JP2002293787A - ホスファゼン化合物 - Google Patents
ホスファゼン化合物Info
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- JP2002293787A JP2002293787A JP2001056112A JP2001056112A JP2002293787A JP 2002293787 A JP2002293787 A JP 2002293787A JP 2001056112 A JP2001056112 A JP 2001056112A JP 2001056112 A JP2001056112 A JP 2001056112A JP 2002293787 A JP2002293787 A JP 2002293787A
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- disk
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好なＣＳＳ耐久性を有するハードディ
スク用潤滑剤に使用される化合物を提供する。 【解決手段】 −ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、か
ら選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダ
ムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有す
る、下記の式（１）で表されるホスファゼン化合物。Ａ
−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣ
Ｆ２ＣＨ２ＯＨ (１)［式中、Ａは下記式（ａ）で表
される基である。ここで、Ｒは、水素原子、Ｃ１ 〜４の
アルキル、Ｃ１〜４のアルコキシ、Ｃ１〜４のハロアル
キル、アリール、置換アリール、アリールオキシ、置換
アリールオキシであり、ｐおよびｑは１〜３０の実数で
ある。］ 【化１】
スク用潤滑剤に使用される化合物を提供する。 【解決手段】 −ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、か
ら選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダ
ムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有す
る、下記の式（１）で表されるホスファゼン化合物。Ａ
−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣ
Ｆ２ＣＨ２ＯＨ (１)［式中、Ａは下記式（ａ）で表
される基である。ここで、Ｒは、水素原子、Ｃ１ 〜４の
アルキル、Ｃ１〜４のアルコキシ、Ｃ１〜４のハロアル
キル、アリール、置換アリール、アリールオキシ、置換
アリールオキシであり、ｐおよびｑは１〜３０の実数で
ある。］ 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規ホスファゼン
化合物に関する。さらに詳しくは、本発明は、例えば大
容量記録媒体であるハードディスク、或いは８ミリビデ
オテープレコーダー用、デジタルビデオカセット用に使
用されるメタル蒸着テープなどの記録媒体用の潤滑剤に
使用される化合物に関する。
化合物に関する。さらに詳しくは、本発明は、例えば大
容量記録媒体であるハードディスク、或いは８ミリビデ
オテープレコーダー用、デジタルビデオカセット用に使
用されるメタル蒸着テープなどの記録媒体用の潤滑剤に
使用される化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】インターネット、イントラネット、ロー
カルエリアネットワーク等が普及し、ネットワークにア
クセスするだけで簡単に情報が取り出せるようになって
きた。このようなマルチメディア時代を支えているもの
の一つに外部記憶装置がある。既存の大容量外部記憶装
置としては、強度の高い円形基板（ハードディスク）上
に記録媒体層を設け、このハードディスクを高速回転さ
せて記録・再生用素子（ヘッド）が作動する方式、いわ
ゆるＣＳＳ方式のものが一般的であり、ハードディスク
としては、固定式磁気ディスク、光ディスク、光磁気デ
ィスク等がある。これらの中で最も普及しているものが
固定式磁気ディスクを用いた装置である。
カルエリアネットワーク等が普及し、ネットワークにア
クセスするだけで簡単に情報が取り出せるようになって
きた。このようなマルチメディア時代を支えているもの
の一つに外部記憶装置がある。既存の大容量外部記憶装
置としては、強度の高い円形基板（ハードディスク）上
に記録媒体層を設け、このハードディスクを高速回転さ
せて記録・再生用素子（ヘッド）が作動する方式、いわ
ゆるＣＳＳ方式のものが一般的であり、ハードディスク
としては、固定式磁気ディスク、光ディスク、光磁気デ
ィスク等がある。これらの中で最も普及しているものが
固定式磁気ディスクを用いた装置である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これら外部記憶装置の
サイズを変えずに大容量化を行うには、例えば記録媒体
層の面記録密度を増加する必要がある。このためには、
ビットサイズを小さくし、ヘッドをできる限り記録媒体
に近づけることが必要である。ヘッドとディスクとの間
