KR930013810A - 도포 장치(solution coating apparatus) - Google Patents

도포 장치(solution coating apparatus) Download PDF

Info

Publication number
KR930013810A
KR930013810A KR1019920024899A KR920024899A KR930013810A KR 930013810 A KR930013810 A KR 930013810A KR 1019920024899 A KR1019920024899 A KR 1019920024899A KR 920024899 A KR920024899 A KR 920024899A KR 930013810 A KR930013810 A KR 930013810A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plate
workpiece
cover
cup
peripheral edge
Prior art date
Application number
KR1019920024899A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100277516B1 (ko
Inventor
시게미 후지야마
가즈노부 야마구치
히로요시 사고오
Original Assignee
나카네 하사시
토오쿄 오오카 코오교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 나카네 하사시, 토오쿄 오오카 코오교 가부시키가이샤 filed Critical 나카네 하사시
Publication of KR930013810A publication Critical patent/KR930013810A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100277516B1 publication Critical patent/KR100277516B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/161—Gaskets; Spacers; Sealing of cells; Filling or closing of cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T279/00—Chucks or sockets
    • Y10T279/11—Vacuum

Abstract

유리 기판이 상부 개구를 갖는 회전 가능한 컵 안의 대(pedestal)위에 지지된다. 유리 기판과 모양이 실질적으로 비슷한 대는 유리 기재의 하부 표면의 외부 주변 에지와 맞물리기 위해, 그의 상부 표면의 외부 에지르 따라 연장하는 리지를 갖는다.
유리 기판 위에 도포되는 레지스트 용액이 유리 기판의 상부 표면에 적용된 후 회전 가능한 컵의 상부 개구가 차단 되고 그때 회전 가능한 컵이 회전하여, 적용된 레지스트 용액이 원심력 하에서 균일하게 퍼지게 한다.

Description

도포장치(solution coating apparatus)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 도포 장치를 포함하는 도포 라인의 평면도이고,
제2도는 커버 어셈블리가 들어올려진 도포 장치를 보여주는, 제3도의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 취해진 수직 횡단면도이며,
제3도는 제2도의 Ⅲ-Ⅲ을 따라 취해진 횡단면도이다.

Claims (21)

