KR930007895B1 - 필름을 형성하는 성질이 개선된 윤활제 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

필름을 형성하는 성질이 개선된 윤활제 조성물
본 발명은 필름을 형성하는 성질이 개선된 퍼플루오로폴리에테르 또는 플루오로폴리에테르에 기초를 둔 윤활제 조성물에 관한 것이다.
공지된 바에 따르면, 점도가 150~2,000cSt(20℃에서)인 퍼플루오로폴리에테르는 화학적 및 열적내성, 습윤력 및 윤활력과 같은 특성이 우수하기 때문에 윤활제로서 사용된다.
이와같은 성질들로 인해서, 퍼플루오로폴리에테르는 수십 또는 수백 Å정도로 대단히 얇은 필름에 표면보호제로서 사용하기에 역시 적합하다.
특별한 용도로서, 자기 테이프 또는 자기 디스크와 같은 기록 매체용 윤활제로서, 퍼플루오로폴리에테르는 보통 1,1,2-트리클로로플루오로에탄 용액으로부터 출발하여 사용된다. 이 사용법으로는 표면 마모를 보호한 자기 표면을 얻기 위한 기본 특성인 고도의 균질성 및 연속성을 갖는 필름을 얻을 수 없기 때문에 장시간 동안 저장 용량을 불변하게 유지시키거나 리딩 헤드(reading heads)를 보호할 수도 없다. 실제로, 이 매체는 그들의 조작 시스템 때문에, 자기 표면에 헤드를 마찰함에 따라서 마모될 위험이 있다.
이 필름의 불균질성 및 불연속성은, 예컨데, 이 필름 침지 단계 동안에 사용된 용매의 신속한 증발과 같은 각종 요인들에 의해서 영향을 받는다.
퍼플루오로폴리에테르의 얇은 필름을 얻는데에 보통 사용되는 방법은, 실제로, 적절한 용매중에 용해시킨 퍼플루오로폴리에테르 용액을 보호시킬 표면상에 분무시키거나, 이 자기 매체를 이 용액중에 넣거나, 원심분리에 의해서 이 용액을 디스크상에 분산시키는 것으로 구성된다. 1,1,2-트리클로로트리플루오로에탄은 일반적으로 용매로서 사용되며, 퍼플루오로폴리에테르의 10중량% 미만의 농도의 용액으로 사용된다.
이 용액을 침지시킨 후에, 용매 증발 단계 및 표면 마찰에 의한 잔여 윤활제층의 균질화 단계를 수행할 수 있다. 더우기, 자기 테이프를 감는 동안에 가해지는 기계적응력, 또는 디스크를 조작하는 동안에 가해지는 원심력은 필름을 얇게하여 파열시킴으로써 윤활제 이동 현상을 일으키기 때문에 필름의 균질성과 연속성을 보다 더 감소시키는 경향이 있다.
전술한 결점들은, 윤활제로서 사용된 퍼플루오로폴리에테르를 특정한 보조제와 혼합시킴으로써 극복할 수 있다는 놀라운 사실을 발견하였다. 따라서, 본 발명의 모적은 (A) 점도가 150~2,000cSt(20℃에서)인 퍼플루오로폴리에테르 ; (B) 점도가 50cSt(20℃에서)이하인 퍼플루오로폴리에테르로 구성되며, 화합물(B)를 (A) 및 (B)를 합한 중량의 2~20중량%의 양으로 사용함을 특징으로 하는 윤활제 조성물을 제공하는 것이다. 이 (A) 및 (B)군의 퍼플루오로폴리에테르 또는 플루오로폴리에테르를 사용하면 상기한 범위의 점도를 제공할 수 있다.
(A)형 퍼플루오로폴리에테르는 하기 형태의 단위들로 구성된 화합물 군 중에서 선택된다 :
(A1) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨 (C3F6O) 및 (CFXO) (여기에서, X는 -F, -CF3이다) ; (A2) (C3F6O) ; (A3) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨 (C3F6O), (C2F4O) 및 (CFXO)(여기에서, X는 -F, -CF3이다) ; (A4) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨 (C2F4O) 및 (CF2O), 또는 (C2F4O).
(B)형 퍼플루오로폴리에테르는 하기 반복 단위를 함유하는 화합물 군 중에서 선택된다.
(B1) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨(C3F6O) 및 (CFXO) (여기에서, X는 -F, -CF3이다) ; (B2) (C3F6O) ; (B3) (C3F6O), 이 군은 대표적기인 -CF(CF3)-CF(CF3)-를 추가로 함유한다 ; (B4) 이 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨 (C2F4O) 및 (CF2O) ; 또는 (B5) 하기 일반식에서 선택된 옥세탄링
Figure kpo00001
여기에서, 이 링에 연결된 기들중의 최소한 한기는 에테르의 산소 원자를 함유한다 ; 또는 하기 일반식에서 선택된 옥세탄링
Figure kpo00002
여기에서, 이 링에 연결된 기는 최소한 한개의 에테르 산소 원자를 함유한다.
필름 형성 보조제로서 사용된 화합물(B)는 5~10중량%의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 (A)형 퍼플루오로폴리에테르는 하기 퍼플루오로폴리에테르 군에 속하는 것들 중에서 선택된다 :
(A1) CF3O(C3F6O)m(CFXO)n-CF2X
여기에서, X는 -F 또는 -CF3이고, m 및 n는 정수이며, 이 화합물의 점도가 일반적으로 전술한 (A)군에서 표시한 범위 이내가 되도록 선택되며, 비율 m/n은 5~40이다. 이 화합물들은 영국 특허 제 1,104,482호에서 논의한 방법에 이어서 이하(B1)군에서 논의한 중화 반응에 의하여 제조된다.
(A2) C3F7O(C3F6O)m-Rf
여기에서, Rf는 -C2F5, -C3F7, -CFHCF3이고, m는 이 화합물의 점도가 전술한 (A)군에서 표시한 범위 이내가 되도록 선택된다. 이 화합물들은 이하 (B2)군에서 상세히 설명할 미합중국 특허 제 3,242,218호에 따라서 제조된다 ; 또는 D(CF2CF2CF2O)nD1, 여기에서, D=F, OCF3, OC2F5이고, D1은 CF3, C2F5, C3F7이며, 이 화합물은 유럽 공개 특허 출원제 148,482호에 따라서 제조된다 ;
(A3) CF3O(C3F6O)m(C2F4O)n(CFXO)q-CF3,
여기에서, X는 -F, -CF3이고, m,n 및 q는 정수이며, 비율
Figure kpo00003
은 0~50이며, n/q는 0~10이고, 모든 경우에 m,n 및 q는 전술한 (A)군에 표시한 점도를 갖는 생성물을 얻도록 선택된다. 이 생성물들은 C3F6와 C2F4의 혼합물을 광 산화시킨 후에, 미합중국 특허 제3,665,041호에서 논의한 방법에 따라서 불소로 중화시킨다.
(A4) CF3O(C2F4O)p(CF2O)q-CF3,
여기에서, p 및 q는 서로 동일하거나 상이하며, 비율 p/q는 0.5~1.5이며, p 및 q의 값은 전술한 (A)군에서 상세히 논의한 점도를 제공할 수 있는 값이다. 이 퍼플루오로폴리에테르는 미합중국 특허 제 3,715,378호의 방법을 실시한 후에 특허 제 3,665,041호에 따라서 불소로 중화시킴으로써 제조된다. q가 0인 화합물은 미합중국 특허 제 4,513,039호에 따라서 제조된다.
