KR930000464A - 포착성 카보닐 할라이드를 사용한 디아릴 카보네이트의 제조방법 및 그를 위한 반응기 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 금속 산화물/금속 할라이드 가변식 반응기 시스템을 사용하는 본 발명의 이중 단(dual-stage) 반응기의 개략도이다.
제2도는 본 발명의 다층 단일단(multibed single stage) 반응기의 개략도이다.
Claims (16)
- (a) 카보닐 할라이드를 제조하기 위한 반응 조건하의 제1반응 영역에서, 염소, 브롬 및 그의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 할로겐과 일산화탄소를 접촉반응시키는 단계; (b) 상기 제1반응 영역과 연통되어 있는 제2반응 영역에서, 상기 단계(a)에서 제조된 카보닐 할라이드의 최소한 일부와 방향족 히드록시드 또는 그의 혼합물을 접촉 반응시켜 할로겐화 수소와 디아릴 카보네이트를 제조하고, 상기 디아릴 카보네이트의 최소한 일부를 회수하는 단계; (c) 상기 제2반응 영역과 연통되어 있는 제3반응 영역에서, 상기 단계(b)에서 제조된 할로겐화 수소의 최소한 일부와 금속 산화물을 접촉반응시켜 물 및 상승하는 금속 할라이드를 생성시키는 단계; (d) 상기 제3반응 영역에서 금속 산화물이 완전히 소모된 때 또는 완전히 소모되기 전에, 상기 제3반응 영역에서 산화제를 도입하여 금속 산화물을 재생시키고 할로겐을 방출시키는 단계; 및 (e) 방출된 할로겐을 단계(a)로 재순환시키는 단계를 포함하는, 금속 할라이드/유리 할로겐 시스템을 사용하여 할로겐화 수소를 포착 재순환시키면서 방향족 히드록시드 또는 방향족 히드록시드와 그의 아릴 할로포르메이트 유도체의 혼합물, 일산화탄소 및 산화제로부터 디아릴 카보네이트를 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제3반응 영역이 각각 금속 할라이드 또는 금속 산화물 반응물을 포함하고, 연속적으로 작동하여 일차적으로 금속 산화물 반응물이 할로겐화 수소에 노출될 때 물과 금속 할라이드를 생성한 후, 재생시 금속 할라이드 반응물이 산화제에 노출될 때 할로겐을 생성할 수 있는 두개의 이중 베드(twin bed)중 하나를 교대로 사용하는 방법.
- 제2항에 있어서, 작동 중에 하나의 이중 베드가 할로겐화 수소를 수용하고 물을 생성하면서 나머지 하나의 이중 베드가 산화제를 수용하고 할로겐을 생성하는 연속적 방법.
- 제3항에 있어서, 한 베드에서 금속 산화물이 거의 완전히 소모되어 갈때, 할로겐화 수소와 산화제의 흐름이 반대쪽 베드로 전환되어 그 이중 베드의 작동을 반전시키는 연속적 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화제가 산소 함유 기체를 포함하는 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 산화제가 공기인 방법.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 산화제가 50 내지 500℃의 온도에서 금속 할라이드와 접촉되는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물이 산화 제2구리인 방법.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 방향족 히드록시 화합물이 페놀, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F이고, 상기 카보닐 할라이드가 포스겐인 방법.
- 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 할로겐화 수소가 100 내지 500℃의 온도에서 금속 산화물과 접촉되는 방법.
- 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 할로겐이 250 내지 450℃의 온도에서 일산화탄소와 접촉되는 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 할로겐이 활성탄 촉매의 존재하에 일산화탄소와 접촉되는 방법.
- (1) 카보닐 할라이드를 제조하기 위한 반응 조건하에서, 염소, 브롬 및 그의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 할로겐과 일산화탄소를 접촉시키는데 적합한 제1반응 영역; (2) 상기 제1반응 영역과 연통되어 있으며, 상기 제1반응 영역에서 제조된 카보닐 할라이드의 최소한 일부와 방향족 히드록시드 또는 방향족 히드록시드와 그의 할로포르메이트 유도체의 혼합물을 접촉 반응시켜 할로겐화 수소와 디아릴 카보네이트를 제조하는데 적합하고, 상기 디아릴 카보네이트의 최소한 일부를 회수하는데 적합한 제2반응 영역; 및 (3) 상기 제2반응 영역과 연통되어 있으며, 상기 제2반응 영역에서 제조된 할로겐화 수소의 최소한 일부와 금속 산화물 화합물을 접촉반응시켜 물 및 상응하는 금속 할라이드를 생성시키는데 적합한 제3반응 영역을 포함하는, 제1항의 방법에 따라 디아릴 카보네이트를 제조하기에 적합한 반응기 시스템.
- 제13항에 있어서, 다층 단일단(multibed single stage) 반응기인 반응기 시스템.
- 제13항에 있어서, 이중단(dual stage) 반응기인 반응기 시스템.
- (1) 카보닐 할라이드를 제조하기 위한 반응 조건하에서, 염소, 브롬 및 그의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 할로겐과 일산화탄소를 접촉시키는데 적합한 제1반응 영역; (2) 상기 제1반응 영역과 연통되어 있으며, 상기 제1반응 영역에서 제조된 카보닐 할라이드의 최소한 일부와 방향족 히드록시드 또는 방향족 히드록시드와 그의 할로포르메이트 유도체의 혼합물을 접촉 반응시켜 할로겐화 수소와 디아릴 카보네이트를 제조하는데 적합하고, 상기 디아릴 카보네이트의 최소한 일부를 회수하는데 적합한 제2반응 영역; 및 (3) 상기 제2반응 영역과 연통되어 있으며, 상기 제2반응 영역에서 제조된 할로겐화 수소의 최소한 일부와 금속 산화물 화합물을 접촉반응시켜 물 및 상응하는 금속 할라이드를 생성시키는데 적합한 제3반응 영역을 포함하는 반응기 시스템의 디아릴 카보네이트를 제조하기 위한 용도.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
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