KR920018875A - 열 처리 장치 - Google Patents

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마사하루 아베
신고 와따나베
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아오이 죠이찌
가부시끼가이샤 도시바
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Abstract

내용 없음

Description

열 처리 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 1실시예에 관한 열처리 장치를 제2도의 A-A선에 따라 파단한 종단면도.
제2도는 제1도의 B-B선을 따라 판단한 횡단면도.
제3도는 제1도에 도시한 버퍼판의 평면도.

Claims (20)

  1. 내부에 복수의 피처리체(18)를 수납하는 반응관(10)과, 적어도 상기 반응관(10)의 일부를 둘러싸서 형성된 가열 수단(24)을 가지는 열처리장치에 있어서, 상기 반응관(10)은 적어도 일부가 상기 가열수단(24)에 둘러싸여진 제1구성부(10a)와, 적어도 일부가 상기 가열수단(24)에서 돌출한 제2구성부(10b)로 구성되고, 상기 제1구성부(10a)는 상기 제2구성부(10b)보다 내열온도가 높고, 양호한 열전도성을 가지는 부재로 형성되어 있는 것을 특징으로하는 열 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 구성부(10a)와 제2 구성부(10b)와의 접합부를 감압하고, 이 접합부에 침입하는 가스를 외부로 배치하기 위한 배기시일 수다(34,36)을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 배기시일 수단(34,36)은 상기 접합부에 형성된 환상공간(34)과, 이 환상공간에 연통하는 배기관(36)을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1구성부(10a)는 탄화실리콘(SiC)으로 형성되고, 상기 제2 구성부(10b)는 석영(SiO2)으로 형성되어 있는 것을 특징으로하는 열 처리장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1구성부(10a)는 SiC의 내면 코팅이 시행되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2 구성부(10b)는 하면 개구를 가지고, 이 하면 개구를 개폐하는 저부덮개(38)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2구성부(10b)와 상기 저부덮개(38)와의 접합부를 감압하고, 이 접합부에 침입하는 가스와 외부로부터 침입하는 외기를 외부로 배기하기 위한 제2배기시일 수단(40,42)을 가지고, 이 제2배기시일 수단(40,42)은 상기 접합부에 형성된 환상공간(40)과, 이 환성공간(40)에 연통하는 제2 배기관(42)을 포함하는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 반응관(10)에 열처리용의 프로세스가스를 보내기 위한 가스도입수단(12)을 가지고, 이 가스도입 수단(12)은 상기 반응관(10)의 하부를 관통하여 반응관(10)내에 돌출한 선단부를 가지는 관통부(12a)와, 이 관통부(12a)의 선단부에 분리 가능하게 부착되고, 상기 반응관(10)의 상부까지 신장하는 신장부(12b)를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 가스도입수단(12)의 관통부(12a)는 석영(SiO2)으로 형성되고, 상기 신장부(12b)는 탄화실리콘(SiC)으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 가스도입수단(12)의 신장부(12b)는 길이방향을 따라 형성된 복수의 가스도입구멍(12c)을 가지는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  11. 내부에 복수의 피처리체(18)를 수납하는 반응관(10)과, 상기 반응관(10)을 둘러싸서 형성된 가열수단(24)과, 상기 반응관(10)내에 열처리용의 프로세스가스를 보내기 위한 가스도입수단(12)을 가지는 열처리장치에 있어서, 상기 가스도입 수단은 상기 반응관(10)의 하부를 관통하여 반응관(10)내에 돌출한 선단부를 가지는 관통부(12a)와, 이 관통부(12a)의 선단부에 분리 가능하게 부착되고, 상기 반응관(10)의 상부까지 신장하는 신장부(12b)를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 가스도입수단(12)의 관통부(12a)는 석영(SiO2)으로 형성되고, 상기 신장부(12b)는 탄화실리콘(SiC)으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 가스도입수단(12)의 신장부(12b)는 길이방향을 따라 형성된 복수의 가스도입구멍(12c)을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  14. 제11항에 있어서, 상기 반응관(10)은 적어도 일부가 상기 가열수단(24)에 둘러싸여진 제1구성부(10a)와, 적어도 일부가 상가 가열수단(24)에서 돌출한 제2구성부(10b)로 구성되고, 상기 제1구성부(10a)는 상기 제2 구성부(10b)보다 내열온도가 높고, 양호한 열전도성을 가지는 부재로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 제1구성부(10a)와 제2구성부(10b)와의 접합부를 감압하고, 이 접합부에 침입하는 가스를 외부로 배기하기 위한 배기시일수단(34,36)를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 배기시일수단(34,36)은 상기 접합부에 형성된 환상공간(34)과, 이 환상공간(34)에 연통하는 배기관(36)을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  17. 제11항에 있어서, 상기 제1구성부(10a)는 탄화실리콘(SiC)으로 형성되고, 상기 제1 구성부(10b)는 석영(SiO2)으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제1 구성부재(10a)는 SiC의 내면 코팅이 시행되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  19. 제11항에 있어서, 상게 제2구성부(10b)는 하면 개구를 가지고, 이 하면 개구를 개폐하는 저부덮개(38)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 열 처리 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 제2구성부(10b)와 상기 저부덮개(38)와의 접합부를 감압하고, 이 접합부에 침입하는 가스와 외부에서 칩입하는 외기를 외부로 배기하기 위한 제2 배기 시일수단(40,42)을 가지고, 이 제2 배기시일수단(40,42)은 상기 접합부에 형성된 환상공간(40)과, 이 환상공간(40)에 연통하는 제2배기관(42)를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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