(A5) (Ⅰ) RO-(C3F6O)m(CFXO)n-CFX-L,
또는
(Ⅱ) R"CFXO-(C3F6O)x(CFXO)y-(C2F4O)z-CFX-L,
여기에서,
R=-CF3, -C2F5, -C3F7,
X=-F, -CF3,
R"=-F, -CF3, -C2F5
m=0이 아닌 정수
n=유한 정수 또는 0이고, n이 유한 정수일 경우에, m/n은 5~20이고, R는 CF3일 경우에 바람직하고, n이 0인 경우에 R는 -C2F5또는 -C3F7일 경우에 바람직하다.
x=정수 또는 0 y,z=유한 정수이고,
Figure kpo00004
는 5~0.5이며, 단, x=0인 경우에 z/y는 1~0.5이며, X가 -F인 경우에는 R"=L인 경우가 바람직하다.
L=Y-Z기, 여기에서, Y는 -CH2O-, -CH2OCH2-, -CF2-, -CF2O-이고, Z는 불소화하지 않은, 유기 비방향족기로서, 활성 수소원자를 함유하지 않으며, 2 또는 그 이상의 서로 동일하거나 상이한 이중 전자 주개인 이종원자를 함유하며, 또는 방향족기로서 배위 결합 또는 전하이동결합을 형성함으로써 금속표면, 중합체 표면 또는 세라믹 표면 상에 각종 흡착 현상을 일으킬 수 있는 이종원자를 함유하거나 함유하지 않는 기이다. 이탈리아 공화국 특허 출원제 21480A/84호 및 21481A/84호를 참고 바람.
(A5) 군의 퍼플루오로폴리에테르는 전기한 티알리아 공화국 특허 출원제 21480A/84호 및 21481A/84호에 기재된 방법에 따라서 제조되며, 전기한 각종 인덱스는 반적으로 (A)군에서 제시한 점도를 얻도록 선택된다.
(A2)군에서 적합한 화합물들도 역시 전술한 유럽 특허 제 148,482호에 따라서 제조된(CH2CF2CF2O) 단위로 구성되어 있다. 필름 형성 보조제는 하기군에서 선택된 퍼플루오로폴리에테르가 바람직하다 ;
(B1) CF3O(C3F6O)m(CFXO)n-A,
여기에서, X는 -F, -CF3이고 ; A는 -CF3, -CF2H, -CFH-CF3일 수 있으며 ; (C3F6O) 및 (CFXO)단위 들은 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포되어 있고 ; m 및 n은 정수로서, 점도가 일반적으로 (B)군에 제시한 범위 이내로 조정되도록 선택하되 비율 m/n은 5~40이다. 이 퍼플루오로폴리에테르는, 영국 특허 제 1,104,482호의 방법에 따라서 헥사플루오로프로펜을 광 산화시킨 후에, 불소로 중화시키거나, 또는 알칼리 가수분해시키고 전구체 아실플루오로라이드로부터 출발하여, 영국 특허 제 1,226,566호에 따라서 150~200℃에서 카르복시기 이탈시킴으로써 제조된다 ;
(B2) C3F7O(C3F6O)m-Rf,
여기에서, Rf는 -C2F5, -C3F7, -CFHCF3이고, m은 양의 정수로서, 이 생성물의 점도가 (B)군에 제시한 범위 이내로 조정할 수 있는 양의 정수이다.
이 화합물은 헥사플루오로프로펜에폭시드를 음이온성 텔로머화시킨 후에 불소로 산플루오라이드를 중화시키거나, 또는 미합중국 특허 제 3,242,218호에 따라서 알칼리 가수분해하여 말단기 아실플루오라이드를 갖는 텔로머를 150~200℃에서 카르복시기 이탈시킴으로써 제조된다 ;
(B3) [C3F7O(C3F6O)m-CF(CF3)-]2,
여기에서, m은 생성물의 점도를 (B)군에 제시한 범위 이내로 조정할 수 있는 정수이다.
이 생성물은, 미합중국 특허 제 3,214,478호에 따라서 헥사플루오르프로펜에폭시드를 음이온성 텔로머화 시킨 후에, 산플루오라이드를 광화학적 이합체화시킴으로써 제조된다.
