KR940003894B1 - 샴푸 조성물 - Google Patents

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KR940003894B1
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바켄 윌리암즈 테레사
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더 프록터 앤드 갬블 캄파니
리차드 찰스 윗트
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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
샴푸 조성물
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 크산탄 고무를 사용하여 안정화시킨 불용성이고 비휘발성인 실리콘상이 분산되어 있는 컨디셔닝 샴푸에 관한 것이다. 인체의 두발은 대기와 접촉함으로 해서 더렵혀지며 주로 두부에서 분리되는 피지에 의해 더렵혀진다. 피지가 쌓이면 두발이 불결하게 느껴지고 외양도 좋지 못하다. 두발이 더렵혀지면 부득히 정기적으로 자주 샴푸해야 한다. 두발을 샴푸하면 과다한 오물 및 피지가 제거되어 청결해진다. 그러나 샴푸 과정중에 두발이 젖고 엉기며, 일반적으로 손질하기 힘든 상태가 된다는 단점이 있다. 샴푸 후의 문제를 경감시키기 위한 여러가지 방법이 개발되어 왔다. 이러한 방법에는 샴푸에 두발 컨디셔닝 보조제를 함유시키는 방법 내지는 샴푸 후에 두발 조절제, 즉 헤어 린스를 사용하는 방법이 포함된다. 헤어 린스는 통상적으로 중합체 필름 또는 다른 물질을 두발에 부착시킴으로서 작용한다. 그러나 아주 일반적으로 볼 수 있는 문제에 대한 해결안으로서는 완전히 만족스럽지 못하다. 한가지 예로서, 린스는 일반적으로 액체이며, 샴푸 후의 별도의 단계로 사용하여야 하고 장시간 두발에 남겨둔 후 신선한 물로 세정해야 한다. 물론 이러한 방법은 시간이 많이 걸리며 불편하다. 컨디셔닝 보조제를 함유하는 샴푸가 알려져 있으나, 여러가지 이유로 해서 완전히 만족스러운 것은 아니다. 한가지 문제는 우수한 세정제인 음이온 계면활성제와 우수한 컨디셔닝제인 양이온성 지방 제제와의 혼화성 문제이다. 그 결과, 당해 분야의 종사자들이 비이온, 양성 및 쯔비터이온과 같은 계면활성제를 조사하게 되었다. 이러한 여러가지 연구노력이 컨디셔닝 샴푸 분야에서 허여된 특허에 반영되어 있다[참조 : 예를 들어, Hewitt의 미합중국 특허 제3,849,348호(1974.11.19); Gerstein의 미합중국 특허 제3,990,991호 (1961.11.9), 및 Sato의 미합중국 특허 제3,822,312호(1974.7.2)].
이와 같은 다른 계면활성제를 사용하여 여러가지 혼화성 문제를 해결하였으나 모든 분야에서 충분한 해결안을 제공하지는 못하였다. 예를 들어, 양이온성 컨디셔너는 사용자가 원하는 정도의 바람직한 유연성을 제공하지는 못한다. 유연성을 증가시킬 수 있는 물질은 샴푸 매트릭스에 가용성이거나 불용성인 실리콘이다. 샴푸 조성물중의 실리콘은 여러가지 다른 출판물에 기술되어 있다[참조 : Green의 미합중국 특허 제2,826,551호(1958.3.11);Drakoff의 미합중국 특허 제3,964,500호 (1976.6.22); Pader의 미합중국 특허 제4,364,837(1982.12.21); Woolston의 영국 특허 제849,433호(1960.9.28), Good의 미합중국 특허 제4,341,799호(1982.7.27) 및 Boskamp의 미합중국 특허 제4,465,619호(1984.8.14)]. 이들 특허에는 실리콘 함유 조성물이 기술되어 있으나, 이러한 특허 역시 완전히 만족스러운 제품을 제조할 때 직면하는 모든 문제에 대한 해결 방안을 제공하지는 못한다. 한가지 미해결된 문제점은 만족할만한 샴푸 성능을 제공하면서도 불용성, 비휘발성의 분산된 실리콘 물질을 현탁된 상태로 유지하고 제품 전체가 안정되게 하는 문제이다. 증점시키고 안정화시킬 목적으로 실리콘 함유 샴푸에 여러가지 물질을 함유시켰으나 완전히 만족스러운 해결 방안은 아니다. 조성물에 특정 성분을 함유시키면 두발에의 실리콘 물질의 부착 및 다른 샴푸 기능을 과도하게 방해하지 않는 안정된 조성물을 제공할 수 있음이 예기치 않게 밝혀졌다. 안정된 실리콘 함유 컨디셔닝 샴푸를 제공하는 것은 본 발명의 목적이다. 크산탄 고무를 함유하는 실리콘 샴푸를 제공하는 것 또한 본 발명의 목적이다. 두발에 우수한 컨디셔닝(예. 빗질의 용이함, 유연성, 촉감 등)을 주는 샴푸를 제공하는 것 또한 본 발명의 목적이다. 개선된 두발 샴푸잉 및 컨디셔닝 방법을 제공하는 것 또한 본 발명의 목적이다. 상기 목적 및 기타의 목적은 하기의 상세한 설명에서 명백하다.
