℃ 이상, 바람직하게는 210℃ 내지 240℃에서 폴리에틸렌 글리콜로 처리함을 특징으로 하여, 금속성 미세구조물 소자로부터 가교결합된 폴리메틸 메타크릴레이트를 제거하는 방법.
  9. 제1항, 제2항 및 제4항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 금속성 미세구조물 소자를 190℃에서 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르로 처리함을 특징으로 하여, 금속성 미세구조물 소자로부터 폴리옥시메틸렌을 제거하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940002401A 1993-02-10 1994-02-08 미세구조물로부터플라스틱물질을제거하는방법 KR100322640B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP4303923.5 1993-02-10
DE4303923A DE4303923A1 (de) 1993-02-10 1993-02-10 Verfahren zum Beseitigen von Kunststoffen aus Mikrostrukturen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940019778A true KR940019778A (ko) 1994-09-15
KR100322640B1 KR100322640B1 (ko) 2002-06-20

Family

ID=6480103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940002401A KR100322640B1 (ko) 1993-02-10 1994-02-08 미세구조물로부터플라스틱물질을제거하는방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5631303A (ko)
EP (1) EP0613053B1 (ko)
JP (1) JPH06263913A (ko)
KR (1) KR100322640B1 (ko)
CA (1) CA2115192A1 (ko)
DE (2) DE4303923A1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2564689B2 (ja) * 1989-11-14 1996-12-18 並木精密宝石株式会社 光アイソレータの製造方法
US5842787A (en) * 1997-10-09 1998-12-01 Caliper Technologies Corporation Microfluidic systems incorporating varied channel dimensions
DE19813235C2 (de) * 1998-03-26 2002-03-07 Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh Verfahren zum Entfernen mindestens eines organischen Stoffs von einer metallischen Oberfläche
KR100771264B1 (ko) * 2001-05-12 2007-10-29 엘지전자 주식회사 스크립트 파일이 포함 기록된 기록매체와, 그 재생장치 및방법
US7459127B2 (en) * 2002-02-26 2008-12-02 Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Method and apparatus for precise transfer and manipulation of fluids by centrifugal and/or capillary forces
US7125711B2 (en) * 2002-12-19 2006-10-24 Bayer Healthcare Llc Method and apparatus for splitting of specimens into multiple channels of a microfluidic device
US7094354B2 (en) * 2002-12-19 2006-08-22 Bayer Healthcare Llc Method and apparatus for separation of particles in a microfluidic device
US7435381B2 (en) * 2003-05-29 2008-10-14 Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Packaging of microfluidic devices
US20080257754A1 (en) * 2003-06-27 2008-10-23 Pugia Michael J Method and apparatus for entry of specimens into a microfluidic device
US20040265172A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-30 Pugia Michael J. Method and apparatus for entry and storage of specimens into a microfluidic device
US20040265171A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-30 Pugia Michael J. Method for uniform application of fluid into a reactive reagent area
US7347617B2 (en) * 2003-08-19 2008-03-25 Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Mixing in microfluidic devices
DE102016015198A1 (de) * 2016-12-21 2018-06-21 Apk Ag Lösungsmittel sowie Verfahren zum Lösen eines Kunststoffes von einem Feststoff innerhalb einer Suspension
CN117872693A (zh) * 2024-03-13 2024-04-12 深圳市松柏科工股份有限公司 正胶剥离液、正胶剥离液的制备方法及其应用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1621664A1 (de) * 1966-11-04 1971-06-24 Telefunken Patent Loesungsmittel zum Abloesen aetzbestaendiger Photolackschichten
US3873361A (en) * 1973-11-29 1975-03-25 Ibm Method of depositing thin film utilizing a lift-off mask
DE2454399C2 (de) * 1974-11-16 1981-09-24 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Ablösemittel für Fotolacke
US4111715A (en) * 1976-03-15 1978-09-05 Westinghouse Electric Corp. Apparatus and method for chemically removing plastics
US4165294A (en) * 1976-11-08 1979-08-21 Allied Chemical Corporation Phenol-free and chlorinated hydrocarbon-free photoresist stripper comprising surfactant and hydrotropic aromatic sulfonic acids
DE2916700A1 (de) * 1979-04-25 1980-10-30 Metzeler Kautschuk Trennmittel zum ausformen von kunststoffen, insbesondere polyurethan-kunststoffen
GB2173918B (en) * 1985-03-29 1988-11-02 Laporte Industries Ltd Stripping solutions for positive photoresists
DE3537441A1 (de) * 1985-10-22 1987-04-23 Hoechst Ag Loesemittel zum entfernen von photoresists
US5091103A (en) * 1990-05-01 1992-02-25 Alicia Dean Photoresist stripper
US5279771A (en) * 1990-11-05 1994-01-18 Ekc Technology, Inc. Stripping compositions comprising hydroxylamine and alkanolamine
US5186797A (en) * 1991-02-13 1993-02-16 Future Automation, Inc. Method and system for removing resin bleed from electronic components
US5318677A (en) * 1991-02-13 1994-06-07 Future Automation, Inc. Process and solutions for removing resin bleed from electronic components

