KR970076102A - 노광장비의 촛점 교정 방법 - Google Patents
노광장비의 촛점 교정 방법 Download PDFInfo
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
본 발명은 반도체 리소그라피에 이용되는 노광장비의 촛점 교정 방법에 관한 것으로, 특히 외부의 환경 변화 또는 하드웨어(hard ware) 자체의 한계에 의해 발생될 수 있으며, 시간에 따라 변하는 장비의 최적 촛점(best forcus)의 이동(drift)을 용이하게 측정하고 측정된 값으로부터 노광장비의 최적 촛점으로 보정해줄 수 있도록 하는 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 의해 최적 촛점을 측정하기 위해 다수의 패턴이 구비된 레티클과 웨이퍼 스테이지 상부에 상기 레티클과 동이한 패턴이 구비된 격자를 배치한 것을 개략적으로 도시한 도면.
Claims (6)
- 노광장비의 광원에서 발생된 빛이 레티클과 집광렌즈를 거쳐서 상기 레티클에 구비된 패턴과 동일한 패턴이 구비된 격자를 통해 웨이퍼 스테이지의 표면에 구비되는 측정장치로 빛이 전달되도록 하는 단계와, 임의의 촛점 위치에서 x축으로 상기 격자와 측정장치를 함께 이동하면서 전달된 빛의 세기 또는 에너지 양을 상기측정장치에 측정하는 단계와 x축으로 이동하면서 측정되는 빛의 에너지양에서 가장 큰 값을 갖는 x축 위치로 상기격자와 측정장치를 조정하는 단계와, 상기 격자와 측정장치를 z 축으로 이동하면서 측정되는 빛의 에너지 양에서 상기 측정장치에서 측정하는 단계와, z축으로 이동하면서 측정되는 빛의 에너지양에서 가장 큰 값을 갖는 위치로 상기 격자와 측정장치를 조정하는 단계로 이루어지는 노광장비의 촛점 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 노광장비의 조명 애퍼처와 렌즈 애퍼처 사이에 다수의 패턴들이 구비된 레티클인 것을 특징으로 하는 노광장비의 촛점 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 노광장비의 광원은 G 라인, i 라인, DUV인 것을 특징으로 하는 노광장비의 촛점 교정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 노광장비를 E-beam 또는 X-ray 등의 비광학적 리소그라피 장비인 것을 특징으로 하는 노광장비의 촛점 교정 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 레티클에 형성되는 다수의 패턴은 라인/스페이스, 콘택홀 어래이, 소자 분리막 또는 저장전극인 것을 특징으로 하는 노광장비의 촛점 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 상기와 같이 x 축과 y축에서 측정되는 빛의 세기를 이용하여 공간 이미지 콘트라스트[(Imax-Imin)/(Imax+Imin)]를 측정하는 것을 특징으로 하는 노광장비의 촛점 교정 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960014946A KR970076102A (ko) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 노광장비의 촛점 교정 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960014946A KR970076102A (ko) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 노광장비의 촛점 교정 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970076102A true KR970076102A (ko) | 1997-12-10 |
Family
ID=66216671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960014946A KR970076102A (ko) | 1996-05-08 | 1996-05-08 | 노광장비의 촛점 교정 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970076102A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100674701B1 (ko) * | 2003-09-10 | 2007-01-25 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판노광방법 및 리소그래피 투영장치 |
-
1996
- 1996-05-08 KR KR1019960014946A patent/KR970076102A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100674701B1 (ko) * | 2003-09-10 | 2007-01-25 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판노광방법 및 리소그래피 투영장치 |
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