  1. 자체 안에서 판상(plate-like) 피처리물(workpiece)을 지지하기 위한 회전 가능한 컵으로서, 상부 개구 및 그의 바닥에 대(pedestal)를 갖고, 상기 대가 판상 피처리물과 모양이 실질적으로 비슷하며, 상기 대가 판상 피처리물의 하부 표면의 외부 주변 에지와 맞물리기 위해 그의 상부 표면의 외부 주변에지를 따라 연장하는 리지를 갖는 회전가능한 컵; 상기 회전 가능한 컵의 상기 상부 개구를 하단하기 위한 커버; 및 적하된 용액이 원심력하에서 판상 피처리물의 표면위에 균일하게 퍼지게 하기 위해, 상기 상부 개구가 상기 커버에 의해 덮혀지는 동안, 자체 안에 지지된 판상 피처리물과 함께 상기 회전 가능한 컵을 회전하기 위한 수단으로 구성되는, 용액으로 판상 피처리물을 도포하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 대가 그 안에 한정된 중앙 개구를 갖고, 추가로 진공하에서 상기 대 쪽으로 판상 피처물을 이끌기 위해서 상기 중앙 개구안에 배치된 진공 척을 포함하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 대의 상기 리지가 판상 피처리물의 하부 표면의 외부 주변 에지와 접축하도록 배열된 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 리지의 상부 표면 위에 탑재된 밀봉(seal) 부재를 추가로 포함하는 장치.
  5. 제2항에 있어서, 판상 피처리물을 수용하고 전달하기 위해서, 상기 진공 척이 그의 상부 표면이 상기 대위에 위치하는 상부 위치로 이동 가능한 장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 진공 척이 그의 상부 표면이 상기 리지와 실질적으로 같은 높이이거나 그보다 약간 낮은 하부 위치로 이동 가능한 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 컵 주위에 배치된 외부 컵을 추가로 포함하고 그들 사이에 방사적 빈틈(clearance)이 한정되어 있는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 외부 컵이 상부 개구를 갖고, 상기 외부 컵의 상기 상부 개구를 덮는 제2커버를 추가로 포함하는 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 커버가 질소 가스를 분출하기 위한 노즐을 갖는 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 커버가 세정 용액을 분출하기 위한 노즐을 갖는 장치.
  11. 제1항에 있어서, 암을 추가로 포함하고, 상기 커버가 상기 암의 말단 단부 아래에 배치되고 그에 접하여 지지되는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 커버 위에 탑재된 샤프트를 추가로 포함하는 장치.
  13. 제1항에 있어서, 상기 커버의 하부 표면에 접하여 탑재되 정류판(flow-recitifyingplate)을 추가로 포함하는 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 정류판이 판상 피처리물과 모양잉 비슷하고, 판상 피처리물 보다 약간 큰 치수를 갖는 장치.
  15. 제14항에 있어서, 자체안이 지지된 판상 피처리물을 갖는 상기 회전 가능한 컵이, 판상 피처리물 및 상기 정류 판이 서로 상대적으로 위치한 후에, 상기 정류 판과 함께 회전 가능한 장치.
  16. 자체안에 판상 피처리물을 지지하기 위한 회전 가능한 컵으로서, 상부 개구, 그의 바닥에 있는 대(pedestal)및 상기 바닥에 결합된 벽을 갖고, 상기 대가 판상 피처리물과 모양이 실질적으로 비슷하며, 상기 벽이 상기 대의 외부 주변 에지로부터 일정한 거리로 간격져 있는 회전 가능한 컵; 상기 회전 가능한 컵의 상기 상부 개구를 덮는 커버; 및 적하된 용액이 원심력하에서 판상 피처리물의 표면 위에균일하게 펴지게 하기 위해서, 상기 상부 개구가 상기 커버에 의해 덮혀지는 동안 자체 안에 지지된 판상 피처리물과 함께 상기 회전 가능한 컵을 회전시키기 위한 수단으로 구성되는, 용액으로 판상 피처리물을 도포하기 위한 장치.
  17. 제1항 내지 제16항에 있어서, 판상 피처리물이 사각형 모양인 장치.
  18. 상향하고 있는 그의 상부 표면으로 자체위에 편평한 피처리물을 지지하기 위한 대로서, 편평한 피처리물과 모양이 실질적으로 비슷하고, 편평한 피처리물의 하부 표면의 외부 주변 에지와 맞물리게 위해 그의 외부 주변 에지를 따라 연장하는 리지를 가지는 대; 자체위에 지지된 편평한 피처리물을 갖는 상기 대를 덮기 위한 커버수단; 상기 대가 상기 커버 수단에 의해 덮혀지는 동안 상기 대를 회전시키기 위한 수단; 및 상기 대위에 지지된 편평한 피처리물의 상기 상부 표면에 용액을 적응시키기 위한 상기 커버 수단에 접해있는(on)수단으로서, 이에 의해 상기 상부 표면에 적용된 용액이 상기 대가 상기 수단에 의해 회전될때 생성되는 원심력 하에서 상부 표면위에 퍼질 수 있는 수단으로 구성되는, 용액으로 편평한 피처리물을 도포하기 위한 장치.
  19. 제18항에 있어서, 편평한 피처리물의 하부 표면의 상기 외부 주변 에지에 접축하기 위한 상기 리지 위에 탑재된 밀봉 부재를 추가로 포함하는 장치.
  20. 제18항에 있어서, 상기 대 주위를 따라 연장하고, 상기 대의 상기 외부 주변 에지로부터 실질적으로 동일하게 간격진 내부 표면을 갖는 벽을 추가로 포함하는 장치.
  21. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019920024899A 1991-12-20 1992-12-21 용액 도포 장치 KR100277516B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP91-355935 1991-12-20
JP3355935A JP2591555B2 (ja) 1991-12-20 1991-12-20 塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930013810A true KR930013810A (ko) 1993-07-22
KR100277516B1 KR100277516B1 (ko) 2001-01-15

