KR930018292A - 정합 다중 굴절 요소의 재료를 사용하는 광대역의 광학 축소 시스템 - Google Patents

정합 다중 굴절 요소의 재료를 사용하는 광대역의 광학 축소 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광대역폭에 걸친 색보정을 위해 정합되며 서로 다른 유리 형태로 구성된 굴절요소를 사용하는 광대역 카타디이옵트릭 광학 축소 시스템에 관한 것이다.
융합된 실리카 및 크라운(crown)유리를 결합시킨 것이 사용된다. 비구면 거울은 개선된 수차 보정을 위해 사용된다. 상기 광학 시스템은 Ⅰ-라인에서의 반도체 제조용 석판인쇄 기술에서 사용하기에 적합하며 365 나노미터에서 0.5 마이크론의 해상도를 갖는다.

Description

정합 다중 굴절 요소의 재료를 사용하는 광대역의 광학 축소 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
첨부된 단일 도면은 본 발명의 광학 시스템(optical system)을 예시하는 개략도.

Claims (13)

  1. 길이가 긴 결합 단부로부터 길이가 짧은 결합 단부까지, 적어도 2개의 서로 다른 재료로부터 만들어진 굴절 요소를 포함하는 제1의 렌즈 그룹, 적어도 2개의 서로 다른 재료로부터 만들어진 굴절요소를 포함하는 제2의 렌즈그룹. 비임 분할기, 제3의 렌즈, 축소 거울, 및 적어도 2개의 서로 다른 재료로부터 만들어진 굴절요소를 포함하는 제4의 렌즈 구릅을 포함하는 카타다이옵트릭(catadioptric)광학 축소 시스템으로서, 상기 시스템으로 인입되는 방사선이 상기 제1의 렌즈 그룹, 상기 제2의 그룹, 상기 비임 분할기, 상기 제3의 렌즈를 관통하며 상기 거울에 의하여 상기 제3의 렌즈, 상기 비임 분할기, 및 상기 제4의 렌즈 그룹을 통해 다시 반사되도록 배치되어 있는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 축소 거울이 구면인 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 축소 거울이 비구면인 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 비임 분할기상에 있으므로써 입사면과 수직면인 방향으로 선형 편광되는 방사선만이 90˚각도로 접혀지게 하는 피막 수단을 부가적으로 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 비임 분할기 및 상기 제3의 렌즈사이에 배치된1/4파면을 부가적으로 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1의 렌즈 그룹과 상기 제2의 렌즈 그룹사이에 배치된 접을 수 있는 거울을 부가적으로 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 적어도 2개의 서로 다른 재료가 크라운 유리와 융합된 실리카인 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1의 렌즈 그룹은, 크라운 유리로부터 만들어진 제1의 정렌즈, 융합된 실리카 유리로 부터 만들어진 부렌즈, 및 유합된 실리카 유리로 부터 만들어진 제2의 정렌즈를 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제2의 렌즈 그룹은, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 부렌즈, 및 크라운 유리로부터 만들어진 정렌즈를 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  10. 제7항에 있어서, 상기 제3의 렌즈는 크라운 유리로부터 만들어진 부렌즈인 카타다이옵트릭 광학 축소시스템.
  11. 제7항에 있어서, 상기 제4의 렌즈 그룹은, 크라운 유리로부터 만들어진 제1의 정렌즈, 융합된 실리카 유리로 부터 만들어진 제1의 셀(shell), 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 제2의 셀, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 제2의 정렌즈, 및 크라운 유리로부터 만들어진 제3의 정렌즈를 포함하는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  12. 반도체 제조에 사용될 경우 사진석판인쇄 기술에서 사용되며, 길이가 긴결합 단부로부터 길이가 짧은 결합단부까지, 크라운 유리로부터 만들어진 제1의 정렌즈, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 제1의 부렌즈, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 제2의 정렌즈, 접을 수 있는 거울, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 제2의 부렌즈, 크라운 유리로부터 만들어진 제3의 정렌즈, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진 비임분할기, 융합된 실리카 유리로부터 만들어진1/4파면, 크라운 유리로부터 만들어진 제3의 부렌즈, 비구면 축소 거울, 크라운 유리로부터 만들어진 제4의 정렌즈, 융합된 실리카로부터 만들어진 제1의 셀, 융합된 실리카로부터 만들어진 제2의 셀, 융합된 실리카로부터 만들어진 제5의 정렌즈, 크라운 유리로부터 만들어진 제6의 정렌즈를 포함하는 카타디옵트릭 광학 축소 시스템으로서, 상기 시스템으로 인입되는 방사선이 상기 제1의 정렌즈, 상기 제1의 부렌즈, 상기 제2의 정렌즈를 관통하며, 상기 접을 수 있는 거울에 의해 접혀지고, 상기 제2의 부렌즈 및 상기 제3의 정렌즈를 관통하며, 상기 비임 분할기에 의해 상기 1/4파면 및 상기 제3의 부렌즈를 통하여 반사되고, 상기 비구면 축소 거울에 의해 상기 비임 분할기, 상기 제4의 정렌즈, 상기 제1의 셀, 상기 제2의 셀, 상기 제5의 정렌즈, 및 상기 제6의 정렌즈를 통하여 다시 반사되도록 배치되어 있는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
  13. 반도체 제조에 사용될 경우 사진석판인쇄 기술에서 사용되며,
    와 같은 규정을 갖되, 상기 비구면이
    와 같은 비구면 계수를 갖는 카타다이옵트릭 광학 축소 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE36740E (en) * 1990-03-30 2000-06-20 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
US5668673A (en) * 1991-08-05 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
JP3235077B2 (ja) * 1991-09-28 2001-12-04 株式会社ニコン 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法
JP2750062B2 (ja) * 1992-12-14 1998-05-13 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
JP2698521B2 (ja) * 1992-12-14 1998-01-19 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US5537260A (en) * 1993-01-26 1996-07-16 Svg Lithography Systems, Inc. Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JP3395801B2 (ja) * 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
DE4417489A1 (de) * 1994-05-19 1995-11-23 Zeiss Carl Fa Höchstaperturiges katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Miktrolithographie
US5559629A (en) * 1994-08-19 1996-09-24 Tamarack Scientific Co., Inc. Unit magnification projection system and method
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