(B4) CF3O(C2F4O)p(CF2O)q-CF3,
여기에서, p 및 q는 서로 동일하거나 상이하며, 점도를 (B)군에 제시한 범위 이내로 조정할 수 있는 정수로서 비율 p/q는 0.5~1.5이다. 이 생성물은 미합중국 특허 제 3,715,378호에 따라서 테트라플루오로에틸렌을 광 산화시킨 후에, 미합중국 특허 제 3,655,041호에 따라서 불소로 중화시킨다 ; 또는 (B5)하기 일반식의 옥세탄링 :
Figure kpo00005
여기에서, A1=F 또는 탄소원자 1~8개를 갖는 퍼플루오로알킬기 Rf1, -ORf1기,
Figure kpo00006
(여기에서, m은 0~5의 정수(양단포함),
Figure kpo00007
(여기에서, P는 탄소원자 1~8개를 갖는 퍼플루오로알킬기이고, m은 앞서 정의한 바와 동일하며, B 및 T는 서로 동일하거나 상이하며 F 또는 탄소원자 7개를 갖는 퍼플루오로알킬기 Rf1임), 또는
Figure kpo00008
{여기에서, m 및 P는 앞서 정의한 바와 동일하며, X1은 -CF2O-(CF2O)p-(C2F4O)q-CF2-기 (여기에서, p 및 q는 서로 동일하거나 상이하며, 0~5의 정수(양단 포함)이고, 이때 p+q는 최소한 1임) 또는 -(CF2)r-기(여기에서, r는 1~8의 정수임)} ; 그리고 (1)군에서, A1, B 및 T 또는 (2)군에서 B,T 및 X1의 기들중의 최소한 한 기는 1개 또는 그 이상의 에테르 산소원자를 함유하며, (3) 군 및 (4)군에서, X1및 A1기들은 에테르 산소원자를 함유하는 상기한 기들 중에서 선택됨을 특징으로 하며 ; B 또는 T기 중의 한 기가
Figure kpo00009
인 경우에, 다른 한기는 F이다.
상기 퍼플루오로에테르는 이탈리아공화국 특허 출원 제19496A/84호에 따라서 퍼플루오르화된 산의 플루오라이드와 퍼플루오로올레핀(이 화합물들 중의 최소한 한 화합물은 에테르 산소원자를 함유함)사이의 시클로 첨가에 기초를 둔 반응에 의해서 제조된다.
본 발명에 따르면, 250~1,500cSt(20℃에서) 범위의 점도를 갖는 (A)형 퍼플루오로폴리에테르 및 7~40cSt(20℃에서)범위의 점도를 갖는 (B)형 퍼플루오로폴리에테르를 사용할 경우에 최상의 결과를 얻는다. 본 발명에 따라서, (B)형 보조제는 일반적으로 충분한 윤활제 특성을 함유하고 있지 않으며, 이 화합물의 점도는 출발 윤활제 중의 하나인 (A)보다 낮지만, (A)형 퍼플루오로폴리에테르의 점도 범위 이내에 항상 있기 때문에, 이 보조제 없이 사용하면 전술한 바와같은 균질성과 연속성이 없는 필름을 얻게 된다는 놀라운 결과를 얻었다.
본 발명의 조성물은 수명이 매우 긴-본 발명에 따라서 사용한다는 조건 하에서-(때로는 약 10년에 달함) 필름을 제공한다.
본 발명의 조성물은 전술한 바에 따라 사용함으로써 자기 매체상에 필름을 생성한다. 바람직한 방법은, 상기 조성물 1~5중량%, 특히 1~2중량%로 1,1,2-트리클로로트리플루오로에탄 중의 용액을 제조하는 것으로 구성된다. 필름은, 도포할 표면에 이 용액을 분무하거나, 도포할 표면을 이 용액에 담그고, 20~30℃의 온도에서 용매를 증발시킴으로써 도포한다. 다음에, 이 표면을, 폴리에스테르 또는 셀루로오즈 섬유의 가제 또는 이와같은 섬유로 도포한 롤을 갖는 롤러로 임의로 문지르거나 광을 낸다.