달리 언급하지 않는한, 본 명세서에서의 퍼센트 및 비는 모두 중량을 기준으로 한다. 본 발명은 합성 음이온 계면활성제 약 5% 내지 약 50%, 불용성, 비휘발성의 분산된 실리콘 약0.1% 내지 약10.0%, 크산탄 고무 약 0.4% 내지 약 3% 및 물을 함유하는 샴푸 조성물에 관한 것이다. 상기 성분 및 임의 성분을 하기에 상세히 설명한다. 본 발명의 필수 성분 및 임의 성분은 다음과 같다.
[계면활성제]
본 조성물의 필수 성분은 합성 음이온 계면활성제이다. 계면활성제는 약 5% 내지 약 50%, 바람직하게는 약 10% 내지 약 30% 수준으로 존재한다. 본 명세서에서 유용한 합성 음이온 세제는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트이다. 이들 물질의 일반식은 각각 ROSO3M 및 RO(C2H4O)× SO3M(여기서, R은 탄소수 약 10 내지 약 20의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 10이고, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨 및 트리에탄올아민과 같은 수용성 양이온이다)이다. 본 발명에 유용한 알킬 에테르 설페이트는 에틸렌 옥사이드와 탄소수 약10 내지 20의 1가 알콜의 축합 생성물이다. 바람직하게는, 알킬 및 알킬 에테르 설페이트에서 R의 탄소수는 14 내지 18이다. 알콜은 지방, 예를 들어 야자유 또는 우지로부터 유도할 수 있거나 합성할 수도 있다. 본 발명에서는 야자유로부터 유도된 라우릴 알콜 및 직쇄 알콜이 바람직하다. 이러한 알콜을 에틸렌 옥사이드 1 내지 10, 특히 3몰 분획과 반응시키고, 예를 들어 알콜 몰당 에틸렌 옥사이드 평균 3몰을 갖는 분자종의 생성 혼합물을 황산화시키고 중화시킨다. 본 발명의 알킬 에테르 설페이트의 구체적인 예에는 나트륨 야자 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트; 리튬 우지 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트; 및 나트륨 우지 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트가 있다. 아주 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 각 화합물의 혼합물을 함유하는 알킬 에테르 설페이트이며 이 혼합물의 평균 알킬쇄 길이는 탄소수 약 12 내지 16이며 평균 에톡실화도는 에틸렌 옥사이드 약 1 내지 4몰이다. 이러한 혼합물은 C12-13화합물 약 0 내지 20중량%, C14-15-16화합물 60 내지 100중량%, C17-18-19화합물 약 0 내지 20중량%, 에톡실화도가 0인 화합물 약 3 내지 30중량%, 에톡실화도가 1 내지 4인 화합물 약45 내지 90중량%, 에톡실화도가 4 내지 8인 화합물 10 내지 25중량%, 및 에톡실화도 8이상인 화합물 약 0.1 내지 15중량%를 포함한다. 본 발명 범위에 속하는 음이온 합성세제의 추가 예에는 아세티온산으로 에스테르화시키고 수산화 나트륨으로 중화시킨 지방산의 반응 생성물(여기서, 예를 들어 지방산은 야자유로부터 유도된 것이다); 지방산이, 예를 들어 야자유로부터 유도된 메틸타우라이드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨염이다. 