隔を小さくするためには、ディスク表面の凹凸を小さく
せねばならず、例えば間隔を１００ｎｍ以下にするには
凹凸を１０ｎｍ以下にせねばならない。そして、ディス
ク表面の平滑性を上げると、一方で、ヘッドがディスク
面に吸着し易くなる。また、高速応答性を得るために
は、ビット転送速度ひいてはディスクの回転速度を上げ
る必要がある。例えば、３.５インチハードディスクの
最高回転数は５４００〜７２００ｒｐｍが必要で、ディ
スク周辺部のヘッド通過速度は１２５ｋｍ／ｈｒに達し
ている。しかし、上記の様な変更は、何れもディスクと
ヘッドの接触確率と摩耗等を大幅に増加させ、信頼性を
低下させることになる。
サイズを変えずに大容量化を行うには、例えば記録媒体
層の面記録密度を増加する必要がある。このためには、
ビットサイズを小さくし、ヘッドをできる限り記録媒体
に近づけることが必要である。ヘッドとディスクとの間
隔を小さくするためには、ディスク表面の凹凸を小さく
せねばならず、例えば間隔を１００ｎｍ以下にするには
凹凸を１０ｎｍ以下にせねばならない。そして、ディス
ク表面の平滑性を上げると、一方で、ヘッドがディスク
面に吸着し易くなる。また、高速応答性を得るために
は、ビット転送速度ひいてはディスクの回転速度を上げ
る必要がある。例えば、３.５インチハードディスクの
最高回転数は５４００〜７２００ｒｐｍが必要で、ディ
スク周辺部のヘッド通過速度は１２５ｋｍ／ｈｒに達し
ている。しかし、上記の様な変更は、何れもディスクと
ヘッドの接触確率と摩耗等を大幅に増加させ、信頼性を
低下させることになる。
【０００４】これらに対処し、ディスク表面とヘッドを
保護するには、ディスク保護膜表面への潤滑剤の塗布量
を多くする方法が一番簡便である。しかしながら、潤滑
剤の塗布量を多くすると潤滑膜の摺動抵抗が大きくなる
のみならず、潤滑剤の吸着作用を増大し、スピンドルモ
ーターの停止・焼損を引き起こす。摺動抵抗を低減する
ため、低粘度の潤滑剤を使用すると、ディスクの高速回
転時に潤滑剤が保護膜上から移動・消失し、ディスクと
ヘッドの接触、破損を引き起こす。
保護するには、ディスク保護膜表面への潤滑剤の塗布量
を多くする方法が一番簡便である。しかしながら、潤滑
剤の塗布量を多くすると潤滑膜の摺動抵抗が大きくなる
のみならず、潤滑剤の吸着作用を増大し、スピンドルモ
ーターの停止・焼損を引き起こす。摺動抵抗を低減する
ため、低粘度の潤滑剤を使用すると、ディスクの高速回
転時に潤滑剤が保護膜上から移動・消失し、ディスクと
ヘッドの接触、破損を引き起こす。
【０００５】潤滑剤はごく簡単には、ハードディスク上
に設けられている保護膜上に分子の厚みの均一な潤滑剤
の膜を作って、ハードディスク回転時及び装置の起動・
停止時に生じる摩擦及び摩耗を低減させている。ディス
クとヘッドを保護するためには、摺動抵抗が小さく、保
護膜との結合力が大きく、低摩擦係数で、化学的安定
性、熱安定性、耐食性が大きく、−１０℃以下での低温
潤滑能力を有し、低蒸気圧で超薄膜化が可能な潤滑剤が
必要である。ハードディスク用潤滑剤には、ＣＳＳ耐久
性５万回以上で、摩擦係数の変化がないことである。即
ち、ＣＳＳ繰り返しテストにおいて、少なくとも５万回
まで、ヘッドの焼付きやディスクに傷等の異常がないこ
とが要求されている。
に設けられている保護膜上に分子の厚みの均一な潤滑剤
の膜を作って、ハードディスク回転時及び装置の起動・
停止時に生じる摩擦及び摩耗を低減させている。ディス
クとヘッドを保護するためには、摺動抵抗が小さく、保
護膜との結合力が大きく、低摩擦係数で、化学的安定
性、熱安定性、耐食性が大きく、−１０℃以下での低温
潤滑能力を有し、低蒸気圧で超薄膜化が可能な潤滑剤が
必要である。ハードディスク用潤滑剤には、ＣＳＳ耐久
性５万回以上で、摩擦係数の変化がないことである。即
ち、ＣＳＳ繰り返しテストにおいて、少なくとも５万回
まで、ヘッドの焼付きやディスクに傷等の異常がないこ
とが要求されている。
【０００６】現行ハードディスクの表面保護には、化学
的安定性、強度、超薄膜化、平滑性等の観点から、ダイ
ヤモンド状炭素（ＤＬＣ、Diamond Like Carbon）保護
膜が用いられている。当該保護膜はその構造からも明ら
かな如く、大部分が炭素であることから、化学的結合性
が小さく、付着力はわずかに混在する水素並びに窒素原
子との水素結合やファンデルワールス力等の相互作用に
因る他はない。
的安定性、強度、超薄膜化、平滑性等の観点から、ダイ
ヤモンド状炭素（ＤＬＣ、Diamond Like Carbon）保護
膜が用いられている。当該保護膜はその構造からも明ら
かな如く、大部分が炭素であることから、化学的結合性
が小さく、付着力はわずかに混在する水素並びに窒素原
子との水素結合やファンデルワールス力等の相互作用に
因る他はない。
【０００７】そこで潤滑剤としては、パーフルオロアル
キルポリエーテルオリゴマー（以下「ＰＦＰＥ」と略
す）が一般的である（月刊トライボロジ、Ｎｏ.９９，
１１月号、３７〜３８頁、１９９５）。ＰＦＰＥはフル
オロカーボンに由来する低表面エネルギー、化学的不活
性、低蒸気圧、熱安定性を備えているが、低表面エネル
ギー故に保護膜表面との結合力が弱く、ディスク回転の
遠心力で潤滑剤が保護膜上から移動・消失してしまう欠
点がある。これを抑えるため、第二成分の添加剤を使用
しているが（ＵＳＰ４８７１６２５）、ＰＦＰＥのフル
オロカーボンに由来する低相溶性のため、相分離を引き
起こし、十分な効果が得られていないのが現状である。
そこで、ＰＦＰＥに結合性を付与するため、ＰＦＰＥ主