Family

ID=18446491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920024899A KR100277516B1 (ko) 1991-12-20 1992-12-21 용액 도포 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5415691A (ko)
JP (1) JP2591555B2 (ko)
KR (1) KR100277516B1 (ko)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3395264B2 (ja) * 1993-07-26 2003-04-07 東京応化工業株式会社 回転カップ式塗布装置
US5591264A (en) * 1994-03-22 1997-01-07 Sony Corporation Spin coating device
JP3388628B2 (ja) * 1994-03-24 2003-03-24 東京応化工業株式会社 回転式薬液処理装置
ITBO940231A1 (it) * 1994-05-18 1995-11-18 Scm Spa Traversa di supporto per piani a ventosa di bloccaggio di pannelli, in particolare di pannelli in legno.
US5643044A (en) * 1994-11-01 1997-07-01 Lund; Douglas E. Automatic chemical and mechanical polishing system for semiconductor wafers
JP3095202B2 (ja) * 1994-11-18 2000-10-03 東京応化工業株式会社 回転カップ式液体供給装置
TW406216B (en) * 1995-05-24 2000-09-21 Tokyo Electron Ltd Apparatus for coating resist on substrate
US6746565B1 (en) * 1995-08-17 2004-06-08 Semitool, Inc. Semiconductor processor with wafer face protection
JP3461068B2 (ja) * 1995-10-30 2003-10-27 東京応化工業株式会社 回転カップ式液体供給装置
JP3707849B2 (ja) * 1996-01-16 2005-10-19 東京応化工業株式会社 回転カップ式液体塗布装置
TW402737B (en) * 1997-05-27 2000-08-21 Tokyo Electron Ltd Cleaning/drying device and method
TW329026B (en) * 1997-07-19 1998-04-01 Nanya Technology Co Ltd The photoresist developing apparatus in IC processes
JP3291457B2 (ja) * 1997-10-13 2002-06-10 三洋電機株式会社 半導体装置の製造方法及び液晶表示装置の製造方法
TW452828B (en) * 1998-03-13 2001-09-01 Semitool Inc Micro-environment reactor for processing a microelectronic workpiece
US6217936B1 (en) 1999-02-26 2001-04-17 Advanced Micro Devices Semiconductor fabrication extended particle collection cup
TW480562B (en) * 1999-12-20 2002-03-21 Tokyo Electron Ltd Coating processing apparatus
JP3958539B2 (ja) * 2001-08-02 2007-08-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
AT500984B1 (de) * 2002-06-25 2007-05-15 Sez Ag Vorrichtung zur flüssigkeitsbehandlung von scheibenförmigen gegenständen
JP4429089B2 (ja) * 2004-06-14 2010-03-10 東京応化工業株式会社 回転塗布装置
JP2006179613A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Rigaku Corp 半導体ウエハ縦型熱処理装置用磁性流体シールユニット
US10022745B2 (en) * 2013-08-01 2018-07-17 Veeco Precision Surface Processing Llc Apparatus for dual speed spin chuck
US9892956B1 (en) * 2016-10-12 2018-02-13 Lam Research Corporation Wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3730134A (en) * 1970-12-17 1973-05-01 F Kadi Pneumatic wafer spinner and control for same
FR2277650A1 (fr) * 1974-07-12 1976-02-06 Essilor Int Machine pour l'usinage d'une lentille ophtalmique
JPS584588B2 (ja) * 1977-06-30 1983-01-27 松下電器産業株式会社 粘性剤塗布装置
US4640846A (en) * 1984-09-25 1987-02-03 Yue Kuo Semiconductor spin coating method
JPS62126829U (ko) * 1986-01-31 1987-08-12
JPH0669545B2 (ja) * 1987-11-23 1994-09-07 タツモ株式会社 塗布装置
JPH024674U (ko) * 1988-06-23 1990-01-12
JPH02219213A (ja) * 1989-02-20 1990-08-31 Fujitsu Ltd レジスト塗布装置
US5042421A (en) * 1989-07-25 1991-08-27 Manhattan R&D, Inc. Rotatable vacuum chuck with magnetic means
US5234499A (en) * 1990-06-26 1993-08-10 Dainippon Screen Mgf. Co., Ltd. Spin coating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2591555B2 (ja) 1997-03-19
JPH05169003A (ja) 1993-07-09
KR100277516B1 (ko) 2001-01-15
US5415691A (en) 1995-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930013810A (ko) 도포 장치(solution coating apparatus)
JPS6262868U (ko)
WO2002101795A3 (en) Megasonic cleaner and dryer system
JPH0735017B2 (ja) ウエハを処理するための組立体
SE9203177L (sv) Tillslutningsanordning
KR100277823B1 (ko) 도포방법
KR100257082B1 (ko) 회전컵식 액체공급장치
USD263192S (en) Support stand for dishes or the like
JPS56164549A (en) Mounting method by positioning
US4600463A (en) Treatment basin for semiconductor material
US5110098A (en) Universal platen holddown apparatus
SG83797A1 (en) Process and device for drying disk-like objects
KR100446808B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
USD342186S (en) Upper surface of a plate
KR100254291B1 (ko) 회전컵식 액체공급장치
ES476016A1 (es) Sistema de apoyo de brazos rociadores en maquinas lavadoras de vajillas.
JPH02131831A (ja) 加工物保持装置
SE8005469L (sv) Sett och anordning for sprutlackering av vid botten tillslutna behallare, speciellt dosor
JPS6475073A (en) Substrate fixing tool for coating device
USD279260S (en) Packaging cup with a pedestal base
JPS6461919A (en) Wax applicator
JPS645884Y2 (ko)
JPS622178Y2 (ko)
USD279451S (en) Packaging cup with a pedestal base
SE9603517L (sv) Påläggskiva för befintliga bord

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070920

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee