KR930019859A - 화학기상 증착장치 - Google Patents

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KR930019859A
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안용철
이길광
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김광호
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating

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Abstract

본 발명은 화학기상중착장치를 개시한다.
본 발명은 상면에 투광창이 설치되고 내부에 턴테이블 설치된 제1챔버와 상기 제1챔버를 감싸며 상기 제1챔버를 가열하는 가열수단이 마련된 제2챔버와 상기 제2챔버내에 설치되어 상기 턴테이블상에 설치된 제품을 열처리하는 열처리수단과, 상기 가스혼합 튜브로 부터 가스를 제1챔버내에 복수의 가스공급관을 구비하여 된 것에 특징이 있으며, 이는 금속막 또는 절연막의 증착과 열처리를 동시에 수행할 수 있는 이점을 가진다.

Description

화학기상 증착장치.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 화학기상 증착장치를 도시한 입단면도.
제3도는 제2도에 도시된 A-A′선 단면도.

Claims (4)

  1. 화학기상 증착장치에 있어서, 상면에 투광창이 설치되고 내부에 턴테이블(12) 설치된 제1챔버(11)와 상기 제1챔버(11)를 감싸며 상기 제1챔버(11)를 가열하는 가열수단이 마련된 제2챔버(16)와 사이 제2챔버(16)내에 설치되어 상기 턴테이블 (12)상에 설치된 제품을 열처리하는 열처리수단(30)과, 상기 가스혼합 튜브(17)로 부터 가스를 제1챔버(11)내에 복수의 가스공급관(18)을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 열처리수단(30)이 아크램프(31)인 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 가스배출구(19)가 상기 가스공급관(18)과 대향되는 턴테이블(12)의 상면으로부터 수직하방으로 형성된 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2챔버(16)에 고온계(50)를 설치하여 제2가열수단에 의한 열처리 진행온도를 측정할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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