鎖の端部又は中央部に水酸基、アシルアミド基等の官能
基を導入したもの（アウシモント社、ＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ誘導体）もあるが、これら活性水素を有する官能基は
ヘッドとの摩擦で化学的安定性を低下させる恐れがあ
る。
キルポリエーテルオリゴマー（以下「ＰＦＰＥ」と略
す）が一般的である（月刊トライボロジ、Ｎｏ.９９，
１１月号、３７〜３８頁、１９９５）。ＰＦＰＥはフル
オロカーボンに由来する低表面エネルギー、化学的不活
性、低蒸気圧、熱安定性を備えているが、低表面エネル
ギー故に保護膜表面との結合力が弱く、ディスク回転の
遠心力で潤滑剤が保護膜上から移動・消失してしまう欠
点がある。これを抑えるため、第二成分の添加剤を使用
しているが（ＵＳＰ４８７１６２５）、ＰＦＰＥのフル
オロカーボンに由来する低相溶性のため、相分離を引き
起こし、十分な効果が得られていないのが現状である。
そこで、ＰＦＰＥに結合性を付与するため、ＰＦＰＥ主
鎖の端部又は中央部に水酸基、アシルアミド基等の官能
基を導入したもの（アウシモント社、ＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ誘導体）もあるが、これら活性水素を有する官能基は
ヘッドとの摩擦で化学的安定性を低下させる恐れがあ
る。
【０００８】また、磁気記録媒体用処理剤として、パー
フルオロアルコキシホスファゼン化合物が開示されてい
るが（特開昭６３−１０３４２８号公報）、これらの化
合物をハードディスク用潤滑剤として使用した場合、十
分なＣＳＳ耐久性が得られず、新たな潤滑剤が望まれて
いる。
フルオロアルコキシホスファゼン化合物が開示されてい
るが（特開昭６３−１０３４２８号公報）、これらの化
合物をハードディスク用潤滑剤として使用した場合、十
分なＣＳＳ耐久性が得られず、新たな潤滑剤が望まれて
いる。
【０００９】本発明の課題は例えば良好なＣＳＳ耐久性
を有するハードディスク用潤滑剤に使用される化合物を
提供することにある。
を有するハードディスク用潤滑剤に使用される化合物を
提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は−ＣＦ２Ｏ−、
−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、から選ばれたパーフルオロオキシ
アルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さ
らに官能末端基Ａを有する、下記の式（１）で表される
ホスファゼン化合物に係る。 Ａ−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ( １) ［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここ
で、Ｒは、水素原子、Ｃ１ 〜４のアルキル、Ｃ１〜４の
アルコキシ、Ｃ１〜４のハロアルキル、アリール、置換
アリール、アリールオキシ、置換アリールオキシであ
り、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］
−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、から選ばれたパーフルオロオキシ
アルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さ
らに官能末端基Ａを有する、下記の式（１）で表される
ホスファゼン化合物に係る。 Ａ−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ( １) ［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここ
で、Ｒは、水素原子、Ｃ１ 〜４のアルキル、Ｃ１〜４の
アルコキシ、Ｃ１〜４のハロアルキル、アリール、置換
アリール、アリールオキシ、置換アリールオキシであ
り、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］
【００１１】
【化２】
【００１２】
【発明の実施の形態】ここで、Ｃ１〜４のアルキルとし
ては例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル等を例
示できる。Ｃ１〜４のアルコキシとしては例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を例示でき
る。Ｃ１〜４のハロアルキルとしては例えば、フルオロ
メチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、フルオロ
エチル、トリフルオロエチル、ブロモエチル、ヨードプ
ロピル、フルオロブチル、クロロブチル、ブロモブチル
等を例示できる。アリールとしては例えば、フェニル、
ナフチル等を例示できる。アリールオキシとしては例え
ばフェノキシ、ナフトキシ等を例示できる。置換アリー
ル及び置換アリールオキシの置換基としては例えば上記
Ｃ１〜４のアルキル、Ｃ１〜４のアルコキシ、Ｃ１〜４
のハロアルキル等を例示できる。
ては例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル等を例
示できる。Ｃ１〜４のアルコキシとしては例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を例示でき
