KR930014794A - 얇은 접합 형성방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 종래의 방법에서 실리사이드가 실리콘 표면에서 밑으로 형성되기 때문에 0.1㎛정도의 얇은 정션을 형성할수 없었던 문제를 해결하여 0.1㎛ 이하의 정션을 형성하기 위한 정션을 원하는 부위에 선택적으로 실리콘을 성장한뒤 그 위에 고융점 금속을 중착하고 시간과 온도를 조정하여 선택적으로 성장한 실리콘만이 고융점 금속과 반응하도록 어닐링하여 실리사이드를 형성하고 미반응 고융점 금속을 제거하는 얇은 접합 형성방법이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 얇은 접합 형성 공정단면도.
Claims (1)
- 정션을 원하는 부위에 선택적으로 실리콘을 성장한뒤 그 위에 고융점 금속을 중착하고 시간과 온도를 조절하여 선택적으로 성장한 실리콘만이 고융점 금속과 반응하도록 어닐링하여 실리사이드를 형성하고 미반응 고융점 금속을 제어하는 얇은 접합 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910023770A KR930014794A (ko) | 1991-12-21 | 1991-12-21 | 얇은 접합 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910023770A KR930014794A (ko) | 1991-12-21 | 1991-12-21 | 얇은 접합 형성방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930014794A true KR930014794A (ko) | 1993-07-23 |
Family
ID=67356852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910023770A KR930014794A (ko) | 1991-12-21 | 1991-12-21 | 얇은 접합 형성방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR930014794A (ko) |
-
1991
- 1991-12-21 KR KR1019910023770A patent/KR930014794A/ko not_active Application Discontinuation
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Legal Events
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