KR940009758A - 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 산화막 건식 식각후 잔류물 제거 방법에 관한 것으로 실리콘 기판이 노출되는 산화막 건식 식각후 잔류물을 제거한 것이다. 종래에는 CFx-폴리머는 제거할 수 있으나 SiOyCz는 제거할 수 없어 열산화가 되지않고 정션 리키지가 증가하였다. 반면 본 발명은 CF4/O2플라즈마 또는 HBr/Cℓ2플라즈마로 에치하고 BOEdyddor 또는 HF용액으로 크리닝하여 잔류물을 완전 제거하였다. 따라서 열산화가 잘되고 정션 리키지도 감소하였다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 일반적인 산화막 오버에치후 잔류물 스펙트라 특성도,
제2도는 본발명에 따른 건식 크리닝후의 잔류물 스펙트라 특성도,
제3도는 본발명에 따른 건식+습식 크리닝후의 잔류물 스펙트라 특성도,
제4도는 본발명에 따른 소수 캐리어 라이프 타임 특성도.
Claims (5)
- 실리콘 기판이 드러나도록 산화막을 식각한 후 CHF계열과, O2플라즈마의 혼합가스로 에치하여 잔류물을 제거함을 특징으로 하는 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법.
- 제1항에 있어서, CHF 계열보다 O2의 양을 많게 함을 특징으로 하는 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법.
- 제1항에 있어서, 에치의 깊이를 30-200Å으로 함을 특징으로 하는 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법.
- 제1항에 있어서, 에치후 불산용액(BOE) 또는 HF용액으로 크리닝함을 특징으로 하는 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법.
- 제1항에 있어서, HBr/cℓ2플라즈마 혼합가스로 에치함을 특징으로 하는 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019920018473A KR950004971B1 (ko) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019920018473A KR950004971B1 (ko) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR940009758A true KR940009758A (ko) | 1994-05-24 |
KR950004971B1 KR950004971B1 (ko) | 1995-05-16 |
Family
ID=19340822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019920018473A KR950004971B1 (ko) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 산화막 건식 식각후 잔류물 제거방법 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR950004971B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100272264B1 (ko) * | 1996-12-30 | 2000-12-01 | 김영환 | 반도체 소자의 제조방법 |
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1992
- 1992-10-08 KR KR1019920018473A patent/KR950004971B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100272264B1 (ko) * | 1996-12-30 | 2000-12-01 | 김영환 | 반도체 소자의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR950004971B1 (ko) | 1995-05-16 |
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