이러한 종류의 여러가지 다른 음이온 합성세제가 미합중국 특허 제2,486,921호, 제2,486,922호 및 제2,396,278호에 기술되어 있다. 또다른 음이온 합성세제는 석신아메이트로 지칭되는 부류이다. 이 부류에는 이나트륨 N-옥타데실설포석신아메이트, 사나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포-석신아메이트, 나트륨 설포석신산의 디아밀 에스테르, 나트륨 설포석신산의 디헥실 에스테르, 나트륨 설포석신산의 디옥틸 에스테르와 같은 표면 활성제가 포함된다. 본 발명에 유용한 다른 음이온 세제는 탄소수가 약 12 내지 24인 올레핀 설포네이트이다. 용어 "올레핀 설포네이트"는 착화되지 않은 삼산화황을 사용하여 α-올레핀을 설폰화시킨 다음, 반응에서 형성된 설폰이 가수분해되어 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트가 생성되는 조건하에 산 반응 혼합물을 중화시켜 생성시킬 수 있는 화합물을 의미한다. 삼산화황은 액체 또는 기체일 수 있으며 반드시 그런 것은 아니지만, 일반적으로 불활성 희석제로 희석시키는데, 예를 들어 액체 형태로 사용하는 경우 액체 SO2, 염소화 탄화수소 등으로, 기체 형태로 사용하는 경우 공기, 질소, 기체 SO2등으로 희석시킨다.
올레핀 설포네이트가 유도되어 나오는 α-올레핀은 탄소수 12 내지 24, 바람직하게는 탄소수 14 내지 16의 모노-올레핀이다. 바람직하게는 이 화합물은 직쇄 올레핀이다. 적절한 1-올레핀의 예에는 1-도데센; 1-테트라데센; 1-헥사데센; 1-옥타데센; 1-시코센 및 1-테트라에오센이 포함된다. 순수한 알켄 설포네이트 및 일정 비율의 하이드록시-알칸설포네이트 외에도 올레핀 설포네이트는 반응조건, 반응물의 비율, 출발 올렌핀의 성질 및 올레핀 원료의 불순도 및 설폰화 공정중의 부반응에 따라, 소량의 다른 물질(예. 알켄 디설포네이트)을 함유할 수 있다. 상기한 바와 같은 특정한 유형의 α-올레핀 설포네이트 혼합물은 본 명세서에서 참고로 인용하는 미합중국 특허 제3,332,880호("Detergent Composition"이란 표제로 Phillip F. Pflaumer 및 Adrian Kessler에 의해 1967년 7월 25일에 허여됨)에 더욱 상세히 기술되어 있다.
다른 부류의 음이온 유기 세제는 β-알킬옥시알칸 설포네이트이다. 이 화합물의 일반식은 다음과 같다 :
Figure kpo00001
상기식에서 R1은 탄소수 6 내지 20의 직쇄 알킬 그룹이고, R2는 탄소수 1(바람직함) 내지 3의 저급 알킬그룹이고 M은 상술한 바와 같은 수용성 양이온이다.
가정 세탁 조건하에 우수한 세척능을 제공하는 본 발명에 유용한 경도(칼슘이온) 민감성이 낮은 β-알킬옥시-알칸-1-설포네이트, 또는 2-알킬옥시-알칸-1-설포네이트의 구체적인 예에는 하기 화합물이 포함된다 :
칼륨-β-메톡시데칸설포네이트, 나트륨 2-메톡시트리데칸설포네이트, 칼륨 2-에톡시테트라데실- 설포네이트, 나트륨 2-이소프로폭시헥사데실설포네이트, 리튬 2-3급-부톡시테트라데실설포네이트, 나트륨β-메톡시옥타데실설포네이트, 및 암모늄-n-프로폭시도데실설포네이트.