る。Ｃ１〜４のハロアルキルとしては例えば、フルオロ
メチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、フルオロ
エチル、トリフルオロエチル、ブロモエチル、ヨードプ
ロピル、フルオロブチル、クロロブチル、ブロモブチル
等を例示できる。アリールとしては例えば、フェニル、
ナフチル等を例示できる。アリールオキシとしては例え
ばフェノキシ、ナフトキシ等を例示できる。置換アリー
ル及び置換アリールオキシの置換基としては例えば上記
Ｃ１〜４のアルキル、Ｃ１〜４のアルコキシ、Ｃ１〜４
のハロアルキル等を例示できる。
【００１３】本発明において、上記式（１）のホスファ
ゼン化合物は、文献未記載の新規化合物であり、例え
ば、ホスホニトリルハライドのオリゴマーとフェノール
類およびＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸基を導入したアル
コールより製造される物質である。ここで、ホスホニト
リルハライドのオリゴマーとしては、例えばホスホニト
リルクロリドの環状トリマー、ホスホニトリルクロリド
の環状テトラマーやこれらの混合物を例示できる。ま
た、フェノール類としては、フェノール、メタ−トリフ
ルオロメチルフェノール等のハロアルコキシフェノー
ル、メタ−メトキシフェノール等のアルコキシフェノー
ル等が例示できる。また、ＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸
基を導入したアルコールとしては、下記式（ｂ）の平均
分子量が、４００から６０００のパーフルオロアルキル
ポリエーテルオリゴマー（アウシモント社 Ｚ誘導体）
を例示できる。 ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ (ｂ) [ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０]
ゼン化合物は、文献未記載の新規化合物であり、例え
ば、ホスホニトリルハライドのオリゴマーとフェノール
類およびＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸基を導入したアル
コールより製造される物質である。ここで、ホスホニト
リルハライドのオリゴマーとしては、例えばホスホニト
リルクロリドの環状トリマー、ホスホニトリルクロリド
の環状テトラマーやこれらの混合物を例示できる。ま
た、フェノール類としては、フェノール、メタ−トリフ
ルオロメチルフェノール等のハロアルコキシフェノー
ル、メタ−メトキシフェノール等のアルコキシフェノー
ル等が例示できる。また、ＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸
基を導入したアルコールとしては、下記式（ｂ）の平均
分子量が、４００から６０００のパーフルオロアルキル
ポリエーテルオリゴマー（アウシモント社 Ｚ誘導体）
を例示できる。 ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ (ｂ) [ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０]
【００１４】本発明の化合物（１）は例えば下記のよう
に製造される。即ち特開昭６２−５３９９６号公報に記
載されているようにアルコール類、フェノール類を予め
ナトリウム等と反応させてアルコラート、フェノラート
としておき、次いでホスホニトリルハライドの環状オリ
ゴマーと反応させることによって製造される。さらに詳
しくは、フェノール類を、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、トルエン等の溶媒に溶解し、フェノー
ル類をすべてフェノラート化するのに要する当量よりは
少ない、好ましくは、８５〜９５％当量の金属ナトリウ
ム、水素化ナトリウムなどの塩基を、これらの塩基がす
べて反応するまで、溶媒の還流温度で反応させて予め、
フェノラートを得る。得られたフェノラートの１５〜２
５％当量、好ましくは１８〜２１％当量のホスホニトリ
ルハライドのシクロトリマーと反応させてアリーロキシ
置換トリシクロホスホニトリルハライドを得る。別に、
ＰＦＰＥの両末端に水酸基を導入したアルコール（以下
「ＰＦＰＥ−ＤＯＨ」と略す）と上記に記載の塩基から
選ばれた塩基を同当量加え、室温から１２０℃、好まし
くは４０〜１００℃で、固体の塩基が目視できなくなる
まで、反応させる。先に得られたアリーロキシ置換トリ
シクロホスホニトリルハライドとアルコラート化された
ＰＦＰＥ−ＤＯＨを、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等の
エーテル系溶媒中で、１日間から１０日間、好ましくは
２日から５日間の間、室温から溶媒の還流温度で反応さ
せる。この反応で得られた反応混合物を、上記の方法で
別途製造したフェノラートを含むエーテル系溶媒溶液中
に加え、室温から溶媒の還流温度、好ましくは還流温度
で、部分的にハロゲンが置換したトリシクロホスホニト
リルが検出されなくなるまで、５日間から１５日間反応
させて、反応を完了させる。反応混合物を数回水洗した
後、脱水・乾燥させて、使用した溶媒を減圧蒸留により
除去する。得られた反応混合物から、未反応のフェノー
ル類、ＰＦＰＥ−ＤＯＨおよびヘキサアリーロキシ置換
