KR930018679A - 리소그래피공정 - Google Patents

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KR930018679A
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히사유끼 시마다
시게끼 시모무라
아키요시 스즈끼
마모루 미야와키
미요꼬 노구찌
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타다히로 오오미
야마지 게이조
캐논 가부시기가이샤
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Abstract

상이한 크기 또는 상이한 형상의 패턴성분을 지닌 패턴을 형성하는 리소그래피공정에 있어서, 변형조명법에 의해 레지스트를 소정의 광패턴으로 노광하고 제거하는 단계로 구성되고, 레지스트영역에 관해서, 레지스트의 제거해야 할 보다 적은 패턴성분의 용해를 촉진시킬 수 있는 능력을 지닌 계면활성제를 함유하는 리소그래피용 현상액을, 상기 레지스트패턴의 형성단계의 적어도 일부에 이용하는 것을 특징으로 한다.
또, 상기 계면활성제는 하기의 일반식 HO(CH2CH2O)a(CH(CH3)CH2O)b(CH2CH2O)cH (식중, a,b,c는 정수)으로 표기되고, 또, 상기 계면활성제는, HO(CH2CH2O)a의 분자량을 A, (CH(CH3)CH2O)b의 분자량을 B, (CH2CH2O)cH의 분자량을 C라 한 때, (A+C)/(A+B+C)≤0.3의 관계를 만족하는 것을 특징으로 한다.

Description

리소그래피공정
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제7a도는 본 발명의 변형조명법(Q,U,E,S,T)을 이용한 이용한 노광장치의 일례를 개략적으로 도시한 도면.
제7b도는 제7a도의 조리개부재의 개략정면도.
제7c도는 제7a도의 크로스필터의 설명도.
제11도는 실시예 2에서 이용한 노광장치를 도시한 개략도.
제12도는 실시예 3에서 이용한 노광장치를 도시한 개략도.

Claims (19)

  1. 상이한 크기 또는 상이한 형상의 패턴성분을 지닌 패턴을 형성하는 리소그래피공정에 있어서, 변형조명법에 의해 레지스트를 소정의 광패턴으로 노광하고 제거하는 단계로 구성되고, 레지스트영역에 관해서, 레지스트의 제거해야할 보다 적은 패턴성분의 용해를 촉진시킬 수 있는 능력을 지닌 계면활성제를 함유하는 리소그래피용 현상액을, 상기 레지스트패턴의 형성단계의 적어도 일부에 이용하는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  2. 제1항에 있어서, 상기 계면활성제는 발포방지성을 지니는 계면활성제인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 계면활성제는 옥시에틸렌-옥시프로필렌블록을 분기된 사슬에 지니는 아민계 계면활성제인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 계면활성제는 친수기로서 아민기, 옥시에틸렌기 및 옥시프로필렌기를 지니는 계면활성제인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 계면활성제의 현상제중의 농도는 300ppm 이상인 것을 특징으로 하는 리소리그피공정.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 계면활성제는 하기 일반식 HO(CH2CH2O)a(CH(CH3)CH2O)b(CH2CH2O)cH
    (식중, a,b,c는 정수)으로 표기되는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  7. 제6항에 있어서, 상기 계면활성제는, HO(CH2CH2O)a의 분자량을 A, (CH(CH3)CH2O)b의 분자량을 B, (CH2CH2O)cH의 분자량을 C라 한 때, (A+C)/(A+B+C)≤0.3의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 계면활성제의 분자량은 4000이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  9. 제6항 내지 제8항중 어느 한 항에 있어서, 상기 계면활성제의 현상제중의 농도는 100ppm~1000ppm인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  10. 제1항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 레지스트패턴성분의 크기가 0.5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  11. 제1항 내지 제10항중 어느 한 항에 있어서, 레지스트의 표면 또는 레지스트의 베이스기판에 흡착된 계면활성제를, 0.1ppm 이상의 오존을 함유하는 초순수에 의해 제거하는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  12. 제11항에 있어서, 오존의 농도는 2.0ppm 이상인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  13. 제1항 내지 제12항중 어느 한 항에 있어서, 상기 변형조명법은 고리형상 밴드조명법인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  14. 제1항 내지 제12항중 어느 한 항에 있어서, 상기 변형조명법은 가로·세로로 배열된 패턴성분으로 구성된 미세패턴을 조명하고, 해당 미세패턴에 의해 희절된 광을 투명광학계의 동공으로 입사시키는 방법으로서, 상기 동공의 중심 및 동공의 중심을 통과해서 상기 패턴의 가로·세로 방향으로 연장된 한쌍의 축을 제외한 부분에서 광강도가 높은 광량분포를 지니는 유효광원을 동공에 형성하는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  15. 제14항에 있어서, 상기 유효광원의 동공에서의 광량분포가, 상기 동공중심을 통과해서 xy축에 대해서 45°정도를 이루는 방향으로 연장된 제1축을 따른, 동공중심에 관해서 대칭인 장소에서 서로 강도가 거의 동등한 1쌍의 피크를 지니는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  16. 제15항에 있어서, 상기 유효광원의 동공에서의 광량분포가, 상기 동공중심을 통과해서 상기 제1축에 대해서 90°정도를 이루는 방향으로 연장된 제2축을 따른, 동공중심에 관해서 대칭인 장소에서 서로 강도가 거의 동등한 1쌍의 피크를 지니는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  17. 제15항에 있어서, 상기 유효광원이 제1부분 및 제2부분을 구비하고, 상기 제1부분이 상기 피크의 한쪽을, 상기 제2부분이 상기 피크의 다른 쪽을 지니는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
  18. 제15에 있어서, 상기 유효광원이 제1 및 제2부분은, 거의 원형의 서로 직경이 동일한 광패턴으로 이루어지고, 상기 동공의 직경을 1, 상기 제1축 및 제2축을 xy좌표로 하고, 동공의 중심을 좌표의 원점으로 가정한 경우, 상기 제1부분과 제2부분의 반경을 q, 상기 제1부분 및 제2부분의 중심위치의 좌표를 (p,p) 및 (-p,-p)라 할때, 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
    0.25p0.6
    0.15q0.3
  19. 제14항에 있어서, 상기 동공의 중심 및 이 동공의 중심을 통과해서 상기 패턴의 가로·세로방향으로 연장된 한쌍의 축상의 각 부분에서의 광강도가 거의 0인 것을 특징으로 하는 리소그래피공정.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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