KR920700232A - 글리코사미노글리칸 염류, 그 제조방법 및 이를 함유하는 제약 조성물 - Google Patents

글리코사미노글리칸 염류, 그 제조방법 및 이를 함유하는 제약 조성물

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Abstract

내용 없음

Description

글리코사미노글리칸 염류, 그 제조방법 및 이를 함유하는 제약 조성물.
내용없음

Claims (13)

  1. 글리코사미노글리칸의 하기 식(Ⅰ)의 양이온과의 염.
    상기식에서, R1, R2, R3및 R4는 서로 같거나 다른 것으로서, 각각 수소, 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 아릴킬기이거나, 또는 R1및 R2와 R3및 R4는 각각 이들이 결합하고 있는 질소 원자와 함께 임의로 다른 헤테로원자를 함유하는 5원 또는 6원 헤테로시클로고리를 형성하고, R5및 R6는 서로 같거나 다른 것으로서, 각각 수소, C1－C4알킬 또는 아릴기이며, R7및 R8은 서로 같거나 다른 것으로서, 각각 수소 또는 C1－C4알킬기이고, n 및 m은 서로 같거나 다른 1 내지 4의 정수이며, X는 다음 기들 중의 하나를 나타내고,
    여기서, R9및 R10은 수소 또는 C1－C4알킬기이고, p는 1 내지 6의 정수이며, q는 1 내지 4의 정수이고, r은 1 내지 5의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, 글리코마사미노글리칸이 다음 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염.
    (a) 분별되지 않은 헤파린; 추출원(돼지, 소 또는 양의 장관 점막, 폐 등)의 성질과 추출 및 정제 방법에 무관함; (b) 임의의 분자량 및 음전하 값을 갖는 헤파린 분획물 및 단편, 제조 및 단리 방법에 무관함; (c) 추가로 황산화 조작을 거친 〔“과황산된(supersulfatated”〕상기의 헤파린 분획물 및 단편; (d) 황산 및 과황산화된 데르마탄, 그의 단편 또는 분획물; (e) 황산 및 과황산화된 헤파린, 그의 단편 및 분획물, (f) 헤파린올 N－탈황산화(10－100%)시키고 이어서 헤미숙시닐화 또는 아실화제로 아실화시킴으로써 얻어진 상이한 분자량을 갖는 변성 헤파린류.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 글리코사미노글리칸의 음이온 관능기들의 일부를 제약학상 허용되는 무기 또는 유기 양이온으로 중화시키는 것을 특징으로 하는 염.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 글리코사미노글리칸의 음이온 관능기에 대해서 과량으로 존재하는 양이온 관능기들을 제약학상 허용되는 무기 또는 유기 음이온으로 중화시키는 것을 특징으로 하는 염.
  5. 제1항에 있어서, 식(Ⅰ)의 양이온과 무기 또는 유기산의 음이온과의 염.
  6. 하기 식(Ⅰa)의 염기.
    상기 식에서, R1－R6, X, m 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같다.
  7. 제6항에 있어서,
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 에틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 2; R1－ N － R2= R3－ N － R4=피페리딜
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 에틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 에틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=카르보네이트(－O－CO－O－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 1; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 옥타데실
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=에스테르(－CO－O－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 옥타데실
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 에틸
    X=아미드(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 옥타데실
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=우레아(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 헥실
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 2; R1= R2= R3= R4= 옥타데실
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 메틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 3; R1= R2= R3= R4= 부틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 에틸
    X=우레탄(－CO－NH－); n = m = 4; R1= R2= R3= R4= 부틸
    인 식(Ⅰa)의 화합물 및 그의 다음 군 중에서 선택된 글리코사미노 글리칸과의 대응하는 염.
    (a) 분별되지 않은 헤파린; 추출원(돼지, 소 또는 양의 장관, 전막, 폐 등)의 성질과 추출 및 정제 방법에 무관함; (b) 임의의 분자량 및 음전하 값을 갖는 헤파린 분획물 및 단편, 제조 및 단리 방법에 무관함; (c) 추가로 황산화 조작을 거친〔“과황산된(supersulfatated”〕상기의 헤파린 분획물 및 단편; (d) 황산 및 과황산화된 데르마탄, 그의 단편 또는 분획물; (e) 황산 및 과황산화된 헤파린, 그의 단편 및 분획물, (f) 헤파린올 N－탈황산화(10－100%)시키고 이어서 헤미숙시닐화 또는 아실화제로 아실화시킴으로써 얻어진 상이한 분자량을 갖는 변성 헤파린류.
  8. 제6항에 있어서, R5및 R6이 수소이고, X가 O－CO－O기이며, n = m이 2, 3 또는 4이고, R1, R2, R3및 R4는 서로 동일한 것으로서 n－부틸 또는 n－헥실기인 식(Ⅰa)의 화합물 및 그의 분별되지 않은 헤파린 및 헤파린 분획물 중에서 선택된 글리코사미노글리칸과의 염.
  9. 제1항, 제5항, 제7항 또는 제8항 중 어느 하나의 항에 의한 염을 활성 성분으로하는 제약 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 경구 투여 또는 직장내 투여에 적합한 제약 조성물.
  11. 디알킬카르보네이트, 에스테르, 우레아, 우레탄, 디카르복실산과 디올의 디에스테르, 디카르복실산의 디아미드 및 에스테르－아미드를 제조하는데 통상 사용되는 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 제6항의 기재의 식(Ⅰa)의 염기의 제조 방법.
  12. 수지상에서의 여과에 의해 통상적으로 글리코사미노글리칸을 염화하는 금속 이온으로부터 전부 또는 일부가 유리된 글리코사미노글리칸을 염기 또는 R7및 R8이 C1－C4알칼인 식(Ⅰ)의 양이온의 수산화물과 수용액중에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 제1항, 제5항, 제7항 또는 제8항 기재의 염의 제조방법.
  13. 글리코사미노글리칸 나트륨염의 수용액 및 식(Ⅰ)의 양이온의 무기산과의 염의 수용액을 이중 여과시키는 것을 특징으로 하는 제1항, 제5항, 제7항 또는 제8항 기재의 염의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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