トリシクロホスホニトリルが存在している場合には、こ
れらを分子蒸留により、留出除去することによって、上
記化合物（１）が製造される。
に製造される。即ち特開昭６２−５３９９６号公報に記
載されているようにアルコール類、フェノール類を予め
ナトリウム等と反応させてアルコラート、フェノラート
としておき、次いでホスホニトリルハライドの環状オリ
ゴマーと反応させることによって製造される。さらに詳
しくは、フェノール類を、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、トルエン等の溶媒に溶解し、フェノー
ル類をすべてフェノラート化するのに要する当量よりは
少ない、好ましくは、８５〜９５％当量の金属ナトリウ
ム、水素化ナトリウムなどの塩基を、これらの塩基がす
べて反応するまで、溶媒の還流温度で反応させて予め、
フェノラートを得る。得られたフェノラートの１５〜２
５％当量、好ましくは１８〜２１％当量のホスホニトリ
ルハライドのシクロトリマーと反応させてアリーロキシ
置換トリシクロホスホニトリルハライドを得る。別に、
ＰＦＰＥの両末端に水酸基を導入したアルコール（以下
「ＰＦＰＥ−ＤＯＨ」と略す）と上記に記載の塩基から
選ばれた塩基を同当量加え、室温から１２０℃、好まし
くは４０〜１００℃で、固体の塩基が目視できなくなる
まで、反応させる。先に得られたアリーロキシ置換トリ
シクロホスホニトリルハライドとアルコラート化された
ＰＦＰＥ−ＤＯＨを、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等の
エーテル系溶媒中で、１日間から１０日間、好ましくは
２日から５日間の間、室温から溶媒の還流温度で反応さ
せる。この反応で得られた反応混合物を、上記の方法で
別途製造したフェノラートを含むエーテル系溶媒溶液中
に加え、室温から溶媒の還流温度、好ましくは還流温度
で、部分的にハロゲンが置換したトリシクロホスホニト
リルが検出されなくなるまで、５日間から１５日間反応
させて、反応を完了させる。反応混合物を数回水洗した
後、脱水・乾燥させて、使用した溶媒を減圧蒸留により
除去する。得られた反応混合物から、未反応のフェノー
ル類、ＰＦＰＥ−ＤＯＨおよびヘキサアリーロキシ置換
トリシクロホスホニトリルが存在している場合には、こ
れらを分子蒸留により、留出除去することによって、上
記化合物（１）が製造される。
【００１５】本発明の化合物は、例えば記録媒体用潤滑
剤として有用である。
剤として有用である。
【００１６】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、何らこれに限定されるものではない。なお以
下に記載する反応はすべて、アルゴンガス雰囲気で実施
した。
明するが、何らこれに限定されるものではない。なお以
下に記載する反応はすべて、アルゴンガス雰囲気で実施
した。
【００１７】実施例１ 還流冷却管、アルゴンガス導入管、温度計および攪拌機
を備えた２−Ｌ四つ口フラスコに、メタ−トリフルオロ
メチルフェノール２８２.１ｇ（１.７４モル）と乾燥脱
水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル１.２Ｌを入
れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片を３６.５ｇ
（１.５９モル）添加し、ジイソプロピルエーテルが還
流する温度で２日間反応させ、全ての金属ナトリウウム
が消費されたことを確認したのち、反応混合物を攪拌し
ながら、ホスホニトリルクロライドのシクロトリマーを
１０７.７ｇ（０.３１モル）を添加し、還流温度で３日
間反応させて約１３００ｇの反応混合物を得た。この反
応混合物を約５００ｍｌの精製水で５回洗浄したのち、
ジイソプロピルエーテル層を分離し、モレキュラーシー
ブスで脱水後、ジイソプロピルエーテルを減圧下、ロー
タリーエバポレーターで留出除去し、褐色透明液体を得
た。これを（ｉ）とする。
を備えた２−Ｌ四つ口フラスコに、メタ−トリフルオロ
メチルフェノール２８２.１ｇ（１.７４モル）と乾燥脱
水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル１.２Ｌを入
れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片を３６.５ｇ
（１.５９モル）添加し、ジイソプロピルエーテルが還
流する温度で２日間反応させ、全ての金属ナトリウウム
が消費されたことを確認したのち、反応混合物を攪拌し
ながら、ホスホニトリルクロライドのシクロトリマーを
１０７.７ｇ（０.３１モル）を添加し、還流温度で３日
間反応させて約１３００ｇの反応混合物を得た。この反
応混合物を約５００ｍｌの精製水で５回洗浄したのち、
ジイソプロピルエーテル層を分離し、モレキュラーシー
ブスで脱水後、ジイソプロピルエーテルを減圧下、ロー
タリーエバポレーターで留出除去し、褐色透明液体を得
た。これを（ｉ）とする。
【００１８】上記と同様のフラスコに、ＰＦＰＥ−ＤＯ
Ｈ｛上記（１）式中に記載のｐとｑの値の平均値がそれ
ぞれ、１と１０であるアルコール｝１４４.４ｇ（０.１
５１モル）と金属ナトリウムの小片３.５g（０.１５１
モル）を入れ、５０℃から１００℃で１２日間反応させ
て、全ての金属ナトリウムが反応に消費されたことを確
認し、パーフルオロヘキシルメチルエーテル４５０ｇを
添加し、反応物の粘度を低下させた。これに、１５０.