생성된 필름은 하기 측정치를 측정함으로써 특정지워진다 :
-수평면 상에서 윤활제 드롭이 확산하는(수평확산)속도, 또는 수직면 상에서 윤활제 필름이 이동하는(수직확산) 속도측정,
-확산면적 : 수평확산 속도 측정치로부터, 윤활제와 기질의 경계까지의 확산 면적을 계산
-침전된 윤활제 필름 두께 및 동일하게 시험한 두께와의 표준 편차 측정치와의 동일성
이들의 측정방법은 실시예 1 및 2에 각각 제시한다. 본 발명의 필름 형성 보조제를 테이프 및 디스크와 같은 자기 매체용 윤활제 조성물에 사용하면, 얇고 균질한 필름을 얻을 수 있다.
연속적 표면 상에 얻을 수 있는 필름의 두께는 20~1,000Å, 특히 50~500Å을 나타낸다.
본 발명의 조성물은 전자 접촉기의 자기 핵을 함침시킬 경우에도 역시 사용될 수 있다.
이와 같은 경우에, 이 윤활제는 금속전기자 및 접촉자의 진동을 감소 또는 얼마간 제동시키거나, 리이드팩 중에 수분을 침투시킴으로써 충돌을 제한 또는 감소시키기 위한 리이드 팩용 함침제로 사용된다.
이 용도를 위해서 실시예 3에서 습윤 면적 및 흡착된 윤활제의 중량을 측정하였다. 본 발명의 조성물은 다공성 금속 부시의 함침에도 사용된다. 이 경우에는, 하중시에 오일의 자발적 순환을 증대시키기 위해서 윤활유의 특성인 우수한 습윤성과 아울러 진공 하에서 빠른 함침성을 얻을 필요가 있다.
이 경우의 함침인자 및 부시의 수명을 실시예 4에서 측정하였다. 하기 실시예로 본 발명을 설명하되 어떠한 경우에도 본 발명을 제한하지는 않는다.
[실시예 1]
(A)군의 화합물 90중량% 및 (B)군의 화합물 10중량%로 구성된 혼합물을 제조하였다. 이와같이 제조한 혼합물의 수평 확산을 측정함으로써 필름 형성 보조제(B)의 퍼플루오로에테르 윤활제(A)군의 확산 속도에 대한 효과를 측정하였다. 측정방법은 하기와 같다 : 상기 혼합물 2~5㎕를 얇은 금속 코발트판상에 적하시키고, 금속판 인쇄 기술에 따라서 겹쳐 발랐다.
40분 동안 방치한 후에, 계량 망선이 설치된 저확대 광학 현미경을 통해서 적하시킨 윤활제의 직경이 증대된 것을 관측하였다.
얻은 값을 표 1에 기록하였다.
[비교실시예 1]
(A)군 중에서 몇가지 윤활제에 대해서 실시예 1과 동일한 확산 측정법을 실시하였다.
표 1에 기록한 얻어진 데이타에 따르면, 보조제부재하에서 실시한 시험과 비교해볼때, 보조제 존재하에서 실시한 시험에서의 확산 직경 및 확산 면적은 증대되었으며, 이 사실로 부터, 필름 형성보조제를 첨가하면, 윤활제의 습윤성이 개선되며, 기질에서 확산 속도가 증가한다.
[표 1]
Figure kpo00010
[실시예 2]
실시예1과 동일한 중량비의 (A)군의 화합물과 (B)군의 화합물의 혼합물을 제조하였다.
보조제(B)의 퍼플루오로에테르윤활제(A)의 필름의 두께균질성에 대한 효과를, 윤활제(A) 및 보조제(B)(1,1,2-트리클로로트리플루오로에탄 용매로 지칭함)의 혼합물 1중량%의 용매 중에 담금으로써 Co-Ni 자기 층을 갖는 금속 디스크 상에 형성된 윤활제 필름의 두께를 측정함으로써 측정하였다.