US5559338A (en) * 1994-10-04 1996-09-24 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet optical imaging system for microlithography and/or microfabrication
US5488229A (en) * 1994-10-04 1996-01-30 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet microlithography system
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH08203812A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
US5650877A (en) * 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
DE19616922A1 (de) * 1996-04-27 1997-10-30 Zeiss Carl Fa Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv
JPH103041A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Nikon Corp 反射屈折縮小光学系
JPH103039A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Nikon Corp 反射屈折光学系
US6157498A (en) * 1996-06-19 2000-12-05 Nikon Corporation Dual-imaging optical system
US5757493A (en) * 1996-10-16 1998-05-26 Tropel Corporation Interferometer with catadioptric imaging system having expanded range of numerical aperture
KR19990030944A (ko) * 1997-10-07 1999-05-06 정선종 리소그래피용 반사굴절 결상광학계
JP4717974B2 (ja) 1999-07-13 2011-07-06 株式会社ニコン 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US6480330B1 (en) * 2000-02-24 2002-11-12 Silicon Valley Group, Inc. Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography
US7414785B2 (en) 2000-02-24 2008-08-19 Asml Holding N.V. Ultraviolet polarization beam splitter with minimum apodization
US6486940B1 (en) 2000-07-21 2002-11-26 Svg Lithography Systems, Inc. High numerical aperture catadioptric lens
US7136220B2 (en) * 2001-08-21 2006-11-14 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
TW575904B (en) * 2001-08-21 2004-02-11 Asml Us Inc Optical projection for microlithography
AU2002350478A1 (en) * 2002-08-19 2004-03-11 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens having a polarization beamsplitter
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) * 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20160085375A (ko) 2004-05-17 2016-07-15 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US7324185B2 (en) 2005-03-04 2008-01-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8248577B2 (en) 2005-05-03 2012-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7909464B2 (en) * 2006-01-26 2011-03-22 Volk Optical Inc. Diagnostic ophthalmic lens using extra-low dispersion (ED) material
DE102006022958A1 (de) * 2006-05-11 2007-11-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
DE102007014587A1 (de) 2007-03-23 2008-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Doppelbrechende Verzögerungsplattenanordnung
CA3030720A1 (en) 2010-08-27 2012-03-01 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Microscopy imaging device with advanced imaging properties
JP5627476B2 (ja) * 2011-01-19 2014-11-19 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
IL234766A (en) * 2014-09-21 2015-09-24 Visionsense Ltd Fluorescent Imaging System
JP6493087B2 (ja) * 2015-08-24 2019-04-03 株式会社デンソー 車載カメラ装置
CA3049922A1 (en) * 2017-02-10 2018-08-16 Novadaq Technologies ULC Open-field handheld fluorescence imaging systems and methods
US11747639B2 (en) * 2019-07-22 2023-09-05 Lawrence Livermore National Security, Llc Birefringent waveplate and method for forming a waveplate having a birefringent metasurface

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2082213A5 (ko) * 1970-03-06 1971-12-10 Delmas Jean Raymond
GB1321303A (en) * 1970-03-31 1973-06-27 Pilkington Perkin Elmer Ltd Optical systems
US3753608A (en) * 1971-04-15 1973-08-21 Honeywell Inc Optical polarization spot size changing devices
US4302079A (en) * 1980-04-10 1981-11-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photolithographic projection apparatus using light in the far ultraviolet
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
JP2847883B2 (ja) * 1990-03-30 1999-01-20 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系
US5089913A (en) * 1990-07-11 1992-02-18 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens

Also Published As

Publication number Publication date
JP3589680B2 (ja) 2004-11-17
DE69306428T2 (de) 1997-04-03
KR100301149B1 (ko) 2001-10-22
US5212593A (en) 1993-05-18
JPH05281469A (ja) 1993-10-29
EP0554994B1 (en) 1996-12-11
EP0554994A1 (en) 1993-08-11
DE69306428D1 (de) 1997-01-23
CA2088902A1 (en) 1993-08-07

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