５ｇの（ｉ）をジイソプロピルエーテル１４０ｇに溶解
させた溶液を徐々に滴下し、還流温度で、３日間攪拌し
た後、室温まで放冷した。得られた反応混合物を（ii）
とする。
Ｈ｛上記（１）式中に記載のｐとｑの値の平均値がそれ
ぞれ、１と１０であるアルコール｝１４４.４ｇ（０.１
５１モル）と金属ナトリウムの小片３.５g（０.１５１
モル）を入れ、５０℃から１００℃で１２日間反応させ
て、全ての金属ナトリウムが反応に消費されたことを確
認し、パーフルオロヘキシルメチルエーテル４５０ｇを
添加し、反応物の粘度を低下させた。これに、１５０.
５ｇの（ｉ）をジイソプロピルエーテル１４０ｇに溶解
させた溶液を徐々に滴下し、還流温度で、３日間攪拌し
た後、室温まで放冷した。得られた反応混合物を（ii）
とする。
【００１９】上記（ｉ）の製造と同様の方法で、メタ−
トリフルオロメチルフェノール１９２.７ｇ（１.１９モ
ル）と金属ナトリウムの小片２４.８ｇ（１.０８モル）
から別途製造したメタ−トリフルオロメチルフェノラー
ト１.１９モルとジイソプロピルエーテル７００ｇを含
む溶液中に、上記（ii）の反応混合物の全量をパーフル
オロヘキシルメチルエーテル２３０ｇを用いて定量的に
添加し、溶媒の還流温度で９日間攪拌して反応させた。
この反応混合物中には、メタ−トリフルオロメチルフェ
ノキシ基と塩素原子のみが両方とも混合状態で置換した
ホスホニトリルのシクロトリマー、即ち反応中間体は存
在していないことをキャピラリーガスクロマトグラフィ
ーで確認したのち、反応混合物より、含有している溶媒
を減圧下、ロータリエバポレータで留出除去し、得られ
た残渣をジエチルエーテル２００ｇに溶解させた。この
ジエチルエーテル溶液を、１％の硝酸水溶液２００ｇで
３回洗浄し、さらに精製水２００ｇで４回洗浄した。こ
れらの操作のあと、ジエチルエーテル層をモレキュラー
シーブスで脱水乾燥し、さらにジエチルエーテルを減圧
下ロータリーエバポレーターで蒸発留去し、やや濁りの
ある油状液２２２.６ｇを得た。この反応生成物中に
は、メタ−トリフルオロメチルフェノキシ基が６個置換
したホスホニトリルのシクロトリマー（副生物）と未反
応のＰＦＰＥ−ＤＯＨも含有していることが、キャピラ
リーガスクロマトグラフィーにより確認されたため、拡
散ポンプを装備した分子蒸留装置により、これらの化合
物を分離し、淡黄色透明液体１０ｇ（０.００５モル）
を得た。
トリフルオロメチルフェノール１９２.７ｇ（１.１９モ
ル）と金属ナトリウムの小片２４.８ｇ（１.０８モル）
から別途製造したメタ−トリフルオロメチルフェノラー
ト１.１９モルとジイソプロピルエーテル７００ｇを含
む溶液中に、上記（ii）の反応混合物の全量をパーフル
オロヘキシルメチルエーテル２３０ｇを用いて定量的に
添加し、溶媒の還流温度で９日間攪拌して反応させた。
この反応混合物中には、メタ−トリフルオロメチルフェ
ノキシ基と塩素原子のみが両方とも混合状態で置換した
ホスホニトリルのシクロトリマー、即ち反応中間体は存
在していないことをキャピラリーガスクロマトグラフィ
ーで確認したのち、反応混合物より、含有している溶媒
を減圧下、ロータリエバポレータで留出除去し、得られ
た残渣をジエチルエーテル２００ｇに溶解させた。この
ジエチルエーテル溶液を、１％の硝酸水溶液２００ｇで
３回洗浄し、さらに精製水２００ｇで４回洗浄した。こ
れらの操作のあと、ジエチルエーテル層をモレキュラー
シーブスで脱水乾燥し、さらにジエチルエーテルを減圧
下ロータリーエバポレーターで蒸発留去し、やや濁りの
ある油状液２２２.６ｇを得た。この反応生成物中に
は、メタ−トリフルオロメチルフェノキシ基が６個置換
したホスホニトリルのシクロトリマー（副生物）と未反
応のＰＦＰＥ−ＤＯＨも含有していることが、キャピラ
リーガスクロマトグラフィーにより確認されたため、拡
散ポンプを装備した分子蒸留装置により、これらの化合
物を分離し、淡黄色透明液体１０ｇ（０.００５モル）
を得た。
【００２０】４００ＭＨｚのプロトンＮＭＲにおけるメ
チレンプロトンおよびメタ−トリフルオロメチルフェノ
キシ基に由来する芳香族プロトン比およびＦＴ−ＩＲか
ら得られた物質は、(ＣＦ３Ｃ６Ｈ４Ｏ)５Ｐ３Ｎ３ＯＣ
Ｈ２ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)(ＯＣＦ２)１０ＯＣＦ２Ｃ
Ｈ２ＯＨ〔化合物（１−ａ）〕であり、沸点は、１７０
℃以上／１０ −４ｔｏｒｒ、粘度（動粘度）は１４０ｍ
ｍ２／ｓｅｃ（４０℃）であった。