디스크를 이용액에 담근 다음, 0.5㎝/초의 속도로 꺼내서 먼지 없는 후드 하에 1시간 방치한 후에, 적외선 스펙트럼을 이용하여 이 디스크의 방사방향 6방향 상에서 동일하게 선택한 점 60개소에서 반사시키는 푸우리에(Fourier)변환으로 필름의 두께를 측정하였다. 이와 같이 측정한 두께를 기초로 표준 편차를 계산하여 그 결과를 표 2에 기록하였다.
[비교실시예 2]
(A)군의 윤활제에 대해서 동일한 두께 측정방법을 실시하여, 그 결과를 표 2에 기록하였다.
얻어진 결과는, 보조제를 사용한 혼합물로 구성된 윤활제와 비교해 볼 때 차이점을 나타내었다. 보조제를 사용하지 않고 실시한 두께 측정의 경우에 표준 편차가 높다는 사실은, 보조제를 첨가하면 자기 매체의 금속 기질에 보다 우수하고, 보다 균질한 필름을 분포시킬 수 있다는 사실을 나타낸다.
[표 2]
Figure kpo00011
[실시예 3]
두께 0.3㎜의 리이드 50개로 구성된 크기 110×160㎜의 전자 접촉기의 리이드 팩을 조심스럽게 세척하여, 시험 전에 적절한 용매로 탈지시키고, 실시예 1에 따라서 제조한 퍼플루오로 에테르 윤활제 중에 담금으로써 함침시킨다.
이 리이드 팩을 40℃에서 10분 동안 윤활제와 보조제의 혼합물중에 담근 후에 꺼내서 표면을 건조시켰다.
이 리이드 팩을 열고, 이 리이드 팩에 남아 있는 오일의 총량을 측정함과 아울러 건조한 상태로 남아 있는 면적에 대해서 각각의 리이드 사이에 실제로 젖어 있는 면적을 측정함으로써 오일이 간극 중에 투과한 효과를 검사하였다.
[비교실시예 3]
윤활제(A)군에 대한 습윤 면적 및 흡착된 윤활제 중량을 동일한 방법으로 측정하여 표 3에 기록하였다.
이 데이타는 보조제를 함유하는 혼합 윤활제와 차이가 있었다.
보조제존재하에서, 습윤 면적의 백분율 증가 및 흡착된 윤활제의 중량증가는 이 보조제를 함유한 윤활제의 리이드 간극에 대한 침투성이 개선되는 양성 효과를 나타내는 것이다.
[표 3]
Figure kpo00012
[실시예 4]
외직경 17㎜, 내직경 10㎜이고, 길이 17㎜인 신터드(sintered)철의 다공성 부시를, 실시예 1에 따라서 제조한 윤활유의 60℃로 조절한 용기중에 담금으로써 진공하에서 함침시켰다.
다음에, 이 부시의 표면을 건조시키고, 함침 인자와 아울러 흡착된 오일 중량을 측정하였으며, 함침 인자는 실제로 흡착된 유체(부피로 측정하였음)와 부시의 미소공들의 부피의 총합 사이의 비율로서 계산하였다. 표 4에 기록한 데이타는 부시 견본 10개의 평균 값이다.
스티일 샤프트(steel shaft)를 150℃에서 레이디알 하중 280N으로, 1,500rpm에서 부시중에서 회전시킴으로써 이 부시들의 마모시험을 실시하였다. 가시 마모(음향 방출, 진동, 콜리어런스와 같은)를 일으킨 회전수를 기초로 계산된 수명을 평균 합침성으로 취하였다.
이 결과를 표 4에 기록하였다.
[비교실시예 4]
윤활제(A)군에 대한 함침 인자 및 부시 수명을 실시예 4와 동일한 방법으로 측정하여 표4에 기록하였다.