Also Published As

Publication number Publication date
EP0613053A1 (de) 1994-08-31
DE4303923A1 (de) 1994-08-11
CA2115192A1 (en) 1994-08-11
KR100322640B1 (ko) 2002-06-20
US5631303A (en) 1997-05-20
EP0613053B1 (de) 2000-04-05
DE59409259D1 (de) 2000-05-11
JPH06263913A (ja) 1994-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940019778A (ko) 미세구조물로부터 플라스틱을 제거하는 방법
ES2087967T3 (es) Procedimiento de preparacion de una resina absorbente de agua.
ATE364708T1 (de) Hochtemperatur-pha extraktion mit schlecht- lösenden lösungsmittel für pha
KR940014468A (ko) 흡수수지의 제조방법
BR9408391A (pt) Polímeros sintéticos reticulados com estrutura porosa
ES2026891T3 (es) Procedimiento para la obtencion de copolimeros solubles en agua del acido maleico y su empleo como agentes para el tratamiento de agua.
WO1993015130A3 (en) Process for increasing stability of poly(esteramides)
JP2002113089A (ja) ポリマーおよびそれを用いた眼用レンズ
UA27907C2 (uk) Спосіб переробки матеріалів, що містять поліетилентерефталат, з видаленням забруднень з поліетилентерефталату (варіанти)
JPS5539277A (en) Oxidation-resistant ion exchange resin and method of using it
KR890000136A (ko) 자외선 복사에 의한 멤브레인의 처리방법
JPS5641212A (en) Treatment of polymer emulsion
US3317441A (en) Method for temporarily protecting sensitive surfaces by direct-contact film-forming coatings
Safrany Synthesis and characterization of superclean thermo-reversible copolymer hydrogels
KR880014219A (ko) 캐스킷 밀봉의 제거방법
JPS51134781A (en) Method for removing volatile matters from a polymerization liquid comp osition
Mehta et al. Influence of some processing variables on the properties of cellulose acetate membranes III. Temperature dependence of the desalination performance of membranes plasticized by various plasticizers
JPS5283405A (en) Elimination of monomers
SU647318A1 (ru) Способ стабилизации полиметилметакрилата
Iijima et al. Induced thermoresponsive volume changes of poly (methacryloyl L-alanine ethyl ester) hydrogel
KR930008005A (ko) 폴리아릴렌 설피드의 제조방법
SU593452A1 (ru) Способ обработки изделий из термопластичных полимеров
Office Acknowledgment to the Reviewers of Toxins in 2022
Hoshide et al. Acknowledgment to the Reviewers of Toxins in 2022
KR910002913A (ko) 에리토르베이트를 수-팽창성 중합체의 중합용 산화환원 개시제 시스템의 성분으로 사용하는 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee