KR940016653A - 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법 - Google Patents
포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법에 있어서, 웨이퍼의 다이(Die)내에 형성되는 접속창을 포토마스크상의 스크라이브 라인(Scribe Line) 지역에 두개의 패드용 전도물질(1,1')이 N형으로 연결되도록 동일하게 패턴하는 제 1 단계와, 상기 스크라이브 라인에 형성된 패턴을 이용하여 접속창을 형성하는 제 2 단계와, 상기 스크라이브 라인에 형성된 접속창의 패드용 전도물질(1,1')에 전기적 검사를 실행하는 제 3 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명에 따른 일실시예시도.
Claims (2)
- 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법에 있어서, 웨이퍼의 다이(Die)내에 형성되는 접속창을 포토마스크상의 스크라이브 라인(Scribe Line) 지역에 두개의 패드용 전도물질(1,1')이 N형으로 연결되도록 동일하게 패턴하는 제 1 단계와, 상기 스크라이브 라인에 형성된 패턴을 이용하여 접속창을 형성하는 제 2 단계와, 상기 스크라이브 라인에 형성된 접속창의 패드용 전도물질(1,1')에 전기적 검사를 실행하는 제 3 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 3 단계의 전기적 검사는 저항, 전압, 캐패시턴스중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920026898A KR100265841B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920026898A KR100265841B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940016653A true KR940016653A (ko) | 1994-07-23 |
| KR100265841B1 KR100265841B1 (ko) | 2000-09-15 |
Family
ID=19348050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019920026898A KR100265841B1 (ko) | 1992-12-30 | 1992-12-30 | 포토마스크를 이용한 반도체 소자의 공정 모니터 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100265841B1 (ko) |
-
1992
- 1992-12-30 KR KR1019920026898A patent/KR100265841B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100265841B1 (ko) | 2000-09-15 |
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