KR940016562A - 반도체 장치의 노광기 제조방법 - Google Patents

반도체 장치의 노광기 제조방법 Download PDF

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길명군
구영모
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김주용
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    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 장치의 노광기 제조방법에 관한것으로, 반도체 제조공정중 포토마스크의 노광 및 현상공정 단계에서 노광기의 리덕션렌즈 하부에 이동가능한 렌즈를 부착시킴으로써 촛점도를 변화시켜 단차가 높은 부분과 단차가 낮은 부분에서 동시에 패턴의 형성이 가능하도록 하는 반도체 장치의 노광기 제조방법.

Description

반도체 장치의 노광기 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 3 도는 본 발명에 의한 노광기의 구조를 나타낸 평면도, 제 4 도는 본 발명에 의한 노광기의 원리를 도시한 단면도.

Claims (1)

  1. 광원에서 나온 빛에너지가 콘덴서렌즈와 리덕션렌즈를 통과하여 포토마스크 패턴과 180° 전이되어 웨이퍼상에 패턴이 형성되는 반도체 장치의 노광기 제조방법에 있어서, 단차가 높은부분과 단차가 낮은부분에서 동시에 촛점을 맞출수 있도록 하기위하여 리덕션렌즈 하부의 이동이 가능한 또다른 렌즈를 부착하여 렌즈의 이동에 따라 촛점도를 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 노광기 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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