얻어진 데이타는 보조제를 혼합한 윤활제와 비교해 볼 때에 차이가 있었다. 이 보조제 존재하에서 함침인자의 증가 및 부시 수명 증가 사실은 이 보조제가 신터드 철재로 된 부시 간극 중에 윤활제가 침투하는 것을 증대시키는 양성 효과를 나타내는 것이다.
[표 4]
Figure kpo00013

Claims (7)

  1. 점도 150~2,000cSt(20℃에서)의 퍼플루오로 폴리에테르(A) ; 및 점도 50cSt이하(20℃에서)의 퍼플루오로폴리에테르(B)로 구성되며, 화합물(B)를 화합물(A) 및 (B)의 중량의 총합의 2~20중량 5로 사용함을 특징으로 하는 필름을 형성하는 성질이 개선된 윤활제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, (A)형 퍼플루오로폴리에테르를 하기 반복 단위들로 구성된 퍼플루오로폴리에테르군, (A1)퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포된 (C3F6O) 및 (CFXO) (여기에서, X는 -F, -CF3임) ; (A2) (C3F6O) ; (A3) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포된 (C3F6O), (C2F4O) 및 (CFXO)(여기에서, X는 -F, -CF3임) ; (A4) 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포시킨 (C2F4O) 및 (CF2O), 또는 (C2F4O)중에서 선택하며,
    (B)형 퍼플루오로폴리에테르를 하기 반복 단위들로 구성된 퍼플루오로폴리에테르 군,
    (B1) 퍼플루오로폴리에테르를 따라서 통계적으로 분포된 (C3F6O) 및 (CFXO) (여기에서, X는 -F, -CF3임) ; (B2) (C3F6O) ; (B3) (C3F6O), 이 군은 추가로 대표적 기인 -CF(CF3)-CF(CF3)-로 구성됨 ; (B4) 이 쇄를 따라서 통계적으로 분포된 (C2F4O) 및 (CF2O) ; 또는 (B5) 하기 일반식 중에서 선택된 옥세탄링
    Figure kpo00014
    (상기 일반식에서, 링에 연결된 기들 중의 최소한 한기는 에테르 산소원자를 함유함),
    또는 하기 일반식 중에서 선택된 옥세탄링,
    Figure kpo00015
    Figure kpo00016
    (상기 일반식에서, 링에 연결된 기는 최소한 한개의 에테르 산소를 함유함)중에서 선택하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 성분(B)를 5~10중량%로 사용하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 화합물(A)의 점도가 250~1,500cSt(20℃에서)인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 화합물(B)의 점도가 7~40cSt(20℃에서)인 조성물.
  6. 제2항에 있어서, 화합물(A)를 하기 퍼플루오로폴리에테르 군, (A1) CF3O(C3F6O)m(CFXO)n-CF2X (여기에서, X는 -F 또는 -CF3이고, m 및 n는 정수이며, m/n은 5~40이고, (C3F6O) 및 (CFXO)단위들은 퍼플루오로에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포되었음) ; (A2) C3F7O(C3F6O)m-Rf(여기에서, Rf는 -C2F5, -C3F7, -CFHCF이고, m은 정수임) 또는 D(CF2CF2CF2O)nD1(여기에서, D=F, OCF3, OC2F5이며, D1= CF3, C2F5, 또는 C3F7임) ; (A3) CF3O(C3F6O)m(C2F4O)n(CFXO)q-CF3(여기에서, X는 -F, -CF3이고, m,n 및 q는 정수이며,
    Figure kpo00017