다른 적합한 부류의 음이온 계면활성제는 하기 일반식의 유기 황산 반응 생성물의 수용성 염이다 :
R1-SO3-M
상기식에서, R1은 탄소수 8 내지 24, 바람직하게는 12 내지 18의 직쇄 또는 측쇄의 포화 지방족 탄화수소 라디칼로 이루어지는 그룹중에서 선택되고 M은 양이온이다. 중요한 예로는 표백 및 가수분해를 포함하는 공지된 설폰화 방법에 따라 수득한, 탄소수 8 내지 24, 바람직하게는 12 내지 18의, 이소-, 네오-, 이네소- 및 n-파라핀을 포함하는 메탄 계열의 탄화수소의 설폰화제(예 : SO3,H2SO4및 올레움)의 유기 황산 반응 생성물의 염을 들수 있다. 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화된 C12-18-n 파라핀이 바람직하다. 여러가지 다른 비-비누성 음이온 합성 계면활성제는 본 명세서에서 참고로 인용한 하기 문헌에 기술되어 있다[참조 : Allured Publishing Corppration이 발행한 McCUTCHEON'S, DETERGENTS AND EMULSIFIERS, 1984 ANNUAL]. 또한 미합중국 특허 제3,929,678호(Laughlin등, 1975.12.30)에도 여러가지 다른 음이온성 계면활성제 유형이 기술되어 있는데 본 명세서에 참고로 인용한다.
상술한 계면활성제를 본 발명의 샴푸 성물에 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 알킬 설페이트, 에톡실화된 알킬 설페이트 및 이의 혼합물이 사용하기에 바람직하다.
[비휘발성 실리콘 액체]
비휘발성 실리콘 액체는 폴리알킬 실록산, 폴리아릴 실록산, 폴리알킬아릴 실록산 또는 폴리에테르 실록산 공중합체일 수 있으며 약 0.1% 내지 약 10.00%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 5.0% 양으로 존재한다. 이들 액체의 혼합물을 사용할 수도 있고 특정한 실시에 바람직하다. 분산된 실리콘 입자는 샴푸 매트릭스에 용해되지 않아야 한다. 이것이 본 명세서에 사용된 "불용성"의 의미이다.
사용될 수 있는, 본질적으로 비휘발성의 폴리알킬 실록산은, 예를 들어 25℃에서 점도가 약 5 내지 600,000센티스토크인 폴리디메틸 실록산이다. 이러한 실록산은, 예를 들어 제너랄 일렉트릭 캄파니(General Electric Company)로부터 비스카실(Viscasil) 시리즈로서, 다우 코닝으로부터 다우 코닝 200(Dow Corning 200) 시리즈로서 입수할 수 있다. 점도는 하기 문헌에 기술된 바와 같은 유리 모세관식 점도계를 사용하여 측정할 수 있다[참조 : Dow Corning Corporate Test Method CTM 0004, 1970.7.20]. 바람직한 점도 범위는 약 350센티스토크 내지 약 100,000센티스토크이다.
사용할 수 있는, 본질적으로 비휘발성인 폴리알킬아릴 실록산은, 예를 들어 25℃에서의 점도가 약 15 내지 65센티스토크인 폴리메틸페닐실록산이다. 이러한 실록산은, 예를 들어 제너랄 일렉트릭 캄파니로부터 SF1075 메틸 페닐 액으로서, 또는 다우 코닝으로부터 556 코즈메틱 그레이트 플루이드(556 Cosmetic Grade Fluid)로서 입수할 수 있다.
본질적으로 비휘발성인 폴리에테르 실록산 공중합체로는, 예를 들어 에틸렌 옥사이드 또는 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 혼합물을 사용할 수도 있으나, 폴리프로필렌 옥사이드 개질된 디메틸폴리실록산(Dow Corning DC-1248)을 사용한다.
