KR940010220A - 2개의 평행판 전극 형태의 건식 에칭 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 챔버에는 2개의 평행판 형태의 전극(14, 10)이 제공되고, 절연 라인 부재(13)이 전극들 중 하나의 전극에 장착된다. 절연 라인 부재는 마이크로파 발진기 (1)에 접속되어, 가스 플라즈마를 플라즈마 발생 챔버 내에 균일하게 발생시킨다. 고주파수 바이어스 전원 공급기(12)는 다른 전극에 접속된다.

Description

2개의 평행판 전극 형태의 건식 에칭 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 건식 에칭 장치의 제1실시예를 도시한 단면도,
제3도는 제2도의 건식 에칭 장치의 평면도,
제4A도는 제3도의 절연 라인 부재의 평면도,
제4B도 및 제4C도는 제4A도의 절연 라인 부재 내에 발생된 전기장의 파장도.

Claims (9)

  1. 건식 에칭 장치에 있어서, 플라즈마 발생 챔버(4), 상기 플라즈마 발생 챔버 내에 장착된 제1전극(14, 14′), 상기 플라즈마 발생 챔버 내에 장착되고, 상기 제1전극과 마주보고 에칭될 기판(9)에 장착된 제2전극(10), 마이크로파 발진기(1), 상기 마이크로파 발진기에 접속되고 상기 제1전극에 장착되어, 절연 라인 부재의 마이크로파 방출면으로부터 상기 플라즈마 발생 챔버 내로 마이크로파를 유입하는 절연 라인 부재(13), 및 상기 제2전극에 접속된 고주파수 바이어스 전원 공급기(12)를 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 절연 라인 부재가 판 형태인 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1전극이 상기 플라즈마 발생 챔버의 표면과 상기 절연 라인 부재 사이에 배치된 판 형태인 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1전극이 상기 절연 라인 부재의 플라즈마 방출면의 측면에 배치된 판 형태이고, 상기 제1전극이 마이크로파를 관통시키기 위한 다수의 슬리트(14a)를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 건식 에칭장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1전극의 슬리트가 비등거리의 스트립인 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제1전극의 슬리트가 동심의 직사각형인 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  7. 제4항에 있어서, 상기 제1전극의 슬리트가 동심원인 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  8. 제4항에 있어서, 상기 제1전극의 각 슬리트 면적이 상기 각각의 슬리트 위치에서 상기 절연 라인 부재의 전기장에 따라 변하는 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생 챔버의 외부에 등거리로 장착된 다수의 자석(15)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930020707A 1992-04-13 1993-10-07 2개의 평행판 전극 형태의 건식 에칭 장치 KR0126056B1 (ko)

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