チレンプロトンおよびメタ−トリフルオロメチルフェノ
キシ基に由来する芳香族プロトン比およびＦＴ−ＩＲか
ら得られた物質は、(ＣＦ３Ｃ６Ｈ４Ｏ)５Ｐ３Ｎ３ＯＣ
Ｈ２ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)(ＯＣＦ２)１０ＯＣＦ２Ｃ
Ｈ２ＯＨ〔化合物（１−ａ）〕であり、沸点は、１７０
℃以上／１０ −４ｔｏｒｒ、粘度（動粘度）は１４０ｍ
ｍ２／ｓｅｃ（４０℃）であった。
【００２１】比較例１ （特開平６−２２００７７公報
記載の化合物） 還流冷却管、アルゴンガス導入管、温度計および攪拌機
を備えた１−Ｌ四つ口フラスコに、Ｃ３Ｆ７Ｏ(ＣＦ２
ＣＦ２Ｏ)２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ４１.３g（０.０８３モ
ル）と乾燥脱水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル
０.５Ｌを入れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片
を１.７３ｇ（０.０７５モル）添加し、５０℃で３日間
反応させ、全ての金属ナトリウムを反応させたのち、ホ
スホニトリルクロライドのシクロトリマーを６.９５ｇ
（０.０２モル）とジイソプロピルエーテル ４０ｍｌを
添加し、６０〜７０℃で２日間反応させた。得られた反
応混合物を（iii）とする。
記載の化合物） 還流冷却管、アルゴンガス導入管、温度計および攪拌機
を備えた１−Ｌ四つ口フラスコに、Ｃ３Ｆ７Ｏ(ＣＦ２
ＣＦ２Ｏ)２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ４１.３g（０.０８３モ
ル）と乾燥脱水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル
０.５Ｌを入れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片
を１.７３ｇ（０.０７５モル）添加し、５０℃で３日間
反応させ、全ての金属ナトリウムを反応させたのち、ホ
スホニトリルクロライドのシクロトリマーを６.９５ｇ
（０.０２モル）とジイソプロピルエーテル ４０ｍｌを
添加し、６０〜７０℃で２日間反応させた。得られた反
応混合物を（iii）とする。
【００２２】上記（iii）と同様の方法で、フェノール
１８.８ｇ（０.１９８モル）と金属ナトリウム ４.１４
ｇ（０.１８モル）をジイソプロピルエーテル２５０ｍ
ｌ中で５日間反応させて、ナトリウムフェノラートのジ
イソプロピルエーテル溶液を得た。この溶液を（iv）と
する。
１８.８ｇ（０.１９８モル）と金属ナトリウム ４.１４
ｇ（０.１８モル）をジイソプロピルエーテル２５０ｍ
ｌ中で５日間反応させて、ナトリウムフェノラートのジ
イソプロピルエーテル溶液を得た。この溶液を（iv）と
する。
【００２３】溶液（iv）の全量を（iii）が入ったフラ
スコ中に、室温下、約５分で投入し、７０℃で１０日間
反応させたのち、反応混合物のジイソプロピルエーテル
溶液を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硝酸水
溶液で４回洗浄し、さらに精製水で６回洗浄した。これ
らの洗浄で得られたジイソプロピルエーテル溶液をモレ
キュラーシーブスで脱水乾燥し、ジイソプロピルエーテ
ルを減圧下ロータリーエバポレータで蒸発留去し、２
３.３ｇの淡黄色液体を得た。
スコ中に、室温下、約５分で投入し、７０℃で１０日間
反応させたのち、反応混合物のジイソプロピルエーテル
溶液を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硝酸水
溶液で４回洗浄し、さらに精製水で６回洗浄した。これ
らの洗浄で得られたジイソプロピルエーテル溶液をモレ
キュラーシーブスで脱水乾燥し、ジイソプロピルエーテ
ルを減圧下ロータリーエバポレータで蒸発留去し、２
３.３ｇの淡黄色液体を得た。
【００２４】４００ＭＨｚのプロトンＮＭＲにおけるメ
チレンプロトンおよびフェノキシ基に由来する芳香族プ
ロトン比およびＦＴ−ＩＲから得られた物質は、｛Ｃ３
Ｆ７Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ｝１.６Ｐ３
Ｎ３(ＯＣ６Ｈ５) ３.４〔化合物（２−ａ）〕であり、
密度は、１.６ｇ／ｃｍ３（１５℃）、粘度（動粘度）
は５０ｍｍ２／ｓｅｃ（４０℃）、表面張力は、２５.