    은 0~50이며, n/q는 0~10이며, (C3F6O), (C2F4O) 및 (CFXO)단위들은 퍼플루오로에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포되었음) ; (A4) CF3O(C2F4O)p(CF2O)q-CF3(여기에서, p 및 q는 서로 동일하거나 상이한 정수이며, p/q는 0.5~1.5이고 , (C2F4O) 및 (CF2O) 단위들은 퍼플루오로에테르 쇄를 따라서 통계적으로 분포되었음) ; (A5) (Ⅰ) RO-(C3F6O)m(CFXO)n-CFX-L 또는 (Ⅱ) R"CFXO-(C3F6O)x(CFXO)y-(C2F4O)z-CFX-L, {여기에서, R=-CF3, -C2F5, -C3F7, X=-F, -CF3, R"=-F, -CF3, -C2F5,m=0이 아닌 정수 n=유한 정수 또는 0이고, n이 유한할 경우에, m/n은 5}0이고, R는-CF3가 바람직하고, n이 0인 경우에 R는 -C2F5또는 -C3F7이 바람직하며, x=유한정수 또는 -이고, y,z=유한 정수이며,
    Figure kpo00018
    는 5~0.5이되, 단, x=0인 경우에 z/y는 1~0.5이며, X가 -F이고, R"=L인 바람직하며, L=Y-Z기 (여기에서, Y=-CH2O, -CH2OCH2-, -CF2-, -CF2O-이고, Z=불소화하지 않은 유기 비방향족기로서, 활성 수소 원자를 함유하지 않으며, 2 또는 그 이상의 서로 동일하거나 상이한 이중 전자 주게인 이종원자를 함유하거나, 또는 방향족기로서 배위 결합 또는 전하 이동 결합을 형성함으로써 금속 표면, 중합 체표면 또는 세라믹 표면상에 각종 흡착 현상을 일으킬 수 있는 이종 원자를 함유하거나 함유하지 않는 기임] 중에서 선택하는 조성물.
  7. 제2항에 있어서, 화합물(B)가 하기 퍼플루오로폴레에테르 군, (B1) CF3-O(DC3F6O)m(CFXO)n-A (여기에서, X는 -F, -CF3이고 , A는 -CF3, -CF2H, -CFH-CF3이며, (C3F6O) 및 (CFXO)단위들은 퍼플루오로폴리에테르 쇄를 따라서 분포되었으며, m 및 n은 정수이며, m/n은 5~40임) (B2) C3F7O(C3F6O)m-Rf(여기에서, Rf는 -C2F5, -C3F7, -CFHCF3이고 m은 정수임) ; (B3) [C3F7O(C3F6O)m-CF(CF3)]2(여기에서, m은 정수임) ; (B4)CF3O(C2F4O)p(CF2O)q-CF3(여기에서 p 및 q는 서로 동일하거나 상이한 정수이며, p/q는 0.5~1.5임) ; 또는 (B5) 하기 일반식의 옥세탄링
    Figure kpo00019
    Figure kpo00020
    [상기 일반식에서, A1=F, 탄소원자 1~8개의 퍼플루오로알킬기 Rf1, -OFf1, CF3O
    Figure kpo00021
    기 [여기에서, m은 0~5의 정수(양단포함)임], 또는 PO
    Figure kpo00022
    기(여기에서, P는 탄소원자 1~8개를 갖는 퍼플루오로알킬기이고, m은 앞서 정의한 바와 동일함) ; B 및 T는 서로 동일하거나 상이하며, F, 탄소원자 1~7개의 퍼플루오로알킬기 PO
    Figure kpo00023
    기(여기에서, m 및 p는 앞서 정의한 바와 동일함)이고, X1은 -CF2O-(CF2O)p-(C2F4O)q~CF2-기 [여기에서, p 및 q는 서로 동일하거나 상이한 0~5의 정수(양단 포함)이며, 이때 p+q는 최소한 1임] 또는 -(CF2)r-(여기에서, r는 1~8의 정수임)이며, (1)군에서, A1, B, T 또는 (2)군에서 B, T, X1중의 최소한 기 에테르 산소원자를 함유하며, (3) 군 및 (4)군에서, X1및 A1기들은 에테르 산소원자를 함유 더우기 B 또는 T기중의 한 기가 PO
    Figure kpo00024
    기인 경우에, 다른 한기는 F임]중에서 선택하는 조성물.
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