적합한 실리콘이 기술되어 있는 문헌은 미합중국 특허 제2,826,551호(Geen), 미합중국 특허 제3,964,500호(Drakoff, 1976.6.22), 미합중국 특허 제4,364,837(Pader) 및 영국 특허 제849,433호(Woolston)이다. 상기의 모든 특허를 본 명세서에서 참고로 인용한다. 페트라치 시스템즈 인코포레이티드(Petrarch Systems, Inc.)가 1984년 배포한 실리콘 화합물도 본 명세서에 참고로 기재한다. 이러한 참조 문헌은 적절한 실리콘 물질의 매우 바람직한 목록을 제공해준다. 특히 유용한 것으로 밝혀진 물질은 페트라치 등에 의해 기술된 실리콘 고무이다. 또다른 2가지 참조문헌은 미합중국 특허 제4,152,416호(1979.5.1, Spitzer등 및 Noll, Walter), 케미스트리 앤드 테크날러지 오브 실리콘(Chemistry and Technology of Silicones, New York : Academic Press 1968)이다. 상기 두 문헌 모두 본 명세서에서 참고로 인용한다. 이 물질들의 분자량은 일반적으로 약 200,000 내지 약 700,000이다.
[크산탄 고무]
크산탄 고무는 실리콘 액체를 현탁시키기 위해 본 조성물에 사용하는 제제이다. 이 생합성 고무 물질은 시판되고 있으며, 분자량이 1백만이상인 헤테로폴리삭카라이드이다. 이 물질은 D-글루코즈, D-만노즈 및 D-글루쿠로네이트를 2.8 : 2.0 : 2.0의 몰비로 함유한다. 폴리삭카라이드는 4.7% 이하의 아세틸로 부분적으로 아세탈화된다. 이 정보 및 다른 정보는 문헌(Whistler, Roy L. Editor Industrial Gums-Polysaccharides and Their Derivatives New York : Academic Press, 1973)에 기술되어 있다. 머크 앤드캄파니, 인코포레이티드에 속하는 켈로(Kelco, a Division of Merck E. Co., Inc.)가 크산탄 고무를 케트롤(KeltrolR)로서 시판하고 있다. 고무는 본 발명 조성물중의 약 0.4% 내지 약 3%, 바람직하게는 약0.6% 내지 약 1.2%양으로 존재한다.
[물]
물은 본 발명의 마지막 필수 성분이며 조성물의 나머지 부분을 형성한다. 이는 통상 약 20% 내지 95%, 바람직하게는 약 60% 내지 약 85% 양으로 존재한다.
[임의 성분]
본 발명의 샴푸는 본 발명 조성물을 보다 바람직하게 하기에 적합한 여러가지 임의의 비필수 성분을 함유 할 수 있다. 이러한 통상적인 임의 성분은 당해 분야의 전문가에게 널리 공지되어 있으며, 예를 들면 에틸렌 에틸렌 글리콜 디스테아레이트와 같은 진주박 보조제; 벤질 알콜, 메틸 파라벤, 프로필 파라벤 및 이미다졸리디닐 우레아와 같은 방부제; 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴디메틸 벤질 암모늄 클로라이드 및 디(부분적으로 수소화된 우지) 디메틸 암모늄 클로라이드와 같은 양이온 계면활성제; 장쇄 지방산(예 : PEG 3 라우르아미드)의 디에탄올아미드, 아민 옥사이드, 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 중합체(예. BASF Wyandotte의 pluronic F 88), 지방 알콜(예. 세테아릴 알콜), 염화나트륨, 황산나트륨, 폴리비닐 알콜, 및 에틸 알콜과 같은 농후제 및 점도 조절제; 시트르산, 석신산, 인산, 수산화나트륨, 탄산나트륨등과 같은 pH 조절제; 향료; 염료; 및 이나트륨 에틸렌디아민 테트라아세테이트와 같은 금속이온 봉쇄제가 있다. 이러한 시제는 통상 조성물의 약 0.01중량% 내지 약 10중량%, 바람직하게는 약 0.5중량% 내지 약 5.0중량 범위로 각각 사용된다. 특정한 본 발명 조성물에 사용하기 바람직한 다음 임의 성분은 휘발성 실리콘 또는 수불용성 탄화수소이다. 이러한 시제는 본 명세서에 참고로 인용하는 미합중국 특허 제4,472,375호 (1984.9.18;R.E. Bolich)에 기술되어 있다. 이들 시제는 제품을 사용할 경우, 제품중의 고분자량 비휘발성 실리콘의 분산을 돕는다. 이들 시제는 약 0.1% 내지 약 5%양으로 사용된다.