２ｄｙｎｅ／ｃｍ（２５℃）であった。
チレンプロトンおよびフェノキシ基に由来する芳香族プ
ロトン比およびＦＴ−ＩＲから得られた物質は、｛Ｃ３
Ｆ７Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ｝１.６Ｐ３
Ｎ３(ＯＣ６Ｈ５) ３.４〔化合物（２−ａ）〕であり、
密度は、１.６ｇ／ｃｍ３（１５℃）、粘度（動粘度）
は５０ｍｍ２／ｓｅｃ（４０℃）、表面張力は、２５.
２ｄｙｎｅ／ｃｍ（２５℃）であった。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば例えば良好なＣＳＳ耐久
性を有するハードディスク用潤滑剤に使用される化合物
を得ることができる。
性を有するハードディスク用潤滑剤に使用される化合物
を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１０Ｎ 40:18 Ｃ１０Ｎ 40:18 (72)発明者 小林 永芳 兵庫県西宮市芦原町10−33 株式会社松村 石油研究所内 (72)発明者 藤本 理絵 兵庫県西宮市芦原町10−33 株式会社松村 石油研究所内 Ｆターム(参考） 4H050 AB60 4H104 BH14A CH09A LA03 PA16 5D006 AA01 DA03 FA06
Claims (2)
- 【請求項１】 −ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、
から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がラン
ダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有
する、下記の式（１）で表されるホスファゼン化合物。 Ａ−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ( １) ［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここ
で、Ｒは、水素原子、Ｃ１ 〜４のアルキル、Ｃ１〜４の
アルコキシ、Ｃ１〜４のハロアルキル、アリール、置換
アリール、アリールオキシ、置換アリールオキシであ
り、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］ 【化１】 - 【請求項２】 Ｒが、アリールオキシ基である請求項
１に記載のホスファゼン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001056112A JP2002293787A (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | ホスファゼン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001056112A JP2002293787A (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | ホスファゼン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002293787A true JP2002293787A (ja) | 2002-10-09 |
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ID=18916186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001056112A Pending JP2002293787A (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | ホスファゼン化合物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002293787A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004154865A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-06-03 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボール用合金とはんだボール |
| WO2007105437A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-20 | Matsumura Oil Research Corp. | 記録媒体用潤滑剤および磁気ディスク |
| JP2009149835A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-07-09 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤 |
| EP2157117A1 (en) * | 2007-05-15 | 2010-02-24 | MORESCO Corporation | Perfluoropolyether compound, and lubricant and magnetic disk each using the same |
| WO2010027096A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社Moresco | 潤滑剤及び磁気ディスク |
| US7998912B2 (en) | 2009-09-14 | 2011-08-16 | Wd Media, Inc. | Composite lubricant for hard disk media |
| US20120127601A1 (en) * | 2009-03-28 | 2012-05-24 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Lubricant compound for magnetic disk and magnetic disk |
| JP2014047190A (ja) * | 2012-09-03 | 2014-03-17 | Moresco Corp | シクロホスファゼン化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056112A patent/JP2002293787A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004154865A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-06-03 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボール用合金とはんだボール |
| WO2007105437A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-20 | Matsumura Oil Research Corp. | 記録媒体用潤滑剤および磁気ディスク |
| EP2157117A1 (en) * | 2007-05-15 | 2010-02-24 | MORESCO Corporation | Perfluoropolyether compound, and lubricant and magnetic disk each using the same |
| EP2157117A4 (en) * | 2007-05-15 | 2010-05-05 | Moresco Corp | PERFLUORPOLYETHER COMPOUND AND LUBRICANTS AND MAGNETIC PLATE, EACH USING THEREOF |
| JP2009149835A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-07-09 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤 |
| WO2010027096A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社Moresco | 潤滑剤及び磁気ディスク |
| US8679656B2 (en) | 2008-09-05 | 2014-03-25 | Moresco Corporation | Lubricant and magnetic disk |
| US20120127601A1 (en) * | 2009-03-28 | 2012-05-24 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Lubricant compound for magnetic disk and magnetic disk |
| US9558778B2 (en) * | 2009-03-28 | 2017-01-31 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Lubricant compound for magnetic disk and magnetic disk |
| US7998912B2 (en) | 2009-09-14 | 2011-08-16 | Wd Media, Inc. | Composite lubricant for hard disk media |
| JP2014047190A (ja) * | 2012-09-03 | 2014-03-17 | Moresco Corp | シクロホスファゼン化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
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