본 조성물의 pH는 중요하지 않으나 4 내지 약 10일 수 있다.
[제조방법]
본 발명의 샴푸는 다음 방법으로 제조할 수 있다 :
A) 터어빈 깃을 500r.p.m으로 사용하여 조성물의 계면활성제 및 물을 함께 혼합하고
B) A)의 혼합물을 66℃로 가열하고 소용돌이가 생기도록 충분히 교반하여, 발생된 소용돌이에 크산탄고무를 분산시킨다. 이 단계 동안 온도는 약 66℃로 유지한다.
C) 동일한 속도로 교반하면서 나머지 성분(실리콘 제외)을 가한다.
D) 실리콘을 가하고 실리콘 입자의 평균 직경이 10미크론 이하가 될때까지 고성능 전단 혼합기를 사용하여 조성물을 전단한다(입자크기 분포가 약 2 내지 약 55미크론일 수 있다).
E) 500r.p.m에서 혼합하면서 조성물을 27℃까지 냉각시킨다.
[산업적 이용성]
본 발명의 조성물은 통상적인 세발 방법으로 사용한다. 통상 물에 젖은 두발에 조성물 약 0.1g 내지 약 10g을 사용하여 두발에 고루 문지른 다음 헹군다.
다음 실시예로써 본 발명 범위에 속하는 바람직한 태양을 설명한다. 실시예는 단지 본 발명을 설명하기 위한 것이며, 발명 목적 및 범위를 벗어나지 않는한 여러가지로 변형시킬 수 있으므로, 이로써 본 발명을 제한하려는 것은 아니다.
[실시예 1-V]
하기 조성물은 본 발명의 대표적인 예이다.
Figure kpo00002
1. 다우 코닝 코포레이션(Dow Corning Corporation)의 디메틸폴리실록산.
2. 다우 코닝 코포레이션의 디메틸폴리실록산.
3. 다우 코닝 코포레이션의 디메틸폴리실록산.
4. 제너랄 일렉트릭 캄파니(General Electric company)의 디메틸폴리실록산 고무; Silicone Compound SE-76.
상기 조성물은 안정하며 세척한 두발에 우수한 컨디션닝을 제공한다. 열거된 계면활성제 대신에 알파 올레핀 설포네이트 또는 알킬 글리세릴 설포네이트와 같은 다른 음이온 계면활성제를 조성물에 사용하는 경우, 동일한 결과를 얻는다. 유사하게, 열거된 실리콘 대신에 6 내지 8페이지에 기술된 것과 같은, 다른 점도 및 유형의 실리콘을 사용하는 경우, 유사한 결과가 얻어진다.

Claims (12)

  1. 음이온 합성 계면활성제 또는 이의 혼합물 약 5% 내지 약 50%, 불용성이고 비휘발성인 분산된 실리콘 또는 이의 혼합물 약 0.1% 내지 약 10%, 크산탄 고무 약 0.4% 내지 약 5%, 및 나머지 물을 포함하는 샴푸 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 계면활성제가 알킬 설페이트, 에톡실화된 알킬 설페이트, 알파 올레핀 설포네이트, 알킬 설포네이트 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 샴푸 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 비휘발성 실리콘의 점도가 25℃에서 약 5 내지 약 600,000센티스토크인 샴푸 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 계면활성제가 알킬 설페이트, 에톡실화된 알킬 설페이트 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 샴푸 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 비휘발성 실리콘이 폴리디메틸-실록산인 샴푸 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 조성물에 아미드를 추가로 포함하는 샴푸 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 계면활성제가 알킬 설페이트인 샴푸 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 폴리디메틸실록산의 점도가 25℃에서 350센티스토크인 샴푸 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 계면활성제가 암모늄 알킬 설페이트인 샴푸 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 비휘발성 실리콘 조성물이 비휘발성 실리콘 혼합물인 샴푸 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 비휘발성 실리콘중 하나가 실리콘 고무인 샴푸 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 휘발성 실리콘을 추가로 함유하는 